JP2012057065A - 封止用粘着シート、電子デバイス、及び有機デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、長時間の駆動や屋外での駆動環境によっても粘着剤層が劣化せず、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスを提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも片面にガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、前記粘着剤層が、第１成分として重量平均分子量３０万〜５０万のポリイソブチレン系樹脂（Ａ）、第２成分として重量平均分子量１０００〜２５万のポリブテン樹脂（Ｂ）、第３成分としてヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及び／又はヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を含み、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、ポリブテン樹脂（Ｂ）を１０〜１００質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。
【選択図】なし

Description

本発明は、封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスに関する。

近年、有機エレクトロニクスは、塗布や印刷プロセスを用いて、フレキシブルなプラスチック基板上に、室温に近い低温でディスプレイ、回路、電池等を形成できる技術として注目されており、さまざまな有機デバイス、液晶ディスプレイ、電子ペーパー、薄膜トランジスタ等の研究開発が進められている。
例えば、有機デバイスで用いられる有機ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に有機電荷輸送層や有機発光層を積層させた有機層を設けたものであり、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。また、有機デバイスは、プラスチックフィルムを基板として用いることで、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現するディスプレイとしても期待されている。

ところで、有機ＥＬ素子は、一定時間駆動した場合、発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が初期に比べて劣化するという問題がある。この問題の原因としては、有機ＥＬ素子内に侵入した酸素や水蒸気等による電極の酸化や有機物の変性、駆動時の熱による有機材料の酸化分解等が考えられる。
また、構造体の界面が剥離する現象も頻繁に発生する。その現象は、酸素や水蒸気等の影響や、駆動時の発熱により高温下に曝されると、各構成要素の熱膨張率の違いにより構造体の界面で応力が発生することが原因と考えられる。

上記問題を解決するために、有機ＥＬ素子を封止し、酸素や水蒸気との接触を抑制するため、例えば、ガラス基板上に形成された有機ＥＬ素子に対して耐湿性を有する光硬化性樹脂で覆い、かつ光硬化性樹脂層の上部に透水性の小さい基板を固着させる方法が開示されている（特許文献１参照）。また、対向する透明基板をフリットガラスからなるシール材で封止する方法（特許文献２参照）、基板とシールド材によって気密空間を形成する際に、両者をカチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤で接着する方法（特許文献３参照）、互いに対向する２つの電極間に発光層を有する積層構造体の外表面に絶縁性無機化合物からなる保護層を設け、その保護層の外側に高分子フィルムからなるシールド層を設けることで、有機ＥＬ素子を封止すると接着層により形成された封止フィルムにより、有機ＥＬ素子を封止する方法（特許文献４参照）等が開示されている。
また、近年、有機ＥＬ素子に対して、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現するために、ガラス板に代えてプラスチックフィルムを用いて封止する方法について検討されている。例えば、防湿性高分子フィルムと接着層から形成された封止フィルムを有機ＥＬ素子の外表面上に被覆する方法（特許文献５参照）や、イソブチレン樹脂を含む接着性封止用組成物フィルムにより有機ＥＬ素子を封止する方法（特許文献６参照）、有機ＥＬ素子の基板上に光硬化性樹脂層による平滑な一次膜を形成する方法（特許文献７参照）等が挙げられる。

特開平５−１８２７５９号公報 特開平１０−７４５８３号公報 特開平１０−２３３２８３号公報 特開平５−８９９５９号公報 特開平５−１０１８８４号公報 特表２００９−５２４７０５号公報 特許第４４１９０１２号公報

しかしながら、従来のプラスチックフィルムを用いた上記方法では、水蒸気や酸素等を透過しやすく、有機ＥＬ素子等の素子の劣化を起こしやすいという問題を有している。また、長時間の駆動や屋外での駆動環境から、高温下又は紫外線照射下に曝されるころにより、接着層自体が劣化し、それに伴い封止している有機ＥＬ素子等の素子の特性も劣化するという問題を有している。
本発明は、水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、紫外線照射に曝された場合においても、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスを提供することを目的とする。

本発明者らは、基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層を有する封止用粘着シートであって、粘着剤層が特定の樹脂及び添加剤を含む粘着剤組成物からなる封止用粘着シートが上記課題を解決しうることを見出した。
すなわち、本発明は、下記［１］〜［７］を提供するものである。
［１］基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、前記粘着剤層が、第１成分として重量平均分子量３０万〜５０万のポリイソブチレン系樹脂（Ａ）、第２成分として重量平均分子量１０００〜２５万のポリブテン樹脂（Ｂ）、第３成分としてヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及び／又はヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を含み、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、ポリブテン樹脂（Ｂ）を１０〜１００質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。
［２］４０℃、相対湿度９０％における水蒸気透過率が、０．５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下である、上記［１］に記載の封止用粘着シート。
［３］ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）が、３級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤である、上記［１］又は［２］に記載の封止用粘着シート。
［４］ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）が、ヒンダードフェノール基のべータ位が２つともターシャリーブチル基で置換されたヒンダードフェノール系酸化防止剤である、上記［ｌ］〜［３］のいずれか１項に記載の封止用粘着シート。
［５］電子デバイスに用いられる、上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の封止用粘着シート。
［６］上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の封止用粘着シートを具備する、電子デバイス。
［７］少なくとも一対の対向する電極と該電極間に配置される有機層とを有する構造体、及び該構造体の上部、下部、及び／又は周囲に配置された［１］〜［４］のいずれか１項に記載の封止用粘着シートを具備する、有機デバイス。

本発明の封止用粘着シートは、水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、紫外線照射に曝された場合においても、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる。そのため、本発明の封止用粘着シートは、電子デバイス、有機デバイスの封止用の部材として好適であり、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスは、長時間の駆動や屋外での駆動環境によっても、素子の特性の劣化を抑制しうる。

本発明の封止用粘着シートの構成の一例を示す図である。 本発明の封止用粘着シートを具備する有機デバイスの一例を示す図である。

本発明の封止用粘着シートは、基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層を有する。
図１は、本発明の封止用粘着シートの構成の一例を示す図である。本発明の封止用粘着シートは、少なくとも、基材、ガスバリア層、粘着剤層を有するが、積層する順序は特に限定されない。例えば、図１の（Ａ１）のように、基材２の片面にガスバリア層３を積層し、そのガスバリア層３の上に粘着剤層４が積層されるような封止用粘着シート１であってもよい。他に、図１の（Ａ２）の封止用粘着シート１ａのように、基材２の片面にガスバリア層３を積層し、基材２のガスバリア層３が積層された面とは反対の面に、粘着剤層４を形成してもよい。
また、図１の（Ｂ）のように、基材２の片面にガスバリア層３、粘着剤層４ａを積層した上で、反対側の基材に粘着剤層４ｂを設けて、両面に粘着剤層を有する封止用粘着シート１ａとすることもできる。
さらに、図１の（Ｃ）のように、２つのガスバリア層３ａ、３ｂに対し、粘着剤層４ａを介して積層した両面に粘着剤層を有する封止用粘着シート１ｂとしてもよい。この封止用粘着シート１ｂは、粘着剤層４ａが２つのガスバリア層３ａ、３ｂを接着するだけでなく、外部から衝撃が加わった場合に、衝撃を吸収し、ガスバリア層３ａ、３ｂを保護する役割も担うことができる。
なお、図１には示してないが、基材、ガスバリア層、粘着剤層以外の「その他の層」を設けてもよい。その他の層が積層される位置は、特に限定されない。
以下、本発明の封止用粘着シートを構成する（１）粘着剤層、（２）基材、（３）ガスバリア層、（４）その他の層について説明する。

〔（１）粘着剤層〕
粘着剤層は、後述の基材、ガスバリア層、又はその他の層の上に積層されるが、基材に対して、片面若しくは両面に有していてもよい。

本発明の粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、第１成分として重量平均分子量３０万〜５０万のポリイソブチレン系樹脂（Ａ）、第２成分として重量平均分子量１０００〜２５万のポリブテン樹脂（Ｂ）、第３成分としてヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及び／又はヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を含む。
本発明の粘着剤組成物は、これら特定の樹脂を含むため、形成される粘着剤層の水蒸気透過率が非常に低く、高温下又は紫外線照射下での耐久性にも優れている。
なお、本発明の粘着剤組成物は、これら特定の樹脂の他に、その他の樹脂及び添加剤を含んでもよい。以下、本発明の粘着剤組成物の含まれる（Ａ）〜（Ｄ）成分、及びその他の樹脂及び添加剤について説明する。

＜ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）＞
ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）（以下「樹脂（Ａ）」ともいう）は、主鎖又は側鎖にポリイソブチレン骨格を有する樹脂であり、下記構成単位（ａ）を有する樹脂である。

樹脂（Ａ）としては、例えば、イソブチレンの単独重合体であるポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレン、イソブチレンとｎ−ブテン、イソブチレンとブタジエンの共重合体、これら共重合体を臭素化又は塩素化したハロゲン化共重合体等が挙げられる。なお、樹脂（Ａ）が共重合体の場合、イソブチレンからなる構成単位が、全モノマーの中で一番多く含まれているものとする。

樹脂（Ａ）の合成方法としては、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス酸触媒の存在下で、イソブチレン等のモノマー成分を重合する方法が挙げられる。また、樹脂（Ａ）は、市販品も使用することもできる。市販品としては、Ｖｉｓｔａｎｅｘ（Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．製）、Ｈｙｃａｒ（Ｇｏｏｄｒｉｃｈ社製）、Ｏｐｐａｎｏｌ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。これらの樹脂（Ａ）は、単独で又は２種以上を併用して用いてもよい。

樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、水蒸気透過率を低下させ、凝集力を向上させる観点から、３０万〜５０万であるが、好ましくは３２万〜４８万、より好ましくは３３万〜４５万である。重量平均分子量が３０万より小さいと、粘着剤組成物の凝集力が十分に得られず、被着体を汚染する可能性がある。また、５０万より大きくなると、粘着剤組成物の凝集力が高くなりすぎて、柔軟性や流動性が低くなり、被着体との濡れが十分に得られ難い。また、粘着剤組成物を調製する際に、分子量が高すぎると溶媒に対する溶解性が低下する場合がある。
なお、本願でいう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定されるポリスチレン換算の値である（以下の記載においても同様）。

＜ポリブテン樹脂（Ｂ）＞
ポリブテン樹脂（Ｂ）（以下「樹脂（Ｂ）」ともいう）は、長鎖状炭化水素の分子構造を持った共重合物質である。樹脂（Ｂ）は、樹脂（Ａ）と良好に相溶し、適度に樹脂（Ａ）を可塑化させることで、被着体に対する濡れ性を高め、粘着物性、柔軟性、保持力等を向上させることができる。
樹脂（Ｂ）としては、ポリブテン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体エラストマー、エチレン・プロピレン・１−ブテン共重合体エラストマー、プロピレン・１−ブテン共重合体エラストマー、エチレン・１−ブテン−非共役ジエン共重合体エラストマー、エチレン・プロピレン・１−ブテン−非共役ジエン共重合体エラストマー等のエチレンプロピレンゴム等が挙げられる。
これらの中でも、樹脂（Ａ）と良好に相溶し、適度に樹脂（Ａ）を可塑化させ、柔軟性や流動性を高くさせる観点から、ポリブテン共重合体が好ましい。また、ポリブテン共重合体としては、イソブテン、１−ブテン、２−ブテンのうち少なくとも２つを共重合させたものが挙げられるが、イソブテン・１−ブテン共重合体がより好ましい。

樹脂（Ｂ）の合成方法としては、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス酸触媒の存在下で、樹脂（Ｂ）を構成するモノマー成分を重合する方法が挙げられる。
また、樹脂（Ｂ）は、市販品も使用することもできる。市販品としては、例えば、出光ポリブテン（出光興産社製）、ニッサンポリブテン（日本油脂社製）、日石ポリブテン（新日本石油社製）等が挙げられる。これらの樹脂（Ｂ）は、単独又は２種以上を併用して用いてもよい。

樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、樹脂（Ａ）と良好に相溶し適度に樹脂（Ａ）を可塑化させ、粘着剤層の水蒸気透過率等の物性に影響を与えない観点から、１０００〜２５万であるが、好ましくは１２００〜２２万、より好ましくは１５００〜２０万である。
重量平均分子量が１０００より小さいと、樹脂（Ｂ）が低分子成分として分離して被着体を汚染したり、高温下で発生するアウトガスが増加する等、物性に悪影響を及ぼす恐れがある。一方、２５万より大きいと、樹脂（Ａ）を十分な可塑化させることができず、被着体との濡れが十分に得られ難い。

ポリブテン樹脂（Ｂ）の含有量は、粘着力、凝集力、及び水蒸気透過率とのバランスの観点から、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１０〜１００質量部であるが、好ましくは１５〜１００質量部、より好ましくは２５〜１００質量部である。
１０質量部未満であると、樹脂（Ａ）を十分に可塑化させることができず、被着体との濡れが十分でないため好ましくない。一方、１００質量部を超えると、凝集力が低下すると共に、紫外線照射に対する耐久性が劣るため好ましくない。

＜ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）＞
本発明では、光安定剤として、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）（以下「光安定剤（Ｃ）」ともいう）を用いる。ヒンダードアミン系光安定剤は、１分子中に下記式（ｃ）で表わされる基（ヒンダードアミン基）を少なくとも１つ有する。

式（ｃ）中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
１分子中に式（ｃ）で表わされる基が複数あるときは、複数の基においてＲ¹は同一であっても異なっていてもよい。

光安定剤（Ｃ）としては、例えば、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ、ポリ［｛６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、シクロヘキサンと過酸化Ｎ−ブチル２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン−２，４，６−トリクロロ１，３，５−トリアジンとの反応生成物と２−アミノエタノールとの反応生成物、デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステル、１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジル）セバケート及びメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート（混合物）、Ｎ，Ｎ’、Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジル）セバケート及びメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート（混合物）、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。

これらの中でも、光安定剤としての性能に優れ、粘着剤組成物の紫外線に対する耐久性を向上させるという観点から、式（ｃ）中のＲ¹がアルキル基である３級のヒンダードアミン基であることが好ましい。３級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤は、特に光安定剤としての性能が優れている。
このような光安定剤（Ｃ）としては、例えば、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジル）セバケート及びメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート（混合物）、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。
なお、これらの光安定剤（Ｃ）は、単独又は２種以上を併用して用いてもよい。

光安定剤（Ｃ）の含有量は、光安定剤としての性能を発揮して粘着剤組成物の紫外線に対する耐久性を向上させる観点から、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．２５〜１．０質量部、より好ましくは０．３〜０．９質量部、更に好ましくは０．４〜０．８質量部である。光安定剤（Ｃ）の含有量が０．２５質量部以上であれば、粘着剤組成物の耐久性を十分に向上させることができ、１．０質量部以下であれば、他の成分と分離してしまうことも抑制できる。

＜ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）＞
本発明では、酸化防止剤として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）（以下「酸化防止剤（Ｄ）」ともいう）を用いる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、１分子中に下記式（ｄ）で表わされる基（ヒンダードフェノール基）を少なくとも１つ有する。

式（ｄ）中、Ｒ²、Ｒ³は、各々、水素原子、直鎖状アルキル基、又は分枝状アルキル基を表す。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。分枝状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基等が挙げられる。
１分子中に式（ｄ）で表わされる基が複数あるとき、Ｒ²及びＲ³は、複数の基において、同一であっても異なっていてもよい。

酸化防止剤（Ｄ）としては、例えば、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、イソオクチル（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）１，３，５−トリアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、イソオクチル（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。

これらの中でも、酸化防止剤（Ｄ）は、粘着剤組成物の高湿熱に対する耐久性を向上させるという観点から、式（ｄ）中のＲ²及びＲ³が分枝状アルキル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく、ヒンダードフェノール基のベータ位が２つともターシャリーブチル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤がよりことが好ましい。ヒンダードフェノール基のベータ位が２つともターシャリーブチル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤は、本発明のような長時間の駆動や屋外での駆動環境下で用いる場合において、特に酸化防止剤としての性能に優れている。
このような酸化防止剤（Ｄ）としては、例えば、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）１，３，５−トリアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、イソオクチル（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。なお、酸化防止剤（Ｄ）の市販品としては、ヨシノックスＢＨＴ（吉富ファインケミカル社製）、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０等が挙げられる。
これらの酸化防止剤（Ｄ）は、単独又は２種以上を併用して用いてもよい。

酸化防止剤（Ｄ）の含有量は、粘着剤組成物の高湿熱に対する耐久性を向上させる観点から、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．２５〜１．０質量部、より好ましくは０．３〜０．９質量部、更に好ましくは０．４〜０．８質量部である。酸化防止剤（Ｄ）の含有量が０．２５質量部以上であれば、粘着剤組成物の耐久性を十分に向上させることができ、１．０質量部以下であれば、他の成分と分離してしまうことも抑制できる。本発明の粘着剤組成物は、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及びヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）の少なくともいずれかを含んでいる。また、用途に応じて併用して用いてもよい。

＜その他の樹脂＞
本発明の粘着剤組成物は、上記（Ａ）〜（Ｄ）の他、その他の樹脂として、環状オレフィン系重合体（Ｅ）（以下「重合体（Ｅ）」ともいう）を含むことが好ましい。重合体（Ｅ）は、塗工時の粘度の調製、可塑性効果による柔軟性の向上、濡れ性向上による初期粘着力の向上、凝集力の増大等において有用であり、水蒸気透過率の低減効果も有する。
重合体（Ｅ）は、環状オレフィン系単量体に由来する繰り返し単位を含有する。環状オレフィン系単量体の結合様式は、主鎖中に環状構造を導入しうるものであればとくに限定されず、該単量体の炭素−炭素不飽和結合を重合したもの、環状共役ジエンを付加重合したもの等が挙げられる。重合体（Ｅ）としては、ノルボルネン環を有する脂環族系単量体を付加重合させた重合体、環状オレフィン以外の共重合可能な単量体と共重合させた重合体、ノルボルネン環を有する脂環族系単量体を開環重合させた開環重合体等が挙げられる。また、単環の環状オレフィン系単量体を付加重合させた重合体、シクロペンタジエンやシクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を１，４−付加重合させた重合体、単環の環状オレフィン系単量体及び環状共役ジエン系単量体と、環状オレフィン以外の共重合可能な単量体とを共重合させた重合体も挙げられる。

また、これらの重合体（Ｅ）は、さらに水素添加させてもよい。具体的には、粘着付与剤として知られる石油樹脂を水素添加した、いわゆる水添石油樹脂等が挙げられる。水添石油樹脂としては、水添化率を異にする部分水添樹脂から完全水添樹脂まで挙げることができるが、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ｂ）との相溶性、水蒸気透過率、高湿熱や紫外線に対する耐久性の点から、完全水添樹脂が好ましい。
水添石油樹脂としては、例えば、水添テルペン系樹脂、水添ロジン及び水添ロジンエステル系樹脂、不均化ロジン、不均化ロジンエステル系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するペンテン、イソプレン、ピペリン、１．３−ペンタジエン等のＣ５留分を共重合して得られるＣ５系石油樹脂の水添加樹脂である水添ジシクロペンタジエン系樹脂、部分水添芳香族変性ジシクロペンタジエン系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するインデン、ビニルトルエン、α−又はβ−メチルスチレン等のＣ９留分を共重合して得られるＣ９系石油樹脂を水添した樹脂、上記したＣ５留分とＣ９留分の共重合石油樹脂を水添した樹脂等が挙げられる。これらの中でも、低透湿性の観点と、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ｂ）が高湿熱や紫外線により変色（黄変）を防ぎ、透明性を確保する観点から、水添ジシクロペンタジエン系樹脂が好ましい。
なお、これらの重合体（Ｅ）は、単独又は２種以上を併用して用いてもよい。

重合体（Ｅ）の重量平均分子量は、好ましくは２００〜５０００、より好ましくは５００〜３０００である。重量平均分子量が５，０００以下であれば、優れた粘着性を付与でき、被着体との濡れを十分に得ることできる。また、樹脂（Ａ）との相溶性も良好となる。
重合体（Ｅ）の含有量は、粘度、柔軟性、濡れ性、凝集力、及び水蒸気透過率の低減効果の観点から、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１０〜３００質量部、より好ましくは１０〜１００質量部、更に好ましくは２０〜８０質量部である。重合体（Ｅ）の含有量が１０質量部以上であれば、優れた粘着性を付与でき、被着体との濡れを十分に得ることができ、３００質量部以下であれば、粘着剤組成物の凝集力を十分に得ることができ、被着体に貼り付ける場合、剥がれを防止することができる。

＜その他の添加剤＞
本発明の粘着剤組成物は、粘着物性等を阻害しない範囲において、更にその他の添加剤として、光安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂安定剤、充てん剤、顔料、増量剤等を含んでもよい。これらの添加剤は、単独又は２種以上を併用して用いてもよい。
ヒンダートアミン系光安定剤（Ｃ）以外の光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系の光安定剤等が挙げられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）以外の酸化防止剤としては、例えば、リン酸エステル系化合物等が挙げられる。これら（Ｃ）以外の光安定剤、及び（Ｄ）以外の酸化防止剤のそれぞれの含有量は、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２質量部である。
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、オキサゾリアックアシッドアミド化合物、ベンゾフェノン系化合物等が挙げられる。これら紫外線吸収剤の含有量は、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜３質量部である。
樹脂安定剤としては、例えば、イミダゾール系樹脂安定剤、ジチオカルバミン酸塩系樹脂安定剤、リン系樹脂安定剤、硫黄エステル系樹脂安定剤等が挙げられる。これら樹脂安定剤の含有量は、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜３質量である。

本発明の粘着剤組成物は、さらにトルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の有機溶媒を配合してもよい。有機溶媒を配合する場合、粘着剤組成物の固形分濃度は、好ましくは１０〜６０質量％、より好ましくは１０〜４５質量％、更に好ましくは１５〜３０質量％である。１０質量％以上であれば、溶剤の使用量としては十分であり、６０質量％以下であれば、適度な粘度となり、優れた塗工作業性を有する溶液となり得る。

本発明の粘着剤層を形成する方法は、特に制限はなく、公知の方法により製造できる。例えば、有機溶媒を配合した粘着剤組成物（溶液）を公知の塗工方法により製造することができる。例えばスピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の方法により基材や剥離シートの剥離層面に粘着剤組成物を有機溶剤に溶解した溶液を塗工したのち、溶剤や低沸点成分の残留を防ぐために、８０〜１５０℃の温度で３０秒〜５分間加熱して製造することができる。

形成される粘着剤層の厚さは、特に制限はなく、封止用粘着シートの用途等に応じて適宜選定されるが、好ましくは０．５〜１００μｍ、より好ましくは１〜６０μｍ、更に好ましくは３〜４０μｍである。０．５μｍ以上であれば、被着体に対し良好な粘着力が得られ、１００μｍ以下であれば、生産性の面で有利であり、取り扱いやすい封止用粘着シートとなり得る。

本発明の粘着剤層の厚み５０μｍにおける水蒸気透過率は、４０℃、９０％ＲＨ（ＲＨ：相対湿度）において、好ましくは１０ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、より好ましくは８ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、更に好ましくは６ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下である。水蒸気透過率が１０ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下であれば、有機ＥＬ素子等の封止に用いた場合、粘着剤層の端部からの水蒸気の入り込みを抑制することができる。なお、水蒸気透過率については公知方法で測定することができる。
また、本発明の粘着剤層は、粘着剤層自体の厚みが薄い場合でも、高い粘着力を有する。粘着剤層の粘着力は、好ましくは３Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上である。

なお、本発明の封止用粘着シートにおいて、粘着剤層上に、所望により剥離シートを設けてもよいが、この剥離シートとしては、例えばグラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材、これらの紙基材にポリエチレンやポリプロピレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙、又上記基材にセルロース、デンプン、ポリビニルアルコール、アクリル−スチレン樹脂等で目止め処理を行った紙基材、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルムのようなプラスチックフィルム、及びこれらのプラスチックフィルムに易接着処理を施したフィルム等に剥離剤を塗布したもの等が挙げられる。
剥離剤層を形成させるために用いる剥離剤としては、例えばオレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂等が用いられる。
剥離剤層の厚さは、特に限定されないが、剥離剤を溶液状態で塗工する場合は好ましくは０．０５〜２．０μｍであり、より好ましくは０．１〜１．５μｍである。剥離剤層として、ポリエチレンやポリプロピレン等の熱可塑性樹脂を用いて形成させる場合は、剥離剤層の厚さは、好ましくは３〜５０μｍ、より好ましくは５〜４０μｍである。

〔（２）基材〕
本発明の基材としては、本発明の目的に合致するものであれば特に制限されない。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、全芳香族ポリアミド、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン共重合体等のポリアミド、ルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等のシクロオレフィン系ポリマー等、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレートの樹脂からなるシートが挙げられる。また、アルミニウム箔、銅箔や鉄箔等の金属箔、ガラス等を基材として用いてもよい。
これらの中でも、透明性に優れ、汎用性の観点から、ポリエステル、ポリアミド又はシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、ポリエステル又はシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。

基材の厚さは、特に制限はないが、取り扱いやすさの観点から、好ましくは２〜２００μｍ、より好ましくは１０〜１５０μｍ、更に好ましくは２０〜１００μｍである。

〔（３）ガスバリア層〕
ガスバリア層の材料としては、酸素及び水蒸気の透過を阻止するものであれば制約はない。例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、テトラオルガノシラン化合物等の珪素化合物、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム等のアルミニウム化合物、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフロロエチレン等の樹脂等が挙げられる。
上記の中でもガスバリア層の材料としては、ガスバリア性の点から、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、テトラオルガノシラン化合物等の珪素化合物、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム等のアルミニウム化合物、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物が好ましい。中でも、透明性の点から、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、及びテトラオルガノシラン化合物がより好ましい。

（ポリシラザン化合物）
ポリシラザン化合物は、分子内に、（−Ｓｉ−Ｎ−）結合を含む繰り返し単位を有する高分子であり、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。

式（１）中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。
これらの中でも、Ｒ⁴〜Ｒ⁶としては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
また、式（１）で表される繰り返し単位を有するポリシラザン化合物としては、入手容易性及び優れたガスバリア性を有する層を形成できる観点から、Ｒ⁴〜Ｒ⁶が全て水素原子である無機ポリシラザン、又はＲ⁴〜Ｒ⁶の少なくとも１つが水素原子ではない有機ポリシラザンが好ましく、無機ポリシラザンがより好ましく、ペルヒドロポリシラザンが更に好ましい。
ポリシラザン化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、１００〜５０，０００であるのが好ましい。

（ポリカルボシラン化合物）
ポリカルボシラン化合物は、分子内の主鎖に、（−Ｓｉ−Ｃ−）結合を含む繰り返し単位を有する高分子化合物であり、下記式（２）で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。

式（２）中Ｒ⁷、Ｒ⁸は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、又は１価の複素環基を表す。Ｒ⁷、Ｒ⁸は、それぞれ同一であっても相異なっていてもよい。また、Ｒ⁹は、アルキレン基、アリーレン基又は２価の複素環基を表す。

これらの中でも、式（２）で表される繰り返し単位を有するポリカルボシラン化合物としては、Ｒ⁷、Ｒ⁸が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ⁹がアルキレン基又はアリーレン基であるものが好ましく、Ｒ⁷、Ｒ⁸がそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基であり、Ｒ⁹がアルキレン基であるものがより好ましく、Ｒ⁷、Ｒ⁸がそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ⁹が炭素数１〜６のアルキレン基であるものが更に好ましい。
ポリカルボシラン化合物の重量平均分子量は、通常４００〜１２０００である。

（ポリシラン化合物）
ポリシラン化合物は、分子内に、（−Ｓｉ−Ｓｉ−）結合を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。かかるポリシラン化合物としては、下記式（３）で表される構造単位から選択された少なくとも一種の繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。

式（３）中、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、シリル基、又はハロゲン原子を表す。

用いるポリシラン化合物としては、式（３）において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基又はシリル基であるものが好ましく、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基であるものがより好ましく、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基又はアリール基であるものが更に好ましい。

用いるポリシラン化合物の形態は特に制限されず、非環状ポリシラン（直鎖状ポリシラン、分岐鎖状ポリシラン、網目状ポリシラン等）や、環状ポリシラン等の単独重合体であっても、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、くし型共重合体等の共重合体であってもよい。
ポリシラン化合物が非環状ポリシランである場合は、ポリシラン化合物の末端基（末端置換基）は、水素原子であっても、ハロゲン原子（塩素原子等）、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基等であってもよい。

ポリシラン化合物の重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは３００〜１０００００、より好ましくは４００〜５００００、更に好ましくは５００〜３００００である。

（ポリオルガノシロキサン化合物）
ポリオルガノシロキサン化合物は、主鎖構造に制限は無く、直鎖状、ラダー状、籠上のいずれであってもよい。
例えば、直鎖状の主鎖構造としては下記式（４）で表される構造が、ラダー状の主鎖構造としては下記式（５）で表される構造が、籠状の主鎖構造としては下記式（６）で表される構造が例示される。

式（４）〜（６）中、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基等の非加水分解性基を表す。式中のＲｘ、Ｒｙ、Ｒｚは、それぞれ同一でも相異なっていてもよいが、式（１）中のＲｘが２つとも水素原子であることはない。
これらの中でも、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚとしては、それぞれ独立して、無置換若しくは置換基を有する、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、３−グリシドキシプロピル基、又はフェニル基が特に好ましい。

（テトラオルガノシラン化合物）
テトラオルガノシラン化合物は、ケイ素元素に４個の加水分解性基が結合した化合物であり、具体的には、式（７）：ＳｉＸ₄で表される化合物である。
式（７）：ＳｉＸ₄中、Ｘは加水分解置換基を表し、互いに同一であっても相異なっていてもよい。
Ｘとしては、式（８）：ＯＲ（Ｒは炭素数１〜１０の炭化水素基、又はアルコキシ基を表す。）で表される基、式（９）：ＯＳｉ（Ｒ^a）（Ｒ^b）（Ｒ^c）で表される基（Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^cはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェニル基を表す。）、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。

テトラオルガノシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシラン、テトラブトキシシラン等のテトラ（Ｃ１〜Ｃ１０）アルコキシシラン；トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリプロポキシクロロシラン等のトリ（Ｃ１〜Ｃ１０）アルコキシハロゲノシラン；ジメトキジシクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、ジプロポキシジクロロシラン等のジ（Ｃ１〜Ｃ１０）ジハロゲノアルコキシシラン；メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、プロポキシトリクロロシラン等のモノ（Ｃ１〜Ｃ１０）アルコキシトリハロゲノシラン；テトラクロロシラン、テトラブロモシラン等のテトラハロゲノシラン；が挙げられる。ここで、（Ｃ１〜Ｃ１０）は炭素数が１〜１０であることを表す。
これらのテトラオルガノシラン化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、取り扱い性に優れ、ガスバリア性の観点から、テトラ（Ｃ１〜Ｃ１０）アルコキシシランが好ましい。なお、これらのテトラオルガノシラン化合物は、適当な溶媒中、水及び必要に応じて触媒の存在下で、加水分解・脱水縮合させることが好ましい。

テトラオルガノシラン化合物の加水分解・脱水縮合物の重量平均分子量は、特に限定されないが、機械的強度にも優れるガスバリア層を得る観点から、好ましくは２００〜５００００、より好ましくは２００〜３００００、更に好ましくは２００〜１００００である。重量平均分子量が２００以上であれば、十分な被膜形成能力を有し、５００００以下であれば、十分な機械強度を有する膜が形成される。

ガスバリア層を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、上述の材料を有機溶剤に溶解した溶液を、上記基材上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。塗布方法としては、特に限定されず、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
また、他の形成方法としては、上記材料を蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等により基材上に形成する方法が挙げられる。
なお、以下、基材上にガスバリア層が形成されたものを「ガスバリアフィルム」ともいう。

形成されるガスバリア層の厚みは、ガスバリア性能と取り扱い性の観点から、好ましくは２０ｎｍ〜１００μｍ、より好ましくは３０〜５００ｎｍ、更に好ましくは４０〜２００ｎｍである。なお、本発明においては、ガスバリア層が、ナノオーダーであっても、十分なガスバリア性能を有する封止用粘着シートを得ることができる。

さらに、ガスバリア層の表面に対して、イオンを注入することが好ましい。イオンを注入することで、高い透明性をもったままガスバリア性能を向上させることができる。イオンを注入する工程としては、特に限定されないが、例えば、基材上にガスバリア層を形成した後、該ガスバリア層にイオンを注入する方法が挙げられる。

注入されるイオンとしては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の金属のイオン等が挙げられる。
これらの中でも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性能と透明性を有する封止用粘着シートを得る観点から、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、及びクリプトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。
なお、イオンの注入量は、封止用粘着シートの使用目的（必要なガスバリア性、透明性等）等を考慮して適宜決定される。

イオン注入する方法としては、電界により加速されたイオン（イオンビーム）を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法（プラズマイオン注入法）等が挙げられる。これらの中でも、簡便に優れたガスバリア性等を有する封止用粘着シートを得る観点から、プラズマイオン注入法が好ましい。
プラズマイオン注入法は、例えば、プラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、ガスバリア層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン（陽イオン）を、ガスバリア層の表面部に注入して行うことができる。

イオンが注入される部分の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、ガスバリア層の厚み、封止用粘着シートの使用目的等に応じて決定すればよいが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍである。

このようにして得られたガスバリアフィルムの、ガスバリア層の厚み７５ｎｍにおける水蒸気透過率は、４０℃、９０％ＲＨにおいて、好ましくは０．５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、より好ましくは０．０５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下である。なお、ガスバリアフィルムの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。例えば、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、実施例に記載の装置を使用して測定することができる。

〔（４）その他の層〕
上述の（１）〜（３）以外のその他の層としては、導電体層、プライマー層等が挙げられる。なお、その他の層が積層される位置は、限定されず、目的に応じて適宜選択される。
＜導電体層＞
導電体層を構成する材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）；フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）；酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物；金、銀、クロム、ニッケル等の金属；これら金属と導電性金属酸化物との混合物；ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質；ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料；等が挙げられる。導電体層は、これらの材料からなる層が複数積層されてなる積層体であってもよい。
これらの中でも、透明性の点から、導電性金属酸化物が好ましく、ＩＴＯが特に好ましい。

導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。
スパッタリング法は、真空槽内に放電ガス（アルゴン等）を導入し、ターゲットと基板との間に高周波電圧あるいは直流電圧を加えて放電ガスをプラズマ化し、該プラズマをターゲットに衝突させることでターゲット材料を飛ばし、基板に付着させて薄膜を得る方法である。ターゲットとしては、前記導電体層を形成する材料からなるものが使用される。

導電体層の厚さはその用途等に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは１０ｎｍ〜５０μｍ、より好ましくは２０ｎｍ〜２０μｍである。得られる導電体層の表面抵抗率は、好ましくは１０００Ω／□以下である。

形成された導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。

（プライマー層）
プライマー層は、基材層とガスバリア層との層間密着性を高める役割を果たす。プライマー層を設けることにより、層間密着性及び表面平滑性に極めて優れる封止用粘着シートを得ることができる。
プライマー層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物；光重合性モノマー及び／又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光重合性組成物；ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂（特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との２液硬化型樹脂）、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類；アルキルチタネート；エチレンイミン；等が挙げられる。これらの材料は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

プライマー層は、プライマー層を構成する材料を適当な溶剤に溶解又は分散してなるプライマー層形成用溶液を、基材層の片面又は両面に塗付し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。
プライマー層形成用溶液を基材に塗付する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。
プライマー層形成用溶液の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。プライマー層の厚みは、好ましくは１０〜１０００ｎｍである。

また、得られたプライマー層にも、上述のガスバリア層と同様に、イオン注入を行ってもよい。プライマー層にもイオン注入を行うことにより、より優れたガスバリア性能を得ることができる。

〔封止用粘着シートの特性〕
本発明の封止用粘着シートの形状は、特に制限されず、例えば、シート状、直方体状、多角柱状、筒状等が挙げられる。例えば、電子デバイス用部材として用いる場合には、シート状であることが好ましい。

本発明の封止用粘着シートの水蒸気透過率は、４０℃、９０％ＲＨ（ＲＨ：相対湿度）において、好ましくは０．５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、より好ましくは０．０５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、更に好ましくは０．００５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下、特に好ましくは０．０００５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下である。水蒸気透過率が０．５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）であれば、有機ＥＬ素子等の封止に用いた場合、長時間の駆動や駆動環境によっても、有機ＥＬ素子等の封止している素子の特性の劣化を抑制することができる。封止用粘着シートの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。本発明においては、実施例に記載の方法で測定される。

本発明の封止用粘着シートは、封止用部材として、有機トランジスタ、有機メモリー、有機ＥＬ等の有機デバイス；液晶ディスプレイ；電子ペーパー；薄膜トランジスタ；エレクトロクロミック；電気化学発光デバイス；タッチパネル；ディスプレイ；太陽電池；熱電変換デバイス；圧電変換デバイス；蓄電デバイス；等の電子デバイス用途に用いることができる。例えば、図２に、本発明の封止用粘着シートで封止した有機ＥＬ素子を有する有機デバイスの例を示す。有機ＥＬ素子１１は、ガラス基板１２と、該ガラス基板１２上に構造体１３を備える。構造体は、少なくとも一対の対向する電極と、該電極間に配置される正孔輸送層や発光層等の有機層とを有する。例えば、図２における構造体１３は、一対の対向する電極１４ａ、１４ｂの間に有機層１５を有している。一方、基材２上にガスバリア層３、及び粘着剤層４が積層した本発明の封止用粘着シート１は、該構造体１３の上部、下部、及び／又は周囲に配置される。封止用粘着シート１の粘着剤層４が、構造体１４とガラス基板１２と密着し固着されることにより有機ＥＬ素子１１が封止され、有機デバイス１０となる。封止の方法としては、ガラス基板１２上に構造体１４を形成した後、本発明の封止用粘着シート１を貼付して封止される。本発明の封止用粘着シートを用いれば、簡便に封止することができる。
このように本発明の封止用粘着シートにより封止された有機ＥＬ素子を有する有機デバイスは、封止用粘着シートが、優れたガスバリア性を有し、かつ粘着剤層が、紫外線照射下の環境下での耐久性に優れているため、長時間の駆動や駆動環境によっても、有機ＥＬ素子の特性の劣化を抑制しうる。
なお、当該効果は、有機デバイスに限らず、上述したような種々の電子デバイス用途でも同様効果が奏される。

以下の実施例において用いた水蒸気透過率測定装置と測定条件、有機デバイスの評価基準は、以下のとおりである。

＜水蒸気透過率測定装置＞
以下の実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートについて、４０℃、相対湿度９０％の条件下で下記装置を用いて水蒸気透過率を測定した。
・水蒸気透過率が０．０１ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以上のとき：製品名「Ｌ８９−５００」（ＬＹＳＳＹ社製）、
・水蒸気透過率が０．０１ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）未満のとき：製品名「ｄｅｌｔａｐｅｒｍ」（ＴＥＣＨＮＯＬＯＸ社製）

＜有機デバイスの評価基準＞
実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートを用いて作製した有機デバイスを、標準環境下（温度２３℃、相対湿度５０％）で２００時間放置した後、有機ＥＬ素子を起動させ、ダークスポット（非発光箇所）を観察した。
また、実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートの粘着剤層の面をむき出しにした状態で、紫外線フェードメータＵ−４８（スガ試験機（株）製）を用いて、５００Ｗ／ｍ²（波長３００−７００ｎｍ）の紫外線を５０時間連続照射（以下、ＦＯＭともいう）した後、同様に有機デバイスを作製した。そして、標準環境下（温度２３℃、相対湿度５０％）で２００時間放置した後、有機ＥＬ素子を起動させ、ダークスポット（非発光箇所）を観察した。
観察した素子を評価基準は以下のとおりである。
・「◎」：ダークスポットの発生が全く見られない場合（ダークスポットの発生抑制効果が非常に優れている）。
・「○」：ダークスポットの発生が発光面積の５％未満の場合（ダークスポットの発生抑制効果が優れている）。
・「×」：ダークスポットの発生が発光面積の５％以上の場合（ダークスポットの発生抑制効果が劣る）。
・「−」：粘着剤層の埋め込み性が低く、有機ＥＬ素子へのラミネートが出来ずに、均一な発光面を得られない場合。

〔実施例１〕
＜粘着剤組成物の調製＞
ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）として「オパノールＢ５０（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：３４万）」１００質量部、ポリブテン樹脂（Ｂ）として「日石ポリブテン グレードＨＶ−１９００（新日本石油社製、Ｍｗ：１９００）」３０質量部、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）として「ＴＩＮＵＶＩＮ７６５（チバ・ジャパン製、３級のヒンダードアミン基を有する）」０．５質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）として「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（チバ・ジャパン製、ヒンダードフェノール基のβ位が２つともターシャリーブチル基を有する）」０．５質量部、及び環状オレフィン系重合体（Ｅ）として「Ｅａｓｔｏｔａｃ Ｈ−１００Ｌ Ｒｅｓｉｎ（イーストマンケミカル．Ｃｏ．製）」５０質量部を、トルエンに溶解し、固形分濃度約２５質量％の粘着剤組成物を調製した。

＜封止用粘着シートの作製＞
ガスバリア層として、アルミニウム（Ａｌ）が蒸着されたポリエチレンテレフタレートフィルム「アルペット１２／３４（アジアアルミ（株）社製）」をガスバリアフィルムとして用い、調製した上記粘着剤組成物の溶液を乾燥後に形成される粘着剤層の厚さが２０μｍとなるようにアルミニウム側（ガスバリア層側）に塗工し、１２０℃で２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。次に、形成した粘着剤層面に対して、剥離シートとして、厚さ３８μｍの剥離処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面を貼付して、封止用粘着シートを作製した。

＜有機ＥＬ素子、有機デバイスの作製＞
陽極として、スパッタリングによって酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜（厚さ：１５０ｎｍ、シート抵抗：３０Ω／スクエア）を付けたガラス基板の表面を、溶媒洗浄とＵＶ／オソン処理により洗浄した。その後、ＩＴＯ膜上に、有機材料であるＮ，Ｎ’−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）−ベンジデン）を６０ｎｍ、トリス（８−ヒドロキシ−キノリネート）アルミニウムを４０ｎｍ、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリンを１０ｎｍ、（８−ヒドロキシ−キノリノレート）リチウムを１０ｎｍ、０．１〜０．２ｎｍ／ｓの速度で順次蒸着し、発光層を形成した。有機材料はすべて「Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐ．製」である。最後に、その上に陰極としてアルミニウム（Ａｌ）（高純度化学研究所（株）社製）を０．１ｎｍ／ｓの速度で１００ｎｍ蒸着して、有機ＥＬ素子を作製した。なお、蒸着時の真空度は、全て１×１０^-4Ｐａ以下で行った。
ここで、上述の方法で作製した封止用粘着シートを、窒素雰囲気下において、１２０℃に加熱したホットプレート上で１０分間乾燥した後、室温まで低下するのを確認してから、有機ＥＬ素子の陰極を完全に覆う形でラミネートし、有機デバイスを作製した。

〔実施例２〕
実施例１において、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）を加えない以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例３〕
実施例１において、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を加えない以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例４〕
実施例２において、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を１．０質量部に変えた以外は、実施例２と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例５〕
実施例３において、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）を１．０質量部に変えた以外は、実施例３と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。

〔実施例６〕
実施例１において、ガスバリア層として用いた「アルペット１２／３４」を、以下のように作製したガスバリアフィルムに変えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。

＜ガスバリアフィルムの作製＞
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルムである「ＰＥＴ５０ Ａ−４１００（東洋紡績社製、厚さ５０μｍ、以下「ＰＥＴフィルム」ともいう）に、ガスバリア層形成材料としてポリシラザン化合物（クラリアントジャパン社製、商品名「アクアミカＮＬ１１０−２０」、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材）を塗布し、１２０℃で１分間加熱してＰＥＴフィルム上にポリシラザン化合物を含む、膜厚７５ｎｍの層を形成した。
次に、プラズマイオン注入装置を用いて、得られた層の表面に、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入し、基材上にガスバリア層を有するガスバリアフィルムを作製した。
＜プラズマイオン注入装置＞
用いたプラズマイオン注入装置は外部電界を用いてイオンを注入する装置である。
・ＲＦ電源：日本電子社製、型番号「ＲＦ」５６０００
・高電圧パルス電源：栗田製作所社製、「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」
＜プラズマイオン注入条件＞
・プラズマ生成ガス：Ａｒ
・ガス流量：１００ｓｃｃｍ
・Ｄｕｔｙ比：０．５％
・繰り返し周波数：１０００Ｈｚ
・印加電圧：−１０ｋＶ
・ＲＦ電源：周波数 １３．５６ＭＨｚ、印加電力 １０００Ｗ
・チャンバー内圧：０．２Ｐａ
・パルス幅：５μｓｅｃ
・処理時間（イオン注入時間）：５分間
・搬送速度：０．２ｍ／ｍｉｎ

〔実施例７〕
実施例６において、ポリシラザン化合物の代わりに、ポリオルガノシロキサン系化合物（信越化学工業社製、商品名「ＫＳ３５８」、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂）に変えた以外は、実施例６と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。

〔比較例１〕 実施例１において、ガスバリアフィルムとして用いた「アルペット１２／３４」を、ガスバリア層を有しないポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、商品名「ＰＥＴ５０ Ａ−４１００」、厚さ５０μｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例２〕
実施例１において、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及びヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を加えない以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例３〕
実施例１において、ポリブテン樹脂（Ｂ）を１５０質量部加えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。

〔比較例４〕
実施例１において、オパノールＢ５０の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）として「オパノールＢ１００（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：１１０万）」を１００質量部加えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例５〕
実施例１において、オパノールＢ５０の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）として「オパノールＢ８０ＳＦ（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：７５万）」を１００質量部加えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例６〕
実施例１において、オパノールＢ５０の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）として「オパノールＢ３０（ＢＡＳＦ製、Ｍｗ：２０万）」を１００質量部加えた以外は、実施例１と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。

実施例１〜７及び比較例１〜６の封止用粘着シート、及び有機デバイスの評価を表１に示す。

表１から、実施例１〜７の封止用粘着シートは、比較例１に比べ、水蒸気透過率が非常に低く、優れたバリア性能を有することがわかる。また、実施例１〜７の封止用粘着シートは、比較例４〜６に比べ、有機ＥＬ素子へのラミネートが良好であることがわかる。さらに、実施例１〜７の封止用粘着シートを用いた有機デバイスは、比較例２、３に比べ、紫外線照射に曝されたＦＯＭありの場合においても、封止されている有機ＥＬ素子の特性の劣化が抑えられていることがわかる。

本発明の封止用粘着シートは、封止用部材として、有機トランジスタ、有機メモリー、有機ＥＬ等の有機デバイス；液晶ディスプレイ；電子ペーパー；薄膜トランジスタ；エレクトロクロミック；電気化学発光デバイス；タッチパネル；ディスプレイ；太陽電池；熱電変換デバイス；圧電変換デバイス；蓄電デバイス；等の電子デバイスの用途に好適である。

１、１ａ、１ｂ、１ｃ 封止用粘着シート
２、２ａ、２ｂ 基材
３、３ａ、３ｂ ガスバリア層
４、４ａ、４ｂ、４ｃ 粘着剤層
１０ 有機デバイス
１１ 有機ＥＬ素子
１２ ガラス基板
１３ 構造体
１４ａ、１４ｂ 電極
１５ 有機層

Claims (7)

1. 基材上に、少なくとも片面にガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、
   前記粘着剤層が、第１成分として重量平均分子量３０万〜５０万のポリイソブチレン系樹脂（Ａ）、第２成分として重量平均分子量１０００〜２５万のポリブテン樹脂（Ｂ）、第３成分としてヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及び／又はヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を含み、
   ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、ポリブテン樹脂（Ｂ）を１０〜１００質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。
2. ４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過率が、０．５ｇ／（ｍ²・ｄａｙ）以下である、請求項１に記載の封止用粘着シート。
3. ヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）が、３級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤である、請求項１又は２に記載の封止用粘着シート。
4. ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）が、ヒンダードフェノール基のべータ位が２つともターシャリーブチル基で置換されたヒンダードフェノール系酸化防止剤である、請求項ｌ〜３のいずれか１項に記載の封止用粘着シート。
5. 電子デバイスに用いられる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の封止用粘着シート。
6. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の封止用粘着シートを具備する、電子デバイス。
7. 少なくとも一対の対向する電極と該電極間に配置される有機層とを有する構造体、及び該構造体の上部、下部、及び／又は周囲に配置された請求項１〜４のいずれか１項に記載の封止用粘着シートを具備する、有機デバイス。

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