JP2012033803A5 - - Google Patents

Description

本発明に係るプラズマ処理装置は、プラズマ生成室内に設けられたプラズマ制御板と該プラズマ生成室内の高周波アンテナの間の距離を調整することで、プラズマの電子エネルギー分布を制御するというものである。高周波アンテナにプラズマ制御板を近づけると、プラズマ生成室内で生成されたプラズマ中の電子が該プラズマ制御板との衝突によって消滅し、電子密度が低下する。この電子密度の低下によりプラズマ内の電子同士の衝突が減少するため、プラズマ内には高いエネルギーの電子が多く残ることになる。これにより電子エネルギー分布において高エネルギー領域の電子の割合が増加する。このようにプラズマ制御板と高周波アンテナの間の距離を調整するだけで電子エネルギー分布を制御することができるため、ガス分子の種類に応じてその解離度を制御することができる。

Claims (12)

1. プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室内に設けられた高周波アンテナと、プラズマを生成するためのガスを前記プラズマ生成室内に導入するプラズマ生成ガス導入手段と、前記プラズマ生成室と連通するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、を備えるプラズマ処理装置において、
   前記プラズマ生成室内に設けられ、前記高周波アンテナとの距離を変更可能なプラズマ制御板と、
   前記プラズマ制御板を移動させるための移動手段と、
   を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 前記プラズマ生成室が、複数備わっていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の間に差圧を生成する差圧生成手段を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記差圧生成手段が、貫通孔を多数有する板材を前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の境界に設けたものであることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。
5. 前記板材の前記プラズマ処理室側の面に、前記処理ガスを導入するための処理ガス導入孔が設けられていることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
6. 前記板材が、前記プラズマ処理室の同一の壁面に一定の間隔をおいて設けられた複数の前記プラズマ生成室を覆うものであり、該板材の、各プラズマ生成室の間の領域において、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられていることを特徴とする請求項４又は５に記載のプラズマ処理装置。
7. 複数の前記プラズマ生成室が、前記プラズマ処理室の壁面に一定の間隔をおいて設けられ、これらのプラズマ生成室の間に、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられていることを特徴とする請求項２又は５に記載のプラズマ処理装置。
8. プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室内に設けられた高周波アンテナと、プラズマを生成するためのガスを前記プラズマ生成室内に導入するプラズマ生成ガス導入手段と、前記プラズマ生成室と連通するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、を備えるプラズマ処理装置において、
   前記プラズマ生成室が、前記プラズマ処理室の壁面に一定の間隔をおいて複数設けられ、
   複数の前記プラズマ生成室の間に、プラズマ処理室内の排気を行うための排気手段及び該排気手段の排気量の調整を行うための排気量調整手段が設けられている
   ことを特徴とするプラズマ処理装置。
9. 前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の間に差圧を生成する差圧生成手段を備えることを特徴とする請求項８に記載のプラズマ処理装置。
10. 前記差圧生成手段が、貫通孔を多数有する板材を前記プラズマ生成室と前記プラズマ処理室の境界に設けたものであることを特徴とする請求項９に記載のプラズマ処理装置。
11. 前記板材の前記プラズマ処理室側の面に、前記処理ガスを導入するための処理ガス導入孔が設けられていることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマ処理装置。
12. 前記板材が、前記プラズマ処理室の同一の壁面に設けられた複数の前記プラズマ生成室を覆うものであることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のプラズマ処理装置。