CN204497191U - 一种带防静电涂层的考夫曼电源 - Google Patents
一种带防静电涂层的考夫曼电源 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204497191U CN204497191U CN201520291209.8U CN201520291209U CN204497191U CN 204497191 U CN204497191 U CN 204497191U CN 201520291209 U CN201520291209 U CN 201520291209U CN 204497191 U CN204497191 U CN 204497191U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- static coating
- kaufman
- power supply
- anode
- ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种新型离子源,特别涉及一种带防静电涂层的考夫曼电源。所述加速电极靠近屏极的表面涂覆防静电涂层,所述防静电涂层为金属氧化物,有防静电功能。防静电涂层能够消除加速电极的金属离子沉积,能够消除由于金属沉积造成的短路现象。
Description
技术领域
本发明涉及一种新型离子源,特别涉及一种带防静电涂层的考夫曼电源。
背景技术
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支,离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前,离子源的种类很多,Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置,该装置的基本工作原理为:首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来,这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。
在实际操作过程中,真空室充满金属离子,尤其是离子源附近。由于屏级和加速电极的静电作用,在两器件之间缝隙沉积金属砰屑。沉积的金属碎屑经常引起电路短路。
发明内容
为解决上述实际问题,本实用新型提供一种带防静电涂层的考夫曼电源。防止屏级和加速电极之间的金属离子静电吸附。
一种带防静电涂层的考夫曼电源,包括进气口、阴极、阳极、放电室、磁棒、屏极、加速极、中和灯丝,其特征在于:加速电极靠近屏极的表面涂覆防静电涂层。
所述防静电涂层为金属氧化物,有防静电功能。
本实用新型有益效果:
防静电涂层能够消除加速电极的金属离子沉积,能够消除由于金属沉积造成的短路现象。
附图说明
图1为本实用新型结构图
具体实施方式
如图1所示离子源结构图,它由放电室和离子引出系统两部分组成,其工作原理与现有考夫曼离子源工作原理相同。阴极2位于放电室中央,与阳极3共同作用,在工作电压下发射电子。引出系统采用双栅极系统,由一个屏极6与一个加速极7组成,进气口1通入惰性气体,一般采用氩气进入离子源,气体在放电室4中电离形成的离子,由双栅极系统拔出形成离子束。中和灯丝8发射电子对离子束进行中和。磁棒5在此过程中起到控制与筛选等离子体的作用。
加速电极7靠近屏极6的表面涂覆防静电涂层9。防静电涂层9一般采用具有防静电功能的金属氧化物。
Claims (2)
1.一种带防静电涂层的考夫曼电源,包括进气口(1)、阴极(2)、阳极(3)、放电室(4)、磁棒(5)、屏极(6)、加速极(7)、中和灯丝(8),其特征在于:加速电极(7)靠近屏极(6)的表面涂覆防静电涂层(9)。
2.根据权利要求1所述一种带防静电涂层的考夫曼电源,其特征在于:防静电涂层(9)为金属氧化物,有防静电功能。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201520291209.8U CN204497191U (zh) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201520291209.8U CN204497191U (zh) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN204497191U true CN204497191U (zh) | 2015-07-22 |
Family
ID=53576485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201520291209.8U Expired - Fee Related CN204497191U (zh) | 2015-04-30 | 2015-04-30 | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN204497191U (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106622824A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-05-10 | 无锡荣坚五金工具有限公司 | 一种等离子体聚合涂层装置 |
US11332829B2 (en) | 2016-11-30 | 2022-05-17 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating with uniformity control |
US11339477B2 (en) | 2016-11-30 | 2022-05-24 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating apparatus and process |
-
2015
- 2015-04-30 CN CN201520291209.8U patent/CN204497191U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106622824A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-05-10 | 无锡荣坚五金工具有限公司 | 一种等离子体聚合涂层装置 |
CN106622824B (zh) * | 2016-11-30 | 2018-10-12 | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 | 一种等离子体聚合涂层装置 |
US10424465B2 (en) | 2016-11-30 | 2019-09-24 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating apparatus |
US11332829B2 (en) | 2016-11-30 | 2022-05-17 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating with uniformity control |
US11339477B2 (en) | 2016-11-30 | 2022-05-24 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating apparatus and process |
US12065740B2 (en) | 2016-11-30 | 2024-08-20 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | Plasma polymerization coating with uniformity control |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2485571B1 (en) | High-current single-ended DC accelerator | |
CN204497191U (zh) | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 | |
CN103247504A (zh) | 一种双频离子源 | |
CN109712858B (zh) | 激光微波离子源 | |
CN107567174A (zh) | 一种中子发生管 | |
CN203260550U (zh) | 一种双频离子源 | |
TW201130008A (en) | Electron gun and the vacuum evacuation apparatus | |
CN107749388B (zh) | 一种可实现电子束碰撞电离和表面电离的离子源结构 | |
CN103094033A (zh) | 一种双灯丝离子源弧流平衡调节方法 | |
CN204706536U (zh) | 一种金属阴极结构的考夫曼离子源 | |
CN211125568U (zh) | 一种离子束镀膜聚焦离子源 | |
CN2646155Y (zh) | 闭合式电子漂移型气体离子源 | |
CN202487529U (zh) | 一种高价离子源的调制装置 | |
CN204706535U (zh) | 一种考夫曼离子源 | |
CN204651286U (zh) | 一种稳定输出的考夫曼离子源 | |
CN202786397U (zh) | 一种等离子渗氮设备 | |
RU170626U1 (ru) | Установка локального ионного травления диэлектрических поверхностей | |
Ames et al. | Operation of an ECRIS charge state breeder at TRIUMF | |
CN106561446A (zh) | 微波源高密度低能离子束生物改性设备 | |
CN209312712U (zh) | 离子束镀膜聚焦离子源 | |
Bugaev et al. | Enhanced electric breakdown strength in an electron-optical system | |
CN205488030U (zh) | 一种双阳极考夫曼离子源装置 | |
RU2620603C2 (ru) | Способ работы плазменного источника ионов и плазменный источник ионов | |
RU2016103225A (ru) | Приготовление мишени | |
JP2007317491A (ja) | クラスターのイオン化方法及びイオン化装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150722 Termination date: 20160430 |