CN204651286U - 一种稳定输出的考夫曼离子源 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种新型离子源,特别涉及一种稳定输出的考夫曼离子源。包括进气孔、阴极和阳极,其特征在于:所述装置的进气孔为阵列结构。本实用新型有益效果:多孔阵列装置,减小了单一孔径气流不稳的缺陷,提高反应气体接触面积,增加接触几率,使离子束平稳输出。

Description

一种稳定输出的考夫曼离子源
技术领域
本发明涉及一种新型离子源,特别涉及一种稳定输出的考夫曼离子源。
背景技术
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支,离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前,离子源的种类很多,Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置,该装置的基本工作原理为:首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来,这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。
离子束的产生需要有稳定的惰性气体气流,气流一般由单根气体导管出入,气体流量通过气体流量计控制。当气体流量大时,气流不稳定,造成离子束不稳定。
实用新型内容
本实用新型解决上述气流不稳定的技术缺陷,设计一种稳定输出的考夫曼离子源。
一种稳定输出的考夫曼离子源,包括包括进气孔、阴极和阳极,其特征在于:所述装置的进气孔为阵列结构。
所述装置的进气孔至少有两个,进气孔排列均匀。
本实用新型有益效果:多孔阵列装置,减小了单一孔径气流不稳的缺陷,提高反应气体接触面积,增加接触几率,使离子束平稳输出。
附图说明
图1为本结构装置图
图2为进气孔阵列图
具体实施方式
如图1所示,惰性气体由考夫曼离子源的进气孔1进入,与阴极2阳极3的电子束混合反应,进气孔1由原有单一孔径,改造成多孔阵列结构。这一变化,提高反应气体接触面积,增加接触几率,使离子束平稳输出。

Claims (2)

1.一种稳定输出的考夫曼离子源,包括包括进气孔(1)、阴极(2)和阳极(3),其特征在于:所述装置的进气孔(1)为阵列结构。
2.根据权利要求1所述一种稳定输出的考夫曼离子源,其特征在于:所述装置的进气孔(1)至少有两个,进气孔(1)排列均匀。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106876232A (zh) * 2017-03-31 2017-06-20 上海伟钊光学科技股份有限公司 具有预错位栅孔离子引出栅极板的离子源

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