CN204651286U - 一种稳定输出的考夫曼离子源 - Google Patents
一种稳定输出的考夫曼离子源 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204651286U CN204651286U CN201520397770.4U CN201520397770U CN204651286U CN 204651286 U CN204651286 U CN 204651286U CN 201520397770 U CN201520397770 U CN 201520397770U CN 204651286 U CN204651286 U CN 204651286U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ion source
- admission hole
- air admission
- stable output
- kaufman
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种新型离子源，特别涉及一种稳定输出的考夫曼离子源。包括进气孔、阴极和阳极，其特征在于：所述装置的进气孔为阵列结构。本实用新型有益效果：多孔阵列装置，减小了单一孔径气流不稳的缺陷，提高反应气体接触面积，增加接触几率，使离子束平稳输出。
Description
技术领域
本发明涉及一种新型离子源，特别涉及一种稳定输出的考夫曼离子源。
背景技术
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支，离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前，离子源的种类很多，Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置，该装置的基本工作原理为：首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来，这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。
离子束的产生需要有稳定的惰性气体气流，气流一般由单根气体导管出入，气体流量通过气体流量计控制。当气体流量大时，气流不稳定，造成离子束不稳定。
实用新型内容
本实用新型解决上述气流不稳定的技术缺陷，设计一种稳定输出的考夫曼离子源。
一种稳定输出的考夫曼离子源，包括包括进气孔、阴极和阳极，其特征在于：所述装置的进气孔为阵列结构。
所述装置的进气孔至少有两个，进气孔排列均匀。
本实用新型有益效果：多孔阵列装置，减小了单一孔径气流不稳的缺陷，提高反应气体接触面积，增加接触几率，使离子束平稳输出。
附图说明
图1为本结构装置图
图2为进气孔阵列图
具体实施方式
如图1所示，惰性气体由考夫曼离子源的进气孔1进入，与阴极2阳极3的电子束混合反应，进气孔1由原有单一孔径，改造成多孔阵列结构。这一变化，提高反应气体接触面积，增加接触几率，使离子束平稳输出。
Claims (2)
1.一种稳定输出的考夫曼离子源，包括包括进气孔(1)、阴极(2)和阳极(3)，其特征在于：所述装置的进气孔(1)为阵列结构。
2.根据权利要求1所述一种稳定输出的考夫曼离子源，其特征在于：所述装置的进气孔(1)至少有两个，进气孔(1)排列均匀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520397770.4U CN204651286U (zh) | 2015-06-08 | 2015-06-08 | 一种稳定输出的考夫曼离子源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520397770.4U CN204651286U (zh) | 2015-06-08 | 2015-06-08 | 一种稳定输出的考夫曼离子源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204651286U true CN204651286U (zh) | 2015-09-16 |
Family
ID=54104003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201520397770.4U Expired - Fee Related CN204651286U (zh) | 2015-06-08 | 2015-06-08 | 一种稳定输出的考夫曼离子源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204651286U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106876232A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-06-20 | 上海伟钊光学科技股份有限公司 | 具有预错位栅孔离子引出栅极板的离子源 |
-
2015
- 2015-06-08 CN CN201520397770.4U patent/CN204651286U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106876232A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-06-20 | 上海伟钊光学科技股份有限公司 | 具有预错位栅孔离子引出栅极板的离子源 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY194039A (en) | Solar cell having an emitter region with wide bandgap semiconductor material | |
| JP2016111343A5 (zh) | ||
| CN101308882A (zh) | 透明导电氧化物绒面的制备方法 | |
| CN102215626B (zh) | 一种可在较低电压条件下产生放电等离子体的装置 | |
| CN204651286U (zh) | 一种稳定输出的考夫曼离子源 | |
| CN108423643A (zh) | 一种通过控制气体流量在云母衬底上制备硒化铋纳米片的方法 | |
| CN106207266A (zh) | 一种加速软包装锂离子电池化成活化的方法 | |
| CN204497191U (zh) | 一种带防静电涂层的考夫曼电源 | |
| CN100362622C (zh) | 下抽气式刻蚀装置 | |
| CN204706536U (zh) | 一种金属阴极结构的考夫曼离子源 | |
| CN103474318A (zh) | 溅射离子枪 | |
| CN104091741B (zh) | 多功能离子枪 | |
| CN204706535U (zh) | 一种考夫曼离子源 | |
| CN111180304B (zh) | 一种离子源用高效阳极管 | |
| CN103972013A (zh) | 一种真空设备 | |
| CN103094033A (zh) | 一种双灯丝离子源弧流平衡调节方法 | |
| CN204497189U (zh) | 一种碳纳米管冷阴极考夫曼离子源装置 | |
| CN213266691U (zh) | 一种利用差分抽气系统实现超高真空蒸镀的装置 | |
| CN203617246U (zh) | 一种微空心阴极等离子体处理装置 | |
| CN106282957A (zh) | 气相沉积膜设备用抽气陶瓷环 | |
| CN211125564U (zh) | 一种光学镀膜辅助离子源 | |
| CN203411603U (zh) | 磁控阴极溅射镀膜工艺室 | |
| CN109841471A (zh) | 分离正负离子的装置、成膜设备及腔室清洗方法 | |
| US20150207166A1 (en) | Fuel cell for improving flow field uniformity and reducing gas pressure loss | |
| CN203562396U (zh) | 一种粉体材料表面等离子体处理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150916 Termination date: 20160608 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |