JP2011529622A - 中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器 - Google Patents
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims abstract description 115
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000004969 ion scattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
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- G21K5/00—Irradiation devices
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- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
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Abstract
【解決手段】本発明による中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器は、イオンを発生させるイオン源10と、イオンを平行ビームとするコリメータ(collimator)20と、平行ビームを加速する加速器30と、加速されたイオンビームをパルス化するイオンビームパルス発生器40と、パルス化されたイオンビームを試片1に集束させる集束対物レンズ50と、集束されたイオンビームが試片1で散乱されたイオンビームパルスの分光信号を検出する検出器60と、検出器60により検出された分光信号を分析処理するデータ分析器70と、を含んで構成されることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
20 コリメータ(collimator)
30 加速器
40 イオンビームパルス発生器
1 試片
50 集束対物レンズ
60 検出器
65 回転板
70 データ分析器
Claims (9)
- イオンを発生させるイオン源10と、
前記イオン源10で発生したイオンを平行ビームとするコリメータ(collimator)20と、
前記平行ビームを加速する加速器30と、
前記加速器30により加速されたイオンビームをイオンビーム束にするためにパルス化するイオンビームパルス発生器40と、
パルス化されたイオンビームを試片1に集束させる集束対物レンズ50と、
集束されたイオンビームが試片1で散乱されたイオンビームパルスの分光信号を検出する検出器60と、
前記検出器60により検出された分光信号をコンピュータに伝送してデータを分析処理するデータ分析器70と、
を含んで構成されることを特徴とする中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。 - 前記検出器60は遅延線検出器(Delay Line Detector)であって、散乱されたイオンビームパルスの前記遅延線検出器上での位置と、試片1の表面からデータ分析器へのイオンの移動時間とを同時に検出できることを特徴とする請求項1に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記検出器60は、試片1で散乱されたイオンビームの検出位置を測定することで試片1で散乱されたイオンビームを2次元イメージ化して、イオンビームの散乱角度の算出を可能とすることを特徴とする請求項1または2に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記集束対物レンズ50により集束されるイオンビームの直径は数μmであることを特徴とする請求項1に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記試片1または前記検出器60を回転させる回転板65をさらに備え、前記回転板65は、試片1を透過したイオンを検出するために前記試片1の直下に前記検出器60が配置されることを可能とする、或いは、試片1で後方散乱されたイオンを検出するために前記試片1の側部上方に集束されたイオンビームの入射方向に対して0°を超えて90°未満の角度で前記検出器60が配置されることを可能とすることを特徴とする請求項1に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記集束対物レンズ50により集束されたイオンビームの非点収差(astigmatism)を補償(compensating)して歪んだイオンビームのビーム形状を補正するスティグマトール(Stigmator)をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記集束対物レンズ50により試片1の表面に集束された集束イオンビームによって試片1の2次元マイクロメータスケールの領域を走査するラスター偏向器(Raster Deflector)をさらに備えることを特徴とする請求項1または6に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記ラスター偏向器は、試片1の前記領域を解析するために、集束された集束イオンビームによって試片1を走査することによってラスターパターンを形成することを特徴とする請求項7に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
- 前記イオン源10、コリメータ20、加速器30、イオンビームパルス発生器40、及び集束対物レンズ50は、線形に配置されて一体化されていることを特徴とする請求項1に記載の中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080075139A KR101052361B1 (ko) | 2008-07-31 | 2008-07-31 | 중에너지 이온빔 산란을 이용한 분광분석기 |
KR10-2008-0075139 | 2008-07-31 | ||
PCT/KR2009/004177 WO2010013921A2 (ko) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 중에너지 이온빔 산란을 이용한 분광분석기 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011529622A true JP2011529622A (ja) | 2011-12-08 |
JP5713403B2 JP5713403B2 (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=41610831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011521020A Active JP5713403B2 (ja) | 2008-07-31 | 2009-07-28 | 中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8395117B2 (ja) |
JP (1) | JP5713403B2 (ja) |
KR (1) | KR101052361B1 (ja) |
WO (1) | WO2010013921A2 (ja) |
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2008
- 2008-07-31 KR KR1020080075139A patent/KR101052361B1/ko active IP Right Grant
-
2009
- 2009-07-28 WO PCT/KR2009/004177 patent/WO2010013921A2/ko active Application Filing
- 2009-07-28 US US13/056,427 patent/US8395117B2/en active Active
- 2009-07-28 JP JP2011521020A patent/JP5713403B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101052361B1 (ko) | 2011-07-27 |
US8395117B2 (en) | 2013-03-12 |
JP5713403B2 (ja) | 2015-05-07 |
US20110133081A1 (en) | 2011-06-09 |
WO2010013921A3 (ko) | 2010-05-06 |
KR20100013562A (ko) | 2010-02-10 |
WO2010013921A2 (ko) | 2010-02-04 |
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Date | Code | Title | Description |
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