JPH10282024A - レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 - Google Patents
レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法Info
- Publication number
- JPH10282024A JPH10282024A JP9090468A JP9046897A JPH10282024A JP H10282024 A JPH10282024 A JP H10282024A JP 9090468 A JP9090468 A JP 9090468A JP 9046897 A JP9046897 A JP 9046897A JP H10282024 A JPH10282024 A JP H10282024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ion beam
- laser
- frequency
- mass spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】微細な領域を高空間分解能で分析することがで
きるレーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方
法を提供する。 【解決手段】パルス状のイオンビームを試料に照射し
て、試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
して発生した光励起イオンを検出することによって、試
料を分析するレーザイオン化中性粒子質量分析装置にお
いて、イオンビームがパルス的に照射される毎に、レー
ザビームが中性粒子に照射されるように同期させ、上記
照射の周期を電源周波数もしくはその整数倍となるよう
に制御する。
きるレーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方
法を提供する。 【解決手段】パルス状のイオンビームを試料に照射し
て、試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
して発生した光励起イオンを検出することによって、試
料を分析するレーザイオン化中性粒子質量分析装置にお
いて、イオンビームがパルス的に照射される毎に、レー
ザビームが中性粒子に照射されるように同期させ、上記
照射の周期を電源周波数もしくはその整数倍となるよう
に制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はパルス状のイオンビ
ームを試料に照射して、試料から放出される中性粒子に
レーザビームを照射して発生した光励起イオンを検出す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法
に関する。
ームを試料に照射して、試料から放出される中性粒子に
レーザビームを照射して発生した光励起イオンを検出す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、イオンビームを試料に照射して試
料から放出される二次イオンを検出する二次イオン質量
分析法は固体の表面分析で、最も高感度な分析法として
広く用いられてきた、しかし分析対象の半導体デバイス
の高密度化や高性能化により、更に高感度な分析法が求
められている。この要求を満たすことができる有力な候
補として、イオンビーム照射によって試料から放出され
る中性粒子にレーザビームを照射してイオンを発生さ
せ、これを検出するレーザイオン化中性粒子質量分析法
が期待されている。
料から放出される二次イオンを検出する二次イオン質量
分析法は固体の表面分析で、最も高感度な分析法として
広く用いられてきた、しかし分析対象の半導体デバイス
の高密度化や高性能化により、更に高感度な分析法が求
められている。この要求を満たすことができる有力な候
補として、イオンビーム照射によって試料から放出され
る中性粒子にレーザビームを照射してイオンを発生さ
せ、これを検出するレーザイオン化中性粒子質量分析法
が期待されている。
【０００３】レーザイオン化中性粒子質量分析法が従来
の二次イオン質量分析法に比較して高感度な分析が期待
できるのは次の理由による。すなわち二次イオンの発生
割合が多くとも１％程度であるのに対して、９９％以上
は中性粒子であり、これを効率良くイオン化できれば、
大幅な感度向上が期待できるのである。現在では、レー
ザビーム照射によるイオン化率をほぼ１００％にできる
ことがわかってる。
の二次イオン質量分析法に比較して高感度な分析が期待
できるのは次の理由による。すなわち二次イオンの発生
割合が多くとも１％程度であるのに対して、９９％以上
は中性粒子であり、これを効率良くイオン化できれば、
大幅な感度向上が期待できるのである。現在では、レー
ザビーム照射によるイオン化率をほぼ１００％にできる
ことがわかってる。
【０００４】従来のレーザイオン化中性粒子質量分析装
置の例は、特開平6−119905 号公報に記載のレーザイオ
ン化中性粒子質量分析装置がある。従来の装置の原理に
ついて図２を用いて説明する。まず一次イオン源１から
イオンビーム２が引き出され、一組の静電偏向板および
アパーチャで構成されるイオンビームパルス化機構（図
示略）、互いに直交する二組の静電偏向板８で構成され
るイオンビーム走査機構９およびイオンビームレンズ１
０を通して試料１２に照射される。そして試料１２から
放出された中性粒子１３にレーザビーム１５を照射する
ことによってイオン化した光イオン１６を質量分析計１
７によって検出する。
置の例は、特開平6−119905 号公報に記載のレーザイオ
ン化中性粒子質量分析装置がある。従来の装置の原理に
ついて図２を用いて説明する。まず一次イオン源１から
イオンビーム２が引き出され、一組の静電偏向板および
アパーチャで構成されるイオンビームパルス化機構（図
示略）、互いに直交する二組の静電偏向板８で構成され
るイオンビーム走査機構９およびイオンビームレンズ１
０を通して試料１２に照射される。そして試料１２から
放出された中性粒子１３にレーザビーム１５を照射する
ことによってイオン化した光イオン１６を質量分析計１
７によって検出する。
【０００５】一般に、試料表面元素の二次元分布を得る
場合には、イオンビーム２に対し、図３に示すような走
査信号電圧を二組の静電偏向板８に印加することによっ
て、試料１２上を走査させる。そしてイオンビーム２の
試料１２上の走査点に対応して、光イオン強度を測定す
れば、試料表面元素の二次元分布を高感度で得ることが
できる。
場合には、イオンビーム２に対し、図３に示すような走
査信号電圧を二組の静電偏向板８に印加することによっ
て、試料１２上を走査させる。そしてイオンビーム２の
試料１２上の走査点に対応して、光イオン強度を測定す
れば、試料表面元素の二次元分布を高感度で得ることが
できる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような装置で、微
細な領域を高空間分解能で分析する場合には、イオンビ
ームは微細に集束して試料に照射する。すなわち、分析
の空間分解能はイオンビーム径に比例する。しかし、従
来の装置では装置が振動したり、静電偏向板に印加する
走査信号電圧に含まれるノイズについて、十分には考慮
されていなかった。従来この問題が考慮されていなかっ
たのは、ビームの細束化技術が未熟で、最小ビーム径が
せいぜい１００ｎｍ程度であったことに起因しており、
上記の装置振動や、走査信号電圧に含まれるノイズの影
響が、一般には５０ｎｍ以下で、ビーム径に比べて小さ
かったからである。
細な領域を高空間分解能で分析する場合には、イオンビ
ームは微細に集束して試料に照射する。すなわち、分析
の空間分解能はイオンビーム径に比例する。しかし、従
来の装置では装置が振動したり、静電偏向板に印加する
走査信号電圧に含まれるノイズについて、十分には考慮
されていなかった。従来この問題が考慮されていなかっ
たのは、ビームの細束化技術が未熟で、最小ビーム径が
せいぜい１００ｎｍ程度であったことに起因しており、
上記の装置振動や、走査信号電圧に含まれるノイズの影
響が、一般には５０ｎｍ以下で、ビーム径に比べて小さ
かったからである。
【０００７】しかし、最近の極微小部分析に対する要求
の高まりに伴う、ビーム細束化技術の発達で、５０ｎｍ
未満のビームが得られるようになって、この課題が顕在
化してきた。すなわち、装置が振動したり、静電偏向板
に印加する電圧のノイズによってイオンビームが微細に
振動することはイオンビーム径が拡がることと同等であ
り、その拡がり量がビーム径と同等あるいは大きいよう
な状況では、従来の装置ではイオンビームをいくら微細
に集束しても、分析の空間分解能には限界が生じてしま
うのである。
の高まりに伴う、ビーム細束化技術の発達で、５０ｎｍ
未満のビームが得られるようになって、この課題が顕在
化してきた。すなわち、装置が振動したり、静電偏向板
に印加する電圧のノイズによってイオンビームが微細に
振動することはイオンビーム径が拡がることと同等であ
り、その拡がり量がビーム径と同等あるいは大きいよう
な状況では、従来の装置ではイオンビームをいくら微細
に集束しても、分析の空間分解能には限界が生じてしま
うのである。
【０００８】本発明の目的は、より高空間分解能で分析
することができるレーザイオン化中性粒子質量分析装置
および分析方法を提供することにある。
することができるレーザイオン化中性粒子質量分析装置
および分析方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明はイオンビームを照射して、試料を分析する
イオンビーム照射装置において、イオンビームのビーム
径を５０ｎｍ未満にして試料に照射し、レーザイオン化
中性粒子質量分析装置の電源周波数をレーザビームの繰
り返し周波数とほぼ同じにすること、あるいはイオンビ
ームのビーム径を５０ｎｍ未満にして試料に照射し、レ
ーザビームの繰り返し周波数を商用交流電源の周波数と
ほぼ同じにすることを特徴とするレーザイオン化中性粒
子質量分析装置とする。
め、本発明はイオンビームを照射して、試料を分析する
イオンビーム照射装置において、イオンビームのビーム
径を５０ｎｍ未満にして試料に照射し、レーザイオン化
中性粒子質量分析装置の電源周波数をレーザビームの繰
り返し周波数とほぼ同じにすること、あるいはイオンビ
ームのビーム径を５０ｎｍ未満にして試料に照射し、レ
ーザビームの繰り返し周波数を商用交流電源の周波数と
ほぼ同じにすることを特徴とするレーザイオン化中性粒
子質量分析装置とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１を
用いて説明する。本装置は周波数５０Ｈｚである商用交
流電源で動作させる。本装置は次のように動作させる。
まず一次イオン源１から引き出されたイオンビーム２
は、パルス電圧電源３，一組の静電偏向板４およびアパ
ーチャ５で構成されるイオンビームパルス化機構６，走
査電源７および互いに直交する二組の静電偏向板８で構
成されるイオンビーム走査機構９およびイオンビームレ
ンズ１０を通過して、最後に試料台１１上の試料１２に
照射される。ここで、イオンビーム２はイオンビームレ
ンズ１０によってビーム径３０ｎｍに細束化されてい
る。
用いて説明する。本装置は周波数５０Ｈｚである商用交
流電源で動作させる。本装置は次のように動作させる。
まず一次イオン源１から引き出されたイオンビーム２
は、パルス電圧電源３，一組の静電偏向板４およびアパ
ーチャ５で構成されるイオンビームパルス化機構６，走
査電源７および互いに直交する二組の静電偏向板８で構
成されるイオンビーム走査機構９およびイオンビームレ
ンズ１０を通過して、最後に試料台１１上の試料１２に
照射される。ここで、イオンビーム２はイオンビームレ
ンズ１０によってビーム径３０ｎｍに細束化されてい
る。
【００１１】次に試料１２から放出された中性粒子１３
にレーザ装置１４から放出されたレーザビーム１５を照
射することによって発生した光イオン１６を質量分析計
１７によって検出する。そしてイオンビームの試料上の
走査点に対応して、光イオン強度を測定すれば、試料表
面元素の二次元分布を高感度で得ることができる。また
得られた二次元分布像より、空間分解能を測定すること
ができる。
にレーザ装置１４から放出されたレーザビーム１５を照
射することによって発生した光イオン１６を質量分析計
１７によって検出する。そしてイオンビームの試料上の
走査点に対応して、光イオン強度を測定すれば、試料表
面元素の二次元分布を高感度で得ることができる。また
得られた二次元分布像より、空間分解能を測定すること
ができる。
【００１２】ここで、イオンビームパルス化機構６とレ
ーザ装置１４は互いに同期を取って動作するように、コ
ンピュータ１８によって制御する。すなわちイオンビー
ムがパルス的に照射される毎に、試料１２から放出され
る中性粒子１３にレーザビーム１５が照射されるように
レーザ装置１４を制御する。この装置で、まずレーザビ
ーム１５の照射繰り返し周波数を、４０Ｈｚに設定し
て、試料表面元素の二次元分布を得る実験を行った。し
かしビーム径を３０ｎｍに細束化したにもかかわらず、
空間分解能は約５０ｎｍの分析結果しか得られなかっ
た。
ーザ装置１４は互いに同期を取って動作するように、コ
ンピュータ１８によって制御する。すなわちイオンビー
ムがパルス的に照射される毎に、試料１２から放出され
る中性粒子１３にレーザビーム１５が照射されるように
レーザ装置１４を制御する。この装置で、まずレーザビ
ーム１５の照射繰り返し周波数を、４０Ｈｚに設定し
て、試料表面元素の二次元分布を得る実験を行った。し
かしビーム径を３０ｎｍに細束化したにもかかわらず、
空間分解能は約５０ｎｍの分析結果しか得られなかっ
た。
【００１３】そこで、空間分解能に影響をおよぼす可能
性のある装置の振動および走査電源７から供給される走
査信号電圧に含まれるノイズを詳しく調べた。装置の振
動振幅の周波数解析スペクトルの一例を図４に示す。こ
のスペクトルから装置の電源周波数と同一の５０Ｈｚの
振動成分が最も多いことが分かった。これは装置に組み
込まれているモータなどが、電源周波数の５０Ｈｚに同
期して振動することから、この微小な振動が装置に伝達
したものと考えられる。この振動はイオンビーム照射系
や試料台にも伝わり、ビーム径の拡大と同じ効果を生
み、空間分解能の劣化を引き起こしていたことが分かっ
た。また、走査電源７から供給される走査信号電圧に含
まれるノイズにも同様に、５０Ｈｚ成分が最も多く含ま
れ、空間分解能の劣化を引き起こしていたことが分かっ
た。
性のある装置の振動および走査電源７から供給される走
査信号電圧に含まれるノイズを詳しく調べた。装置の振
動振幅の周波数解析スペクトルの一例を図４に示す。こ
のスペクトルから装置の電源周波数と同一の５０Ｈｚの
振動成分が最も多いことが分かった。これは装置に組み
込まれているモータなどが、電源周波数の５０Ｈｚに同
期して振動することから、この微小な振動が装置に伝達
したものと考えられる。この振動はイオンビーム照射系
や試料台にも伝わり、ビーム径の拡大と同じ効果を生
み、空間分解能の劣化を引き起こしていたことが分かっ
た。また、走査電源７から供給される走査信号電圧に含
まれるノイズにも同様に、５０Ｈｚ成分が最も多く含ま
れ、空間分解能の劣化を引き起こしていたことが分かっ
た。
【００１４】そこで、高い空間分解能での極微小部分析
を実現するため、次のような考察および実験を行った。
すなわち、イオンビームはレーザビームと同期して試料
にパルス的に照射されている。ある瞬間のイオンビーム
試料照射位置は、装置振動や走査信号電圧に含まれるノ
イズの振幅に比例した量だけある基準位置から変位す
る。イオンビームの繰り返し周波数が５０Ｈｚ以外の場
合、イオンビームパルス照射ごとにこの変位量がランダ
ムになるため、ビーム径があたかも大きくなったと同じ
効果を生み、空間分解能の劣化を引き起こす。しかし、
微小振動や電源ノイズと同じ周波数の場合、この変位量
は常に一定に保たれ、分析領域全体が一定方向に変位す
るのみで空間分解能の劣化を引き起こさない。
を実現するため、次のような考察および実験を行った。
すなわち、イオンビームはレーザビームと同期して試料
にパルス的に照射されている。ある瞬間のイオンビーム
試料照射位置は、装置振動や走査信号電圧に含まれるノ
イズの振幅に比例した量だけある基準位置から変位す
る。イオンビームの繰り返し周波数が５０Ｈｚ以外の場
合、イオンビームパルス照射ごとにこの変位量がランダ
ムになるため、ビーム径があたかも大きくなったと同じ
効果を生み、空間分解能の劣化を引き起こす。しかし、
微小振動や電源ノイズと同じ周波数の場合、この変位量
は常に一定に保たれ、分析領域全体が一定方向に変位す
るのみで空間分解能の劣化を引き起こさない。
【００１５】以上の考察を確認するため、レーザビーム
照射繰り返し周波数つまりイオンビーム照射繰り返し周
波数を、１０Ｈｚから９０Ｈｚまで、連続的に変化させ
て、空間分解能を測定した。その結果、本装置の電源周
波数の５０Ｈｚのときのみ、空間分解能が、イオンビー
ム径とほぼ同じ３０ｎｍが得られた、そして、その他の
周波数では５０ｎｍ程度に留まることが分かった。また
イオンビームの径を１００ｎｍから徐々に、小さくして
いく実験により、イオンビーム径が５０ｎｍ未満になる
と、空間分解能のレーザビーム照射周波数依存性が顕著
になることが確かめられた。
照射繰り返し周波数つまりイオンビーム照射繰り返し周
波数を、１０Ｈｚから９０Ｈｚまで、連続的に変化させ
て、空間分解能を測定した。その結果、本装置の電源周
波数の５０Ｈｚのときのみ、空間分解能が、イオンビー
ム径とほぼ同じ３０ｎｍが得られた、そして、その他の
周波数では５０ｎｍ程度に留まることが分かった。また
イオンビームの径を１００ｎｍから徐々に、小さくして
いく実験により、イオンビーム径が５０ｎｍ未満になる
と、空間分解能のレーザビーム照射周波数依存性が顕著
になることが確かめられた。
【００１６】以上のように、レーザビームの繰り返し周
波数すなわちイオンビーム照射繰り返し周波数を、装置
の電源周波数と同じくすることによって、ほぼイオンビ
ーム径の空間分解能で二次元分析することが可能になっ
た。
波数すなわちイオンビーム照射繰り返し周波数を、装置
の電源周波数と同じくすることによって、ほぼイオンビ
ーム径の空間分解能で二次元分析することが可能になっ
た。
【００１７】この実施例の分析応用として、レーザ装置
１４はエキシマレーザ励起の色素レーザを用い、またイ
オンビーム２は液体金属イオン源から放出されたガリウ
ムイオンビームを用い、イオンビーム径を３０ｎｍに調
整したところ、振動振幅が最大５０ｎｍ程度観察されて
いたにもかかわらず、シリコンウエハ上の鉄の平面的な
分布を空間分解能３０ｎｍで分析することができた。
１４はエキシマレーザ励起の色素レーザを用い、またイ
オンビーム２は液体金属イオン源から放出されたガリウ
ムイオンビームを用い、イオンビーム径を３０ｎｍに調
整したところ、振動振幅が最大５０ｎｍ程度観察されて
いたにもかかわらず、シリコンウエハ上の鉄の平面的な
分布を空間分解能３０ｎｍで分析することができた。
【００１８】なお、微小振動や走査信号電圧に含まれる
ノイズを詳しく調べると、電源周波数の整数倍の周波数
成分が、場合によっては最も大きくなることが分かっ
た。この場合にはレーザビーム照射周波数を電源周波数
の整数倍に設定すればよい。
ノイズを詳しく調べると、電源周波数の整数倍の周波数
成分が、場合によっては最も大きくなることが分かっ
た。この場合にはレーザビーム照射周波数を電源周波数
の整数倍に設定すればよい。
【００１９】また、以上の例とは逆に、レーザビーム照
射周波数を任意に設定し、装置の電源周波数を、レーザ
ビーム照射周波数と同じ周波数、あるいは整数分の一の
周波数に変換して、装置を動作させてもよい。
射周波数を任意に設定し、装置の電源周波数を、レーザ
ビーム照射周波数と同じ周波数、あるいは整数分の一の
周波数に変換して、装置を動作させてもよい。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、微細な領域を高空間分
解能で分析するのに好適なレーザイオン化中性粒子質量
分析装置および分析方法が提供される。
解能で分析するのに好適なレーザイオン化中性粒子質量
分析装置および分析方法が提供される。
【図１】本発明の一実施例を示す装置の説明図。
【図２】従来の装置の説明図。
【図３】イオンビームの走査信号電圧の一例を示す波形
図。
図。
【図４】振動波形の周波数解析スペクトル図。
１…一次イオン源、２…イオンビーム、３…パルス電圧
電源、４…一組の静電偏向板、５…アパーチャ、６…イ
オンビームパルス化機構、７…走査電源、８…静電偏向
板、９…イオンビーム走査機構、１０…イオンビームレ
ンズ、１１…試料台、１２…試料、１３…中性粒子、１
４…レーザ装置、１５…レーザビーム、１６…光イオ
ン、１７…質量分析計、１８…コンピュータ。
電源、４…一組の静電偏向板、５…アパーチャ、６…イ
オンビームパルス化機構、７…走査電源、８…静電偏向
板、９…イオンビーム走査機構、１０…イオンビームレ
ンズ、１１…試料台、１２…試料、１３…中性粒子、１
４…レーザ装置、１５…レーザビーム、１６…光イオ
ン、１７…質量分析計、１８…コンピュータ。
Claims (8)
- 【請求項１】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザイオン化中性粒子質量分析装置の
電源周波数をレーザビームの繰り返し周波数とほぼ同じ
にすることを特徴とするレーザイオン化中性粒子質量分
析装置。 - 【請求項２】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザイオン化中性粒子質量分析装置の
電源周波数をレーザビームの繰り返し周波数をレーザビ
ームの繰り返し周波数のほぼ整数分の一の周波数にする
ことを特徴とするレーザイオン化中性粒子質量分析装
置。 - 【請求項３】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザビームの繰り返し周波数を商用交
流電源の周波数とほぼ同じにすることを特徴とするレー
ザイオン化中性粒子質量分析装置。 - 【請求項４】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザビームの繰り返し周波数を商用交
流電源の周波数のほぼ整数倍の周波数と同じにすること
を特徴とするレーザイオン化中性粒子質量分析装置。 - 【請求項５】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザイオン化中性粒子質量分析装置の
電源周波数をレーザビームの繰り返し周波数とほぼ同じ
にすることを特徴とするレーザイオン化中性粒子質量分
析方法。 - 【請求項６】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザイオン化中性粒子質量分析装置の
電源周波数をレーザビームの繰り返し周波数のほぼ整数
分の一の周波数にすることを特徴とするレーザイオン化
中性粒子質量分析方法。 - 【請求項７】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザビームの繰り返し周波数を商用交
流電源の周波数とほぼ同じにすることを特徴とするレー
ザイオン化中性粒子質量分析方法。 - 【請求項８】パルス状のイオンビームを試料に照射し、
上記試料から放出される中性粒子にレーザビームを照射
し、発生した光励起イオンを検出し、上記試料を分析す
るレーザイオン化中性粒子質量分析装置において、上記
イオンビームのビーム径を５０ｎｍ未満にして上記試料
に照射し、上記レーザビームの繰り返し周波数を商用交
流電源の周波数のほぼ整数倍の周波数と同じにすること
を特徴とするレーザイオン化中性粒子質量分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9090468A JPH10282024A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9090468A JPH10282024A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282024A true JPH10282024A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=13999438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9090468A Pending JPH10282024A (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282024A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100583768B1 (ko) | 2004-07-07 | 2006-05-26 | 한국과학기술원 | 광압을 이용한 입자빔 집속장치 |
| KR100748617B1 (ko) | 2006-10-13 | 2007-08-10 | 한국표준과학연구원 | 검출한계를 개선한 가스크로마토그래프―질량분석기 |
| WO2010013921A3 (ko) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | 케이맥(주) | 중에너지 이온빔 산란을 이용한 분광분석기 |
-
1997
- 1997-04-09 JP JP9090468A patent/JPH10282024A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100583768B1 (ko) | 2004-07-07 | 2006-05-26 | 한국과학기술원 | 광압을 이용한 입자빔 집속장치 |
| KR100748617B1 (ko) | 2006-10-13 | 2007-08-10 | 한국표준과학연구원 | 검출한계를 개선한 가스크로마토그래프―질량분석기 |
| WO2010013921A3 (ko) * | 2008-07-31 | 2010-05-06 | 케이맥(주) | 중에너지 이온빔 산란을 이용한 분광분석기 |
| US8395117B2 (en) | 2008-07-31 | 2013-03-12 | K-Mac | Spectrophotometer using medium energy ion |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1540692B1 (en) | Particle-optical device and detection means | |
| EP0350874A2 (en) | Surface analysis method and apparatus | |
| JP6826637B2 (ja) | 高性能検査走査電子顕微鏡装置およびその動作方法 | |
| JP2926132B1 (ja) | 集束イオンビームによる二次イオン像観察方法 | |
| JP2005098909A (ja) | イオン化装置およびこれを用いた質量分析装置 | |
| JPH0445930B2 (ja) | ||
| JPH0510822B2 (ja) | ||
| JPH10282024A (ja) | レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 | |
| JPH0619546B2 (ja) | イオン線装置及びイオン線装置を使用して基体を変更する方法 | |
| JP2000162164A (ja) | 共鳴レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 | |
| JP2011233248A (ja) | レーザイオン化質量分析装置 | |
| JP4528278B2 (ja) | 分析装置及び分析方法 | |
| JP2004500542A (ja) | 電子出現分光法を用いる欠陥の化学分析 | |
| JPH11354072A (ja) | レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 | |
| US6146797A (en) | Focused ion beam lithography method with sample inspection through oblique angle tilt | |
| JP6662470B2 (ja) | イオン化方法及びイオン化装置、並びにイメージング分析方法及びイメージング分析装置 | |
| JPH1164290A (ja) | 共鳴レーザイオン化中性粒子質量分析装置および分析方法 | |
| JPS5811569B2 (ja) | デンシブンコウソウチ | |
| Witzel et al. | Exact determination of spatially resolved ion concentrations in focused laser beams | |
| JPH10172499A (ja) | イオンビーム照射装置 | |
| KR20220132053A (ko) | 하전 입자 빔 검사를 위한 샘플 사전-충전 방법들 및 장치들 | |
| Schröder et al. | Surface analysis by laser ionization | |
| JPH0119804Y2 (ja) | ||
| JPH0727771A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
| US20240186102A1 (en) | System and method for resolution improvement of charged particles microscopy |