JP2011244459A5 - - Google Patents
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- 基板と、
増幅すべき入力信号を受信する基板上の入力ポートと
入力ポートに結合された基板上の第一のIII族窒化物系トランジスタであって、入力信号に対する第一増幅段を提供するように構成される第一のIII族窒化物系トランジスタと、
第一のIII族窒化物系トランジスタに結合された基板上の第二のIII族窒化物系トランジスタであって、入力信号に対する第二増幅段を提供するように構成される第二のIII族窒化物系トランジスタと、
第二のIII族窒化物系トランジスタに結合された基板上の出力ポートを含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。 - 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、第一及び第二のIII族窒化物系トランジスタの少なくとも一つは、フィールド・プレートを含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項2記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、前記フィールド・プレートは、前記少なくとも一つのトランジスタのソース端子に電気的に接続されるモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項2記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、前記フィールド・プレートは、前記少なくとも一つのトランジスタのゲート端子に電気的に接続されるモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項2記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、前記フィールド・プレートは、第一のフィールド・プレートを含み、前記少なくとも一つのトランジスタは、さらに、第一のフィールド・プレートから電気的に分離された第二のフィールド・プレートを含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項5記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、第二のフィールド・プレートは、前記少なくとも一つのトランジスタのソース端子に電気的に接続されるモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、第一及び第二のIII族窒化物系トランジスタは、III族窒化物系高電子移動度トランジスタを含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、さらに、
入力ポートと第一のIII族窒化物系トランジスタとの間に結合された入力ネットワークと、
第一のIII族窒化物系トランジスタと第二のIII族窒化物系トランジスタとの間に結合された段間ネットワークと、
第二のIII族窒化物系トランジスタと出力ポートとの間に結合された出力ネットワークと、
を含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。 - 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、さらに、
第一のIII族窒化物系トランジスタのゲートに結合された第一のゲート・バイアス・ポートと、
第一のIII族窒化物系トランジスタのドレインに結合された第一のドレイン・バイアス・ポートと、
第二のIII族窒化物系トランジスタのゲートに結合された第二のゲート・バイアス・ポートと、
第二のIII族窒化物系トランジスタのドレインに結合された第二のドレイン・バイアス・ポートと、
を含むモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。 - 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、
第一のIII族窒化物系トランジスタは、約1mm未満のゲート・ペリフェリを有し、第二のIII族窒化物系トランジスタは、約1mmより大きなゲート・ペリフェリを有するモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。 - 請求項10記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器であって、
第一のIII族窒化物系トランジスタは、約0.72mmのゲート・ペリフェリを有し、第二のIII族窒化物系トランジスタは、約1.2mmのゲート・ペリフェリを有するモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。 - 請求項1記載のモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器を含むパッケージであって、パッケージは0.5平方インチ(3.23平方センチメートル)以下の設置面積を有するパッケージ。
- 2.6GHzから3.95GHzの範囲の周波数で、25dBmより大きい3次インターセプトを有するモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 2.6GHzから3.95GHzの範囲の周波数で、3.0dB未満の雑音指数を有するモノリシック・マイクロ波集積回路の低雑音増幅器。
- 入力信号に対する第一増幅段を提供するように構成された第一のIII族窒化物系トランジスタと、
第一のIII族窒化物系トランジスタに結合され、入力信号に対する第二増幅段を提供するように構成された第二のIII族窒化物系トランジスタと、
を含む低雑音増幅器。 - 請求項15記載の低雑音増幅器であって、第一及び第二のIII族窒化物系トランジスタは、III族窒化物系高電子移動度トランジスタを含む低雑音増幅器。
- 請求項15記載の低雑音増幅器であって、第一及び第二のIII族窒化物系トランジスタの少なくとも一つは、フィールド・プレートを含む低雑音増幅器。
- 請求項17記載の低雑音増幅器であって、前記フィールド・プレートは、第一のフィールド・プレートを含み、前記少なくとも一つのトランジスタは、さらに、第一のフィールド・プレートから電気的に分離された第二のフィールド・プレートを含む低雑音増幅器。
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US10002957B2 (en) * | 2011-12-21 | 2018-06-19 | Power Integrations, Inc. | Shield wrap for a heterostructure field effect transistor |
US9590674B2 (en) * | 2012-12-14 | 2017-03-07 | Peregrine Semiconductor Corporation | Semiconductor devices with switchable ground-body connection |
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US9093394B1 (en) * | 2013-12-16 | 2015-07-28 | Hrl Laboratories, Llc | Method and structure for encapsulation and interconnection of transistors |
US9219450B1 (en) | 2014-01-07 | 2015-12-22 | Lockheed Martin Corporation | High linearity low noise amplifier |
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US9565642B2 (en) * | 2014-04-11 | 2017-02-07 | Cree, Inc. | GaN amplifier for WiFi applications |
KR102282920B1 (ko) * | 2015-08-20 | 2021-07-29 | 한국전자통신연구원 | 증폭기 집적 회로 및 그 설계 방법 |
DE102015117394B4 (de) * | 2015-10-13 | 2020-06-18 | Infineon Technologies Austria Ag | Halbleiterbauelement |
WO2018078893A1 (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 三菱電機株式会社 | 化合物半導体デバイス |
US11283021B2 (en) | 2016-10-24 | 2022-03-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Compound semiconductor device including MOTT insulator for preventing device damage due to high-energy particles |
US11101380B2 (en) | 2017-02-02 | 2021-08-24 | Intel Corporation | Group III-nitride integrated front-end circuit |
US10069464B1 (en) * | 2017-02-21 | 2018-09-04 | The Boeing Company | 3D low flux, high-powered MMIC amplifiers |
US10069462B1 (en) * | 2017-02-27 | 2018-09-04 | Nxp Usa, Inc. | Multiple-stage RF amplifier devices |
US9960737B1 (en) | 2017-03-06 | 2018-05-01 | Psemi Corporation | Stacked PA power control |
US10778156B2 (en) * | 2017-06-20 | 2020-09-15 | Infineon Technologies Ag | Interstage matching network |
US10250197B1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-04-02 | Nxp Usa, Inc. | Multiple-stage power amplifiers implemented with multiple semiconductor technologies |
EP3480945A1 (en) | 2017-11-06 | 2019-05-08 | NXP USA, Inc. | Multiple-stage power amplifiers implemented with multiple semiconductor technologies |
US10855235B2 (en) * | 2017-12-27 | 2020-12-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Power amplifier circuit |
US10404313B1 (en) | 2018-02-21 | 2019-09-03 | Analog Devices, Inc. | Low noise amplifiers with output limiting |
US10510694B2 (en) | 2018-04-18 | 2019-12-17 | Analog Devices, Inc. | Radio frequency communication systems |
US11522506B2 (en) * | 2020-01-31 | 2022-12-06 | Nxp B.V. | Compact RFIC with stacked inductor and capacitor |
US11658234B2 (en) | 2020-10-27 | 2023-05-23 | Wolfspeed, Inc. | Field effect transistor with enhanced reliability |
US11749726B2 (en) | 2020-10-27 | 2023-09-05 | Wolfspeed, Inc. | Field effect transistor with source-connected field plate |
US11502178B2 (en) | 2020-10-27 | 2022-11-15 | Wolfspeed, Inc. | Field effect transistor with at least partially recessed field plate |
US11869964B2 (en) | 2021-05-20 | 2024-01-09 | Wolfspeed, Inc. | Field effect transistors with modified access regions |
US11621672B2 (en) | 2021-08-05 | 2023-04-04 | Wolfspeed, Inc. | Compensation of trapping in field effect transistors |
US12113114B2 (en) | 2021-10-22 | 2024-10-08 | Wolfspeed, Inc. | Transistor with ohmic contacts |
EP4226425A4 (en) * | 2021-12-31 | 2024-01-10 | Innoscience (Suzhou) Semiconductor Co., Ltd. | NITRIDE-BASED BIDIRECTIONAL SWITCHING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
US20240282827A1 (en) * | 2023-02-22 | 2024-08-22 | Gan Systems Inc. | Field plate biasing of high electron mobility transistor |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20092A (en) | 1858-04-27 | Bedstead-bail | ||
US5290393A (en) | 1991-01-31 | 1994-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo K.K. | Crystal growth method for gallium nitride-based compound semiconductor |
EP0576566B1 (en) | 1991-03-18 | 1999-05-26 | Trustees Of Boston University | A method for the preparation and doping of highly insulating monocrystalline gallium nitride thin films |
US5393993A (en) | 1993-12-13 | 1995-02-28 | Cree Research, Inc. | Buffer structure between silicon carbide and gallium nitride and resulting semiconductor devices |
US5523589A (en) | 1994-09-20 | 1996-06-04 | Cree Research, Inc. | Vertical geometry light emitting diode with group III nitride active layer and extended lifetime |
US5739554A (en) | 1995-05-08 | 1998-04-14 | Cree Research, Inc. | Double heterojunction light emitting diode with gallium nitride active layer |
US6316793B1 (en) | 1998-06-12 | 2001-11-13 | Cree, Inc. | Nitride based transistors on semi-insulating silicon carbide substrates |
US6586781B2 (en) | 2000-02-04 | 2003-07-01 | Cree Lighting Company | Group III nitride based FETs and HEMTs with reduced trapping and method for producing the same |
JP2002111400A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-12 | Nec Corp | 電力増幅器 |
US6548333B2 (en) | 2000-12-01 | 2003-04-15 | Cree, Inc. | Aluminum gallium nitride/gallium nitride high electron mobility transistors having a gate contact on a gallium nitride based cap segment |
US6849882B2 (en) | 2001-05-11 | 2005-02-01 | Cree Inc. | Group-III nitride based high electron mobility transistor (HEMT) with barrier/spacer layer |
EP2267784B1 (en) | 2001-07-24 | 2020-04-29 | Cree, Inc. | INSULATING GATE AlGaN/GaN HEMT |
JP4130323B2 (ja) | 2002-03-28 | 2008-08-06 | 株式会社東芝 | 高周波フィルタ及び高周波集積回路 |
US6801088B2 (en) | 2003-02-12 | 2004-10-05 | Northrop Grumman Corporation | Dual gate low noise amplifier |
US7126426B2 (en) | 2003-09-09 | 2006-10-24 | Cree, Inc. | Cascode amplifier structures including wide bandgap field effect transistor with field plates |
TWI560783B (en) | 2003-09-09 | 2016-12-01 | Univ California | Fabrication of single or multiple gate field plates |
US7501669B2 (en) | 2003-09-09 | 2009-03-10 | Cree, Inc. | Wide bandgap transistor devices with field plates |
US7550783B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-06-23 | Cree, Inc. | Wide bandgap HEMTs with source connected field plates |
US7573078B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-08-11 | Cree, Inc. | Wide bandgap transistors with multiple field plates |
JP2006114795A (ja) | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
WO2006050403A2 (en) | 2004-10-28 | 2006-05-11 | Nitronex Corporation | Gallium nitride/silicon based monolithic microwave integrated circuit |
US11791385B2 (en) | 2005-03-11 | 2023-10-17 | Wolfspeed, Inc. | Wide bandgap transistors with gate-source field plates |
US7548112B2 (en) | 2005-07-21 | 2009-06-16 | Cree, Inc. | Switch mode power amplifier using MIS-HEMT with field plate extension |
US7477102B1 (en) * | 2006-03-17 | 2009-01-13 | Hrl Laboratories, Llc | High efficiency linear microwave power amplifier |
US7795672B2 (en) * | 2006-12-26 | 2010-09-14 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Profiled gate field effect transistor with enhanced high harmonic gain |
US7609115B2 (en) | 2007-09-07 | 2009-10-27 | Raytheon Company | Input circuitry for transistor power amplifier and method for designing such circuitry |
JP2010057025A (ja) | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Toshiba Corp | 高周波低雑音増幅器 |
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