JP2011230053A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 対象物に水素ラジカルを供給することによって前記対象物を洗浄する洗浄装置であって、
   加熱された触媒に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、
   前記生成手段と前記対象物の間の経路に設けられ、前記触媒の周囲の気体が前記対象物側の空間に流入することを制限可能な制限手段と、
   前記制限手段により前記触媒の周囲の気体の流入が制限された状態で、前記触媒の周囲の気体を、前記制限手段よりも前記生成手段側で排気可能な排気手段と、
   を備えることを特徴とする洗浄装置。
2. 前記触媒が配置される空間を囲む筐体と、
   前記筐体を加熱可能な加熱手段と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
3. 前記制限手段を冷却可能な冷却手段を備え、
   前記制限手段は、前記経路から退避可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の洗浄装置。
4. 前記生成手段は、前記触媒の表面に付着した酸化物を還元可能な第１気体と、前記過熱された触媒に供給することによって水素ラジカルを生成可能な第２気体と、を選択的に前記触媒に供給可能であることを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
5. 前記第１気体は水素ラジカルであることを特徴とする請求項４に記載の洗浄装置。
6. 加熱された第２触媒に気体を供給することによって、前記触媒に供給される水素ラジカルを生成する第２生成手段と、
   前記第２生成手段と前記触媒の間の経路に配置され、前記第２触媒の周囲の気体が前記触媒側に流入することを制限可能な第２制限手段と、
   前記第２制限手段により前記第２触媒の周囲の気体の流入が制限された状態で、前記第２触媒の周囲の気体を、前記第２制限手段よりも前記第２触媒側で排気可能な第２排気手段と、
   を備えることを特徴とする請求項５に記載の洗浄装置。
7. 対象物に水素ラジカルを供給することによって前記対象物を洗浄する洗浄装置であって、
   加熱された触媒に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、
   前記生成手段と前記対象物の間の経路に設けられ、前記触媒の周囲の気体が前記対象物側に流入することを制限可能する制限手段と、
   前記対象物と前記制限手段との間の空間を介さずに前記触媒の周囲の気体を排気可能な排気手段と、
   を備えることを特徴とする洗浄装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の洗浄装置を用いて、粒子線を制御可能な光学部材を洗浄することを特徴とするパターン転写装置。
9. 加熱された触媒に気体を供給して生成させた水素ラジカルを用いて対象物を洗浄する洗浄方法であって、
   前記触媒の周囲の気体の、前記対象物側への流入が制限された状態で、前記触媒の周囲の気体を排気する工程と
   前記排気する工程と並行して、前記触媒の表面の酸化物を還元または蒸発させることにより前記酸化物を除去する工程と、
   前記加熱された触媒に気体を供給して水素ラジカルを生成する工程と、
   前記制限が解除された状態で、生成された水素ラジカルを前記対象物に供給する工程と、
   を備えることを特徴とすることを特徴とする洗浄方法。