JP2011216478A - 二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔、その製造方法及びリチウムイオン二次電池負極電極 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】貫通孔が穿設された銅箔又は銅合金箔の表裏に、パルス陰極電解処理により銅又は前記銅合金箔と同一金属からなる一次粗化処理層が設けられ、該一次粗化処理層の上に平滑メッキ処理により銅又は前記銅合金箔と同一金属からなる二次処理層が設けられている二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔及びその製造方法並びに該集電体を使用した二次電池。
【選択図】図1
Description
また、本発明は前記穴あき粗化処理銅箔を集電体とし、該集電体に珪素系活物質を積層してなるリチウムイオン二次電池負極電極に関するものである。
二次電池の高容量化の要求に対し、活物質がカーボン系活物質から上述したように珪素系活物質に変更されようとしている。
しかし一方で珪素係活物質は特有の硬さと、充放電時の粒子間の膨張収縮が大きいため、この珪素系活物質の特性を最大限に発揮させ得る集電体の選定が最大の課題となってきている。かかる課題を満足する集電体としては、集電体の表裏両面の形状が均一で活物質を薄く保持することができる金属箔が必要であり、これによりリチウムイオン二次電池の高容量と充放電の長寿命が同時に達成できる。
また、金属箔に貫通孔を設けた集電体の提案は特許文献2、3にも開示されている。
しかし、特許文献1に開示されている集電体は貫通孔の穴の形状を細かく規定して集電体の表面積を増加させ、カーボンからなる活物質との密着性を増大させたものである。また、特許文献2はアルカリ二次電池用の集電体として、貫通孔を有する銅箔表面にアルカリ電解液による腐食を防止する目的でニッケルメッキを施す技術で、活物質として水素吸蔵合金を主体としたスラリーを使用している。また、特許文献3は集電体に設ける貫通孔の位置を規制した技術に関するもので、カーボンを主成分とする活物質を使用している。
このように、これらの特許文献に開示されている穴明き集電体はカーボン又は水素吸蔵合金を活物質として積層するために開発された技術である。したがって上記特許文献に開示されている穴明き集電体は、珪素系活物質の特徴を充分に発揮させる集電体としての機能、即ち高性能で小型化が可能で薄い二次電池を提供し得る珪素系活物質の機能を充分に引き出す集電体としての能力については追求されていない。
また、前記集電体に珪素系活物質を均一に積層した二次電池用電極を提供することを目的とする。
更に、前記貫通孔が穿設された銅箔又は銅合金箔において、前記貫通孔の開口部分の合計面積が、貫通孔穿設前の箔の表面積に対して55%以下であることが望ましい。
また、本発明の穴あき粗化処理銅箔を集電体とし、該集電体に珪素系活物質を積層することで、珪素系活物質の特徴が充分に機能し、高性能で小型、薄型化したリチウムイオン二次電池を提供することができる。
本発明の穴あき粗化処理銅箔は、珪素系活物質との密着性を強め、より多くの活物質を脱落させることなく均一に保持するために、銅箔両面に極めて低粗化で均一な銅粒子又は銅合金粒子による一次粗化処理をパルス陰極電解により施す。
次いで前記一次粗化処理が施された一次粗化処理層を健全に保つために一次粗化処理層の上に一次粗化で用いた粒子と同一成分のメッキ液で平滑にメッキ(陰極電解メッキ)を施すことで平滑な二次処理層(カプセルメッキ層)を設ける。
未処理銅箔が電解銅箔または電解銅合金箔である場合は、貫通孔を穿設する前の表裏の素地がJIS−B−0601に規定される表面粗さRzで0.8〜2.5μmの範囲にある銅箔を採用することが好ましい。
上記電解銅箔は製箔時の電析結晶粒が非常に微細粒子で、電解銅箔のマット面側の断面が細かな粒状結晶構造となっている状態が好ましい。この様な結晶構造を有する電解銅箔は、常温での伸び率が3.5%以上あり、珪素系活物質を圧着加熱積層時のプレス温度(150〜180℃程度範囲)でも、十分に熱伸縮に対し追随性を有するためである。
カップリング剤としては対象となる活物質により適宜選択することが可能である。シランカップリング剤の他にエポキシ系、アミノ系、ビニル系のカップリング剤が選択できる。
先ず銅箔の粗化処理につき説明し、銅合金箔の粗化処理については後述する。
初めに未処理銅箔にパンチング機で貫通孔を穿設する。貫通孔が穿設された未処理銅箔Aはパルス陰極電解粗化銅粒子表面を形成するための第一処理槽1に導かれる。第一処理槽1には酸化イリジウムアノード11が配置され、銅−硫酸電解液12が充填され、該一次処理槽1で銅箔Aの両面に銅粒子からなるコブ状の微細粗化粒子からなる一次粗化処理層を形成する。第一処理槽1で一次粗化処理層が形成された銅箔Bは水洗槽15で洗浄された後第二処理槽2へ導かれる。なお、図中13は遮蔽板である。
第三処理槽3にはSUSアノード31が配置され、クロメート電解液32が充填されており、クロメート防錆層が設けられる。第三処理槽3においてクロメート防錆層が設けられた銅箔Dは水洗槽35で洗浄された後、第四処理槽4へ導かれる。
なお、図中7は給電コンタクトロールである。
未処理銅合金箔Aと同様な合金組成の粗化処理を施す場合には、第一処理槽1に銅合金箔と同一種類の金属が適宜に溶解された銅主体の硫酸電解液12が充填され、該一処理槽1で銅合金箔Aの両面に銅合金粒子からなるコブ状の微細粗化粒子からなる一次粗化処理層を形成する。
第二処理槽2には、第一処理槽と同様に銅合金箔と同一の金属が溶解された銅を主体とする電解液22が充填されており、平滑銅合金メッキ処理が施される。
この他の処理は上記銅箔の粗化処理と同様である。
また、未処理銅箔が圧延銅箔または圧延合金銅箔の場合は、無酸素銅材(OFC材)を用いるのが好ましい。
更に、電解、圧延、合金銅箔の区別なく、未処理銅箔の常温伸び率は3.5%以上であることが好ましい。
また、1つの孔の開口部分の面積が0.01mm2以下であることが好ましい。1つの孔の開口部分の面積が0.01mm2以下であると、粗化処理によって開口部分が塞がるが、Liイオンが通過可能な隙間は残る。これにより、集電体両面の活物質付着量に差が生じても、付着量の少ない側のLi吸蔵量に規制されることなく、活物質全体の吸蔵量を最大限に利用できる。1つの孔の開口部分の面積が0.01mm2より大きいと、活物質が表裏両面でつながり集電特性には効果的であるが、一方で開口部分に脆弱な箇所があると、活物質の充放電時の膨張収縮によって銅箔開口部分の周囲に亀裂が入ることがある。
なお、開口率とは、貫通孔穿設前の未処理銅箔の面積に対する、開口部分の合計面積の比率を言う。
一次粗化処理は穴あき銅箔両表面に銅のコブ状の粗化粒子を形成させる。具体的には、硫酸銅を銅として20〜30g/l、硫酸濃度をH2SO4として90〜110g/l、モリブデン酸ナトリウムをMoとして0.15〜0.35g/l、塩素を塩素イオン換算で0.005〜0.010g/l混入した電解液で、浴温度18.5〜28.5℃に設定し、パルス陰極電解メッキ電流密度を22〜31.5A/dm2に設定し、適宜な流速と極間距離とで、健全な銅コブ粗化粒子の層を銅箔表面に形成する。
第一粗化処理槽1には、遮蔽板13を挟んで隔離された2対の酸化イリジウムアノード11の各対が圧延銅箔Aの両面に配置されている。
銅−硫酸電解液12は第一粗化処理槽1内において所定の流速で流動している。たとえば、第一粗化処理槽1には銅−硫酸電解液12が充填されており所定の流速で攪拌されている、または、銅−硫酸電解液12は第一粗化処理槽1のボトムから給液されてオーバーフローさせる循環層流状態で所定の流速(以下、「第一循環層流速度」という)で流動している。
給電コンタクトロール7と酸化イリジウムアノード11との間にパルス状の電流を印加するパルス陰極電解メッキ処理を行う上での、オン・タイム(電流を印加する時間)とオフ・タイム(電流を印加しない期間)とを決定するには、銅濃度・硫酸濃度・平均電流密度・電解液の流速・浴温・処理時間を考慮する必要がある。これらの設定には、経験的に、直流電解メッキ処理で、健全な「ヤケメッキ」ができる条件を、パルス陰極電解メッキ処理に置き換えて、同等もしくはそれ以上に健全な処理ができることを確認しておく。
通常ピーク電流値は、おおよそ(オンタイムとオフタイムとの比率の合計)×平均電流値が、オンタイム時に流れる。
オンタイムとオフタイムとの比率の合計は、たとえば、オンタイム10ms、オフタイム40msのときは比率の合計は5、オンタイム10ms、オフタイム60msのときは比率の合計は7である。
なお、同一浴内で前記銅コブ粗化粒子が脱落しないように、必要により電流密度を15〜20A/dm2に設定した条件で平滑銅による電解メッキを施すことも適宜可能である。
銅−硫酸電解液22は第二銅メッキ処理槽2内において所定の流速で流動している。たとえば、第二銅メッキ処理槽2には銅−硫酸電解液22が充填されており所定の流速で攪拌される、または、銅−硫酸電解液22が第二銅メッキ処理槽2のボトムから給液されてオーバーフローさせる循環層流状態で所定の流速(以下、「第二循環層流速度」という)で流動している。
第一次粗化処理により施したコブ状の銅粒子個々の表面に付着した銅粒子の層aを健全に保つために、給電コンタクトロール7と酸化イリジウムアノード21とに印加された低電流により平滑銅メッキ処理が行われ、図2(B)に例示したように、一次粗化処理層aが形成された銅箔Bの両側に銅−硫酸電解液22を介して、図2(B)に例示した、平滑な銅メッキからなるカプセル銅層を二次粗化処理bとして陰極電解メッキで付着する、平滑銅メッキ層(二次粗化処理層)bが形成される。
この平滑銅メッキ処理により、1次粗化処理によるコブ状の微細粒子の層(一次粗化処理層)aは、健全な形状を維持すると共に粒子の均一性が保たれる。
ロール7とアノード21との間に連続的に印加する陰極電解メッキ電流密度を、たとえば、15〜20A/dm2に設定した。
第二処理槽2における電解液は具体的には、硫酸銅を銅として35〜55g/L、硫酸濃度をH2SO4として90〜110g/Lとし、浴温度35〜55℃に設定して、陰極電解メッキ電流密度を15〜20A/dm2に設定する。適宜な電解液22の流速と、適宜な酸化イリジウムアノード21の極間距離とで、平滑な銅メッキを第一粗化処理層(微細銅粗化粒子)の表面に形成する。
たとえば、銅箔の搬送速度は、第1ステップにおける搬送速度、たとえば、6〜12m/分と同じであり、第二循環層流速度は、3〜6m/分である。
電解時間は、平滑メッキなので、(電流密度×処理時間*メッキ量)で規定され、たとえば、3.75〜7.5秒程度である。
また、本発明においては品種種類を限定しないが、少なくとも化学的に密着性を向上させるため、シランカップリング剤の付着量は珪素として0.001〜0.015mg/dm2の範囲であることが好ましい。
次いで平滑銅メッキ処理を、槽入口からボトム側で両面同時に直流陰極電解メッキにより二次粗化処理を施した。
また、実施例、比較例では陰極電解条件を「パルス陰極電解」と「直流陰極電解」とに分けて記載する。
硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・金属銅として23.5g/l
硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・100g/l
モリブデン酸ナトリウム・・・・・・モリブデンとして0.25g/l
塩酸・・・・・・・・・・・・・・・塩素イオンとして0.002g/l
硫酸第二鉄・・・・・・・・・・・・・・金属鉄として0.20g/l
硫酸クロム・・・・・・・・・・・・三価クロムとして0.20g/l
浴温度:25.5℃
パルス陰極電解オンタイム・・・・・10ms
パルス陰極電解オフタイム・・・・・60ms
パルス陰極電解平均メッキ電流密度:22.5A/dm2
硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・金属銅として45g/l
硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・110g/l
浴温度:50.5℃
直流陰極電解メッキ電流密度:18.5A/dm2
更に該処理銅箔を250mm角に切断して市販のポリフェニレンエーテル(PPE)樹脂系基板(Panasonic電工製メグトロン−6プリプレグ相当)にマット面側の粗化処理面を重ね合わせて180℃で加熱プレス積層した試料により引き剥がし強度の測定値から粗化処理の均一性を評価した。また、異常粗化処理の有無は全面エッチング後の基板表面の残銅を光学顕微鏡による目視観察により評価した。
硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・金属銅として23.5g/l
硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・ 100g/l
モリブデン酸ナトリウム・・・・・・モリブデンとして0.25g/l
塩酸・・・・・・・・・・・・・・・塩素イオンとして0.002g/l
硫酸第一錫・・・・・・・・・・・・・・・・スズとして2.35g/l
硫酸第二鉄・・・・・・・・・・・・・・金属鉄として0.20g/l
硫酸クロム・・・・・・・・・・・・三価クロムとして0.20g/l
浴温度:25.5℃
パルス陰極電解オンタイム・・・・・10ms
パルス陰極電解オフタイム・・・・・60ms
パルス陰極電解平均メッキ電流密度:22.5A/dm2
硫酸銅・・・・・・・・・・・・・・・・・金属銅として45g/l
硫酸第一錫・・・・・・・・・・・・・・・・・錫として4.5g/l
硫酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・110g/l
浴温度:50.5℃
直流陰極電解メッキ電流密度:18.5A/dm2
実施例と比較して比較例1〜5の銅箔は、密着強度は実施例より勝るが、密着強度のバラツキと残銅の点で実施例より劣り、負極集電体に積層する活物質を均一な厚みで結着する観点からすると、二次電池用集電体として採用する場合、充放電特性に問題を生じることになる。
なお、比較例5の汎用の電解銅箔では、未処理箔の表裏の表面粗度が大きく異なっているため、粗化処理で両面の粗化状態を近接させることができなかった。そのため、未処理銅箔の表裏の表面粗度にかなりの差がある銅箔を採用することは、粗化処理で両面の表面粗度を均一にすることが困難であり、好ましくないと判断される。
2 第二銅メッキ処理(平滑メッキ処理)槽
3 第三表面処理(防錆処理)槽
4 第四表面処理(シランカップリング処理)槽
A 未処理銅箔
B 一次処理銅箔
C 二次処理銅箔
D 三次処理銅箔
E 四次処理銅箔
F 表面粗化銅箔
Claims (14)
- 貫通孔が穿設された未処理銅箔又は未処理銅合金箔の表面に、パルス陰極電解処理により銅又は銅合金からなる一次粗化処理層が設けられ、該一次粗化処理層の上に平滑メッキ処理により銅又は銅合金からなる二次処理層が設けられている二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 貫通孔が穿設された未処理銅箔又は未処理銅合金箔の表面に、パルス陰極電解処理により前記未処理銅又は前記未処理銅合金箔と同一の金属からなる一次粗化処理層が設けられ、該一次粗化処理層の上に平滑メッキ処理により銅又は前記銅合金箔と同一の金属からなる二次処理層が設けられている二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記貫通孔の1つの孔の開口部分の面積が0.01mm2以下である請求項1に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記貫通孔の開口部分の合計面積が、貫通孔穿設前の未処理箔の面積に対して55%以下である請求項1又は2に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 貫通孔が穿設された未処理銅箔又は未処理銅合金箔の厚みが8〜35μmであり、導電率が85%IACS以上である請求項1又は2に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記銅合金箔が銅と錫の合金からなる箔である請求項1に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記二次処理層の表面粗度が、JIS−B−0601に規定される表面粗さRzで3.0μm以下である請求項1〜6のいずれかに記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記二次処理層の表面に防錆剤による防錆層が設けられ、該防錆層表面にカップリング剤による保護層が設けられている請求項1又は2に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記防錆層がクロメートからなり、該クロメート防錆層のクロム付着量が、金属クロムとして0.005〜0.025mg/dm2である請求項8に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 前記保護層がシランカップリング剤からなり、該シランカップリング剤の付着量が、珪素として0.001〜0.015mg/dm2である請求項8に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔。
- 貫通孔が穿設された未処理銅箔又は未処理銅合金箔の表面に、銅又は銅合金からなる一次粗化処理層をパルス陰極電解処理により設け、該一次粗化処理層の上に銅又は銅合金からなる二次処理層を平滑メッキ処理により設ける二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔の製造方法。
- 貫通孔が穿設された未処理銅箔又は未処理銅合金箔の表面に、銅又は前記銅合金箔と同一の金属からなる一次粗化処理層をパルス陰極電解処理により設け、該一次粗化処理層の上に銅又は前記銅合金箔と同一の金属からなる二次処理層を平滑メッキ処理により設ける二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔の製造方法。
- 前記二次処理層の表面に防錆層を防錆剤により設け、該防錆層表面に保護層をカップリング剤により設ける請求項11又は12に記載の二次電池集電体用穴あき粗化処理銅箔の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の粗化処理銅箔、又は請求項11、12又は13に記載の製造方法で製造された粗化処理銅箔の表面に珪素系活物質を積層してなるリチウムイオン二次電池負極電極。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018062704A (ja) * | 2015-11-10 | 2018-04-19 | Jx金属株式会社 | 電解銅箔、電解銅箔の製造方法、銅張積層板、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 |
CN112118669A (zh) * | 2019-06-19 | 2020-12-22 | 金居开发股份有限公司 | 进阶反转电解铜箔及应用其的铜箔基板 |
JP2021008665A (ja) * | 2019-06-19 | 2021-01-28 | 金居開發股▲分▼有限公司 | アドバンスド電解銅箔及びそれを適用した銅張積層板 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317597A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 古河サーキットフォイル株式会社 | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 |
JPH1186869A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-30 | Nippon Foil Mfg Co Ltd | 二次電池に用いる孔開き集電体 |
JP2002319408A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池 |
JP2005197205A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-07-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 非水電解液二次電池用負極集電体 |
JP2006228652A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Furukawa Circuit Foil Kk | リチウム2次電池電極用銅箔およびその製造方法、該銅箔を用いたリチウム2次電池用電極およびリチウム2次電池 |
JP2006278104A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池 |
-
2011
- 2011-03-17 JP JP2011059166A patent/JP4948656B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6317597A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-25 | 古河サーキットフォイル株式会社 | 印刷回路用銅箔及びその製造方法 |
JPH1186869A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-30 | Nippon Foil Mfg Co Ltd | 二次電池に用いる孔開き集電体 |
JP2002319408A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池 |
JP2005197205A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-07-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 非水電解液二次電池用負極集電体 |
JP2006228652A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Furukawa Circuit Foil Kk | リチウム2次電池電極用銅箔およびその製造方法、該銅箔を用いたリチウム2次電池用電極およびリチウム2次電池 |
JP2006278104A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018062704A (ja) * | 2015-11-10 | 2018-04-19 | Jx金属株式会社 | 電解銅箔、電解銅箔の製造方法、銅張積層板、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 |
CN112118669A (zh) * | 2019-06-19 | 2020-12-22 | 金居开发股份有限公司 | 进阶反转电解铜箔及应用其的铜箔基板 |
JP2021008665A (ja) * | 2019-06-19 | 2021-01-28 | 金居開發股▲分▼有限公司 | アドバンスド電解銅箔及びそれを適用した銅張積層板 |
US11332839B2 (en) | 2019-06-19 | 2022-05-17 | Co-Tech Development Corp. | Advanced electrodeposited copper foil and copper clad laminate using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4948656B2 (ja) | 2012-06-06 |
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