|
JP2785253B2
(ja)
*
|
1993-03-19 |
1998-08-13 |
日亜化学工業株式会社 |
窒化ガリウム系化合物半導体のp型化方法
|
|
US5760423A
(en)
*
|
1996-11-08 |
1998-06-02 |
Kabushiki Kaisha Toshiba |
Semiconductor light emitting device, electrode of the same device and method of manufacturing the same device
|
|
JPH1168504A
(ja)
*
|
1997-08-11 |
1999-03-09 |
Murata Mfg Co Ltd |
表面波装置
|
|
EP0926744B8
(en)
*
|
1997-12-15 |
2008-05-21 |
Philips Lumileds Lighting Company, LLC. |
Light emitting device
|
|
JP3469484B2
(ja)
*
|
1998-12-24 |
2003-11-25 |
株式会社東芝 |
半導体発光素子およびその製造方法
|
|
TW437094B
(en)
*
|
1999-06-11 |
2001-05-28 |
Chi Mei Electronic Corp |
Process for thin film transistor with composite metal structure
|
|
TW451447B
(en)
*
|
1999-12-31 |
2001-08-21 |
Samsung Electronics Co Ltd |
Contact structures of wirings and methods for manufacturing the same, and thin film transistor array panels including the same and methods for manufacturing the same
|
|
US6959856B2
(en)
*
|
2003-01-10 |
2005-11-01 |
Samsung Electronics Co., Ltd. |
Solder bump structure and method for forming a solder bump
|
|
WO2005018008A1
(ja)
*
|
2003-08-19 |
2005-02-24 |
Nichia Corporation |
半導体素子
|
|
KR100601945B1
(ko)
*
|
2004-03-10 |
2006-07-14 |
삼성전자주식회사 |
탑에미트형 질화물계 발광소자 및 그 제조방법
|
|
JP4632690B2
(ja)
*
|
2004-05-11 |
2011-02-16 |
スタンレー電気株式会社 |
半導体発光装置とその製造方法
|
|
JP4301136B2
(ja)
*
|
2004-10-18 |
2009-07-22 |
サンケン電気株式会社 |
半導体発光素子およびその製造方法
|
|
JP2006128227A
(ja)
*
|
2004-10-26 |
2006-05-18 |
Mitsubishi Cable Ind Ltd |
窒化物半導体発光素子
|
|
JP2006324324A
(ja)
*
|
2005-05-17 |
2006-11-30 |
Sumitomo Electric Ind Ltd |
発光装置、発光装置の製造方法および窒化物半導体基板
|
|
US7759690B2
(en)
*
|
2005-07-04 |
2010-07-20 |
Showa Denko K.K. |
Gallium nitride-based compound semiconductor light-emitting device
|
|
JP2007281037A
(ja)
*
|
2006-04-03 |
2007-10-25 |
Dowa Holdings Co Ltd |
半導体発光素子及びその製造方法
|
|
JP2008072039A
(ja)
*
|
2006-09-15 |
2008-03-27 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
発光素子
|
|
JP5198793B2
(ja)
*
|
2007-05-10 |
2013-05-15 |
ソニー株式会社 |
半導体素子およびその製造方法
|
|
JP2008294188A
(ja)
*
|
2007-05-24 |
2008-12-04 |
Toyoda Gosei Co Ltd |
半導体発光素子及びその製造方法
|
|
JP5048392B2
(ja)
*
|
2007-05-25 |
2012-10-17 |
豊田合成株式会社 |
Iii族窒化物系化合物半導体発光素子
|
|
JP4840345B2
(ja)
*
|
2007-12-03 |
2011-12-21 |
住友電気工業株式会社 |
エピタキシャルウエハ、エピタキシャルウエハを作製する方法
|
|
JP2009260237A
(ja)
*
|
2008-01-24 |
2009-11-05 |
Showa Denko Kk |
化合物半導体発光素子及びその製造方法、化合物半導体発光素子用導電型透光性電極、ランプ、電子機器並びに機械装置
|
|
JP5651288B2
(ja)
*
|
2008-03-25 |
2015-01-07 |
株式会社東芝 |
半導体発光素子及びその製造方法
|
|
JP5434288B2
(ja)
*
|
2009-06-12 |
2014-03-05 |
豊田合成株式会社 |
半導体発光素子、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子を備えたランプ、照明装置および電子機器
|
|
JP5159731B2
(ja)
*
|
2009-09-03 |
2013-03-13 |
株式会社東芝 |
蛍光体およびこれを用いた画像表示装置
|
|
JP2011119333A
(ja)
*
|
2009-12-01 |
2011-06-16 |
Sharp Corp |
窒化物半導体発光素子
|