JP2011204811A - 回路部品内蔵モジュールおよび回路部品内蔵モジュールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電気的な層間接続が導電性組成物を用いて行われる回路部品内蔵モジュールの製造方法であって、絶縁基板104の素材の厚み方向に貫通孔を設け、電気的な層間接続を行うためのインナービア103を1又は複数個形成するインナービア形成工程と、インナービア103に導電性組成物111を充填する充填工程と、インナービア103の中央部103aの直径が、開口部103bの直径と比較して短くなるように加熱を行う加熱工程と、絶縁基板104の素材の両面に、第1基板101及び第2基板108を配置し、積層する積層工程と、積層された絶縁基板104の素材、第1基板101及び第2基板108を加圧及び加熱する加圧加熱工程とを備えた、回路部品内蔵モジュールの製造方法である。
【選択図】図1
Description
電気的な層間接続が導電性組成物を用いて行われる回路部品内蔵モジュールの製造方法であって、
絶縁基板の素材の厚み方向に貫通孔を設け、電気的な層間接続を行うためのインナービアを1又は複数個形成するインナービア形成工程と、
前記インナービアに導電性組成物を充填する充填工程と、
前記インナービアの中央部の直径が、開口部の直径と比較して短くなるように加熱を行う加熱工程と、
前記絶縁基板の素材の両面に、それぞれ部材を配置し、積層する積層工程と、
積層された前記絶縁基板の素材及び前記部材を加圧及び加熱する加圧加熱工程とを備えた、回路部品内蔵モジュールの製造方法である。
前記絶縁基板の素材にカバーフィルムを貼り付ける貼付工程と、
前記加熱工程の後に、前記カバーフィルムを前記絶縁基板の素材から剥離する剥離工程とを更に備え、
前記インナービア形成工程は、前記カバーフィルムとともに前記絶縁基板の素材に前記貫通孔を設ける工程であり、
前記充填工程は、スクリーン印刷法によって、前記導電性組成物を前記インナービアに充填する工程である、第1の本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法である。
前記インナービア形成工程は、パンチング加工によって前記貫通孔を設ける工程である、第1又は2の本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法である。
第1〜3のいずれかの本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法によって製造された回路部品内蔵モジュールであって、
前記インナービアは、前記中央部の直径が、前記開口部の直径と比較して10%〜50%短い形状である、回路部品内蔵モジュールである。
前記絶縁基板は、無機フィラーと樹脂成分を含む材料によって形成されており、
前記材料には、前記無機フィラーは、70〜95重量%含まれており、
前記樹脂成分には、熱硬化性樹脂とゴム成分が含まれており、
前記ゴム成分は、分子量5万以上であり、前記樹脂中に70重量%〜95重量%含まれている、第4の本発明の回路部品内蔵モジュールである。
前記インナービアの全部又は一部の中に回路部品が配置されている、第4の本発明の回路部品内蔵モジュールである。
前記インナービアの全部又は一部に回路部品を挿入する部品挿入工程と、
挿入された前記回路部品を挟持するように、前記インナービアの中央部の直径が、開口部の直径と比較して短くなるよう加熱を行う挟持工程を備え、
前記充填工程は、前記部品が挿入された前記インナービアにも前記導電性組成物を充填する工程である、第1の本発明の回路部品内蔵モジュールの製造方法である。
本発明にかかる実施の形態1における回路部品内蔵モジュールについて説明する。
以下に、本発明にかかる実施の形態2の回路部品内蔵モジュールについて説明する。本実施の形態2の回路部品内蔵モジュールは、実施の形態1と基本的な構成は同じであるが、インナービアに回路部品が内蔵されている点が異なっている。そのため、本実施の形態2では、実施の形態1との相違点を中心に説明する。尚、実施の形態1と同様の構成については同一の符号が付されている。
実施例1は、実施の形態1で説明した方法で回路部品内蔵モジュールを作製した一例である。
比較例1の回路部品内蔵モジュールの電気絶縁性基板は、無機フィラーとしてAl2O3(昭和電工(株)製AS−20とAS−40を同量)が85重量%、液状エポキシ樹脂が5重量%、固体エポキシ樹脂を11重量%、硬化剤を0.3重量%、カップリング剤(味の素(株)製、チタネート系、46B)が0.7重量%、組成として含まれている混合物を用いて作製された。すなわち、この比較例1において用いられた混合物は、上記実施例1において電気絶縁性基板を形成した混合物と比較して、ゴム成分が含まれていない点が異なっている。
また、比較例2として、実施例1と比較してインナービアの中央部の穴の直径を収縮させる加熱工程を行わない以外は、実施例1と同じ材料、製造方法を用いて作製したサンプルに対して、上記半田リフロー試験及び温度サイクル試験が実施された。
また、実施例2として、実施例1と比較してインナービアの中央部の直径を収縮させる工程において、80℃で3分加熱した以外は、実施例1と同じ条件、製造方法を用いて作製したサンプルに対して、上記半田リフロー試験及び温度サイクル試験が実施された。
実施例3は、実施の形態2で説明した方法で回路部品内蔵モジュールを作製した一例である。
厚み約800μmの両面にカバーフィルムが形成された電気絶縁性基板素材を準備し、パンチャーマシンを用いてインナービアホール接続をするための貫通孔(直径0.25mm)が形成された(図7(b)参照)。
また、比較例3として、実施例3と比較して貫通穴に電子部品107を挿入した後、インナービアを収縮させる加熱工程(図7(d))を除く以外は、実施例3と同じ条件、製造方法を用いて作製した。
また、比較例4として、実施例3と比較して貫通穴に導電性樹脂組成物111´をスクリーン印刷法にて充填した後、インナービアを収縮させる加熱工程(図7(f))を除く以外は、実施例3と同じ条件、製造方法を用いて作製した。
また、部品を挿入したインナービアのインナービア接続の抵抗値変化が10%を越えるサンプルは、約3%発生した。
101 第1基板
102 基板電極
103 インナービア
104 電気絶縁性基板
105 半導体チップ
106 チップ部品
107 チップ部品
108 第2基板
109 封止樹脂
110、261、262 部品内蔵層
111 導電性樹脂組成物
201 カバーフィルム
205 飛び出し部分
400 回路部品内蔵モジュール
401a、401b、401c 絶縁性基板
402a、402b、402c 配線パターン
403a、403b 回路部品
404 インナービア
Claims (7)
- 電気的な層間接続が導電性組成物を用いて行われる回路部品内蔵モジュールの製造方法であって、
絶縁基板の素材の厚み方向に貫通孔を設け、電気的な層間接続を行うためのインナービアを1又は複数個形成するインナービア形成工程と、
前記インナービアに導電性組成物を充填する充填工程と、
前記インナービアの中央部の直径が、開口部の直径と比較して短くなるように加熱を行う加熱工程と、
前記絶縁基板の素材の両面に、それぞれ部材を配置し、積層する積層工程と、
積層された前記絶縁基板の素材及び前記部材を加圧及び加熱する加圧加熱工程とを備えた、回路部品内蔵モジュールの製造方法。 - 前記絶縁基板の素材にカバーフィルムを貼り付ける貼付工程と、
前記加熱工程の後に、前記カバーフィルムを前記絶縁基板の素材から剥離する剥離工程とを更に備え、
前記インナービア形成工程は、前記カバーフィルムとともに前記絶縁基板の素材に前記貫通孔を設ける工程であり、
前記充填工程は、スクリーン印刷法によって、前記導電性組成物を前記インナービアに充填する工程である、請求項1記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。 - 前記インナービア形成工程は、パンチング加工によって前記貫通孔を設ける工程である、請求項1又は2記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法によって製造された回路部品内蔵モジュールであって、
前記インナービアは、前記中央部の直径が、前記開口部の直径と比較して10%〜50%短い形状である、回路部品内蔵モジュール。 - 前記絶縁基板は、無機フィラーと樹脂成分を含む材料によって形成されており、
前記材料には、前記無機フィラーは、70〜95重量%含まれており、
前記樹脂成分には、熱硬化性樹脂とゴム成分が含まれており、
前記ゴム成分は、分子量5万以上であり、前記樹脂中に70重量%〜95重量%含まれている、請求項4記載の回路部品内蔵モジュール。 - 前記インナービアの全部又は一部の中に回路部品が配置されている、請求項4記載の回路部品内蔵モジュール。
- 前記インナービアの全部又は一部に回路部品を挿入する部品挿入工程と、
挿入された前記回路部品を挟持するように、前記インナービアの中央部の直径が、開口部の直径と比較して短くなるよう加熱を行う挟持工程を備え、
前記充填工程は、前記部品が挿入された前記インナービアにも前記導電性組成物を充填する工程である、請求項1記載の回路部品内蔵モジュールの製造方法。
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