JP2011194278A - 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにインプリントシステム - Google Patents
液体塗布装置及び液体塗布方法並びにインプリントシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011194278A JP2011194278A JP2010060919A JP2010060919A JP2011194278A JP 2011194278 A JP2011194278 A JP 2011194278A JP 2010060919 A JP2010060919 A JP 2010060919A JP 2010060919 A JP2010060919 A JP 2010060919A JP 2011194278 A JP2011194278 A JP 2011194278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- droplet ejection
- head
- substrate
- liquid
- nozzles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
- B41M7/0081—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using electromagnetic radiation or waves, e.g. ultraviolet radiation, electron beams
Abstract
【解決手段】ノズル(51)がマトリクス配置されたヘッド(24)を用いたレジスト塗布装置(12)において、基板(20)の搬送方向(y方向)と直交するx方向の標準の打滴ピッチPdをノズルの折り返しピッチとし、x方向の最小ノズル間ピッチPnの単位でx方向の打滴ピッチを変更する。また、y方向について、最小打滴周期のm倍(mは2以上の整数)を標準の打滴周期として、最小打滴周期の単位でディレイ時間を設定する。シリアル方式では、y方向に沿って並べられた複数のノズルを切り換えることでy方向の打滴間隔を変更することができ、x方向に走査する際の打滴タイミングを変更することで、x方向の打滴間隔を変更することができる。
【選択図】図7
Description
(全体構成)
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置の概略構成図である。同図に示すパターン転写装置10は、シリコンや石英ガラスの基板20上にレジスト(UV硬化性樹脂)を塗布するレジスト塗布部12と、基板20上に塗布されたレジストに所望のパターンを転写するパターン転写部14と、基板20を搬送する搬送部22と、を備えて構成される。
次に、ヘッド24の構造について説明する。図2は、ヘッド24の構造例を示す平面透視図である。また、図3(a),(b)は、ヘッド24の他の構造例を示す平面透視図であり、図4は、液滴吐出素子の立体的構成を示す断面図(図2中、A−A線に沿う断面図)である。
図5は、パターン転写装置10の制御系を示すブロック図である。同図に示すように、パターン転写装置10は、通信インターフェース70、システムコントローラ72、メモリ74、モータドライバー76、ヒータドライバー78、打滴制御部80、バッファメモリ82、ヘッドドライバー84等を備えている。
図6は、圧電素子58に供給される駆動信号を生成する駆動信号生成部の構成例を示すブロック図である。かかる駆動信号生成部は、図5の打滴制御部80及びヘッドドライバー84の機能を実現するブロックである。
次に、レジスト溶液のx方向における打滴配置(打滴ピッチ)について説明する。図7(a)〜(c)は、ノズル配置とx方向の打滴配置との関係を説明する図である。図7(a)はマトリクス配置されたノズル51(圧力室52)を模式的に表しており、図示の都合により、図2よりもノズル数を少なくしている。また、図7(b)はx方向に沿って並ぶように投影されたノズル群を表し、図7(c)はレジスト溶液(黒塗りの丸で図示)の打滴位置を表している。
次に、y方向の打滴配置について説明する。図8は、打滴クロックと打滴タイミングとの関係を示す説明図である。y方向の最小打滴ピッチは打滴クロックの周期と基板20の搬送速度とにより決められる。本例に示すパターン転写装置10は、標準の打滴クロックの周期をさらに分割して、標準の打滴クロック間においても打滴ができるように構成されている。すなわち、標準の打滴周期は、最小打滴周期のm倍(但し、mは2以上の整数)となっており、最小打滴周期の単位で遅延時間を決めることができる。
次に、本発明の第2実施形態に係るパターン転写装置(レジスト塗布部)について説明する。本例に示すパターン転写装置は、x方向に沿って複数のノズル351が並べられたノズル行(ノズル群)が一列だけ設けられたヘッド324を具備している。図12(a)に示すヘッド324におけるノズル351の配置ピッチはPnであり、このときのx方向における打滴ピッチPdはx方向のノズル間ピッチPnと同一である。
次に、本発明の第3実施形態に係るパターン転写装置(レジスト塗布部)について説明する。本例に示すパターン転写装置は、基板のx方向の長さ(幅)に満たない短尺ヘッドを、x方向に走査させながらx方向の打滴を行うシリアル型ヘッドを備えている。
上記に詳述した実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書では以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
Claims (12)
- 基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、
前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、
前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、
前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、
を備えたことを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1に記載の液体塗布装置において、
前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、
前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、
前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上のx方向における打滴間隔を可変させることを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1又は2に記載の液体塗布装置において、
前記複数のノズルのそれぞれと連通する液室に液を供給する供給流路を複数備え、
前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングで、異なる供給流路から液の供給を受ける液室と連通するノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の液体塗布装置において、
前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングで、x方向の最小ノズル間隔を超えるx方向の間隔を有する複数のノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1に記載の液体塗布装置において、
前記ヘッドは、x方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有し、
前記x方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドをxy平面内で回転させる回転手段を含むことを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1に記載の液体塗布装置において、
前記ヘッドは、x方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有するサブヘッドをx方向につなげた構造を有し、
前記x方向打滴間隔可変手段は、前記サブヘッドのそれぞれをxy平面内で回転させるサブヘッド回転手段と、各サブヘッドの少なくとも1つをx方向に移動させるx方向移動手段とを含むことを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の液体塗布装置において、
前記打滴制御手段は、前記基板上に液滴を離散的に着弾させるように最小打滴周期のm倍以上(但し、mは2以上の整数)の周期で前記ヘッドを動作させるとともに、前記y方向打滴制御手段を含み、
前記y方向打滴間隔可変手段は、最小打滴周期以上、最小打滴周期の(m−1)倍以下の遅延時間を、最小打滴周期を最小単位として生成する遅延時間生成手段を含み、前記遅延時間生成手段により生成された遅延時間を用いて前記ヘッドの駆動タイミングを遅らせて、y方向における打滴間隔を前記最小打滴周期の単位で可変させることを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項1に記載の液体塗布装置において、
前記ヘッドをx方向に走査させる走査手段と、
前記相対移動手段は、y方向に前記ヘッドと前記基板とを相対的に移動させ、
前記ヘッドは、y方向に沿って複数のノズルが並べられたノズル群を少なくとも1つ具備し、
前記y方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドをxy平面内で回転させる回転手段を含むことを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項8に記載の液体塗布装置において、
前記ヘッドは、y方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有するサブヘッドをy方向につなげた構造を有し、
前記y方向打滴間隔可変手段は、前記サブヘッドのそれぞれをxy平面内で回転させるサブヘッド回転手段と、各サブヘッドの少なくとも1つをy方向に移動させるy方向移動手段とを含むことを特徴とする液体塗布装置。 - 請求項8又は9に記載の液体塗布装置において、
前記打滴制御手段は、前記基板上に液滴を離散的に着弾させるように最小打滴周期のm倍以上(但し、mは2以上の整数)の周期で前記ヘッドを動作させるとともに、前記x方向打滴制御手段を含み、
前記x方向打滴間隔可変手段は、最小打滴周期以上最小打滴周期の(m−1)倍以下の遅延時間を最小打滴周期の単位で生成する遅延時間生成手段を含み、
前記x方向打滴間隔可変手段により遅延時間を用いて前記ヘッドの駆動タイミングを遅らせて、x方向における打滴間隔を前記最小打滴周期の単位で可変させることを特徴とする液体塗布装置。 - 基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと前記基板とを相対的に移動させ、所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記基板上に前記液体を離散的に着弾させる液体塗布方法において、
前記相対移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変工程と、
前記相対方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変工程と、
を含むことを特徴とする液体塗布方法。 - 基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、
前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、
前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、
前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、
前記基板に塗布された液体を硬化させる硬化手段と、
前記硬化手段により硬化させた液体、又は前記硬化手段により硬化させている途中の液体に凹凸パターンが形成された型を押し当てて、当該凹凸パターンを転写する転写手段と、
を備えたことを特徴とするインプリントシステム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010060919A JP5599205B2 (ja) | 2010-03-17 | 2010-03-17 | インプリントシステム |
US13/635,250 US8827400B2 (en) | 2010-03-17 | 2011-03-15 | Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system |
PCT/JP2011/056683 WO2011115282A1 (en) | 2010-03-17 | 2011-03-15 | Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system |
KR1020127027090A KR101574990B1 (ko) | 2010-03-17 | 2011-03-15 | 액체 도포 장치, 액체 도포 방법 및 임프린팅 시스템 |
TW100108856A TW201201250A (en) | 2010-03-17 | 2011-03-16 | Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010060919A JP5599205B2 (ja) | 2010-03-17 | 2010-03-17 | インプリントシステム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011194278A true JP2011194278A (ja) | 2011-10-06 |
JP2011194278A5 JP2011194278A5 (ja) | 2012-10-11 |
JP5599205B2 JP5599205B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=44649361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010060919A Active JP5599205B2 (ja) | 2010-03-17 | 2010-03-17 | インプリントシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8827400B2 (ja) |
JP (1) | JP5599205B2 (ja) |
KR (1) | KR101574990B1 (ja) |
TW (1) | TW201201250A (ja) |
WO (1) | WO2011115282A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016139745A (ja) * | 2015-01-29 | 2016-08-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
TWI610722B (zh) * | 2014-11-06 | 2018-01-11 | 佳能股份有限公司 | 壓印系統和製造物品的方法 |
JP2019016648A (ja) * | 2017-07-04 | 2019-01-31 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置および、物品製造方法 |
JP2020009952A (ja) * | 2018-07-10 | 2020-01-16 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
US11801629B2 (en) | 2017-10-25 | 2023-10-31 | Shibaura Machine Co., Ltd. | Transfer apparatus |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5460541B2 (ja) | 2010-03-30 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリント方法、液滴配置パターン作成方法および基板の加工方法 |
JP5489887B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム |
JP2012015324A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム |
JP6395352B2 (ja) * | 2013-07-12 | 2018-09-26 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 |
WO2015137271A1 (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-17 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
US10468247B2 (en) * | 2016-12-12 | 2019-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography |
US10481491B2 (en) * | 2016-12-12 | 2019-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography |
US10634993B2 (en) * | 2016-12-12 | 2020-04-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography |
US10304690B2 (en) * | 2017-03-22 | 2019-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Fluid dispense methodology and apparatus for imprint lithography |
US20190139789A1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-05-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus for imprint lithography comprising a logic element configured to generate a fluid droplet pattern and a method of using such apparatus |
US11927883B2 (en) | 2018-03-30 | 2024-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus to reduce variation of physical attribute of droplets using performance characteristic of dispensers |
CN113492082A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-10-12 | 镭德杰标识科技武汉有限公司 | 喷涂装置、赋码系统及涂层喷涂方法 |
CN114234791B (zh) * | 2021-12-16 | 2023-03-21 | 四川大学 | 一种基于滴液沉积的复合薄膜应变传感器的制备方法 |
CN114849993B (zh) * | 2022-05-24 | 2023-04-11 | 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 | 点胶固化控制方法、装置、设备、系统及存储介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004070823A1 (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 表示装置の作製方法 |
JP2007273979A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Asml Netherlands Bv | インプリントリソグラフィ |
JP2008502157A (ja) * | 2004-06-03 | 2008-01-24 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | ナノスケール製造技術における流体の分配およびドロップ・オン・デマンド分配技術 |
JP2008062621A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Fujifilm Corp | 液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4644882B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 配線基板製造方法、配線基板、吐出ヘッド及び画像形成装置 |
JP4908369B2 (ja) | 2007-10-02 | 2012-04-04 | 株式会社東芝 | インプリント方法及びインプリントシステム |
-
2010
- 2010-03-17 JP JP2010060919A patent/JP5599205B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-15 WO PCT/JP2011/056683 patent/WO2011115282A1/en active Application Filing
- 2011-03-15 KR KR1020127027090A patent/KR101574990B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-15 US US13/635,250 patent/US8827400B2/en active Active
- 2011-03-16 TW TW100108856A patent/TW201201250A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004070823A1 (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 表示装置の作製方法 |
JP2008502157A (ja) * | 2004-06-03 | 2008-01-24 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | ナノスケール製造技術における流体の分配およびドロップ・オン・デマンド分配技術 |
JP2007273979A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Asml Netherlands Bv | インプリントリソグラフィ |
JP2008062621A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Fujifilm Corp | 液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI610722B (zh) * | 2014-11-06 | 2018-01-11 | 佳能股份有限公司 | 壓印系統和製造物品的方法 |
US10661486B2 (en) | 2014-11-06 | 2020-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint system and method of manufacturing article |
JP2016139745A (ja) * | 2015-01-29 | 2016-08-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
JP2019016648A (ja) * | 2017-07-04 | 2019-01-31 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置および、物品製造方法 |
US11801629B2 (en) | 2017-10-25 | 2023-10-31 | Shibaura Machine Co., Ltd. | Transfer apparatus |
JP2020009952A (ja) * | 2018-07-10 | 2020-01-16 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
JP7157576B2 (ja) | 2018-07-10 | 2022-10-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130010020A1 (en) | 2013-01-10 |
KR20130016291A (ko) | 2013-02-14 |
WO2011115282A1 (en) | 2011-09-22 |
JP5599205B2 (ja) | 2014-10-01 |
KR101574990B1 (ko) | 2015-12-07 |
TW201201250A (en) | 2012-01-01 |
US8827400B2 (en) | 2014-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5599205B2 (ja) | インプリントシステム | |
JP5283647B2 (ja) | パターン転写方法及びパターン転写装置 | |
US8177349B2 (en) | Image forming apparatus and method | |
EP3286006B1 (en) | Print pattern generation on a substrate | |
US20160121605A1 (en) | Drive apparatus for liquid ejection head, liquid ejection apparatus and inkjet recording apparatus | |
JP5936612B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
JP2011194278A5 (ja) | 液体塗布装置及びインプリントシステム | |
JP2011071500A (ja) | パターン転写装置及びパターン形成方法 | |
JP5685467B2 (ja) | パターン形成方法及びパターン形成装置 | |
JP5720151B2 (ja) | 画像記録装置、及び、画像記録方法 | |
US10836159B2 (en) | Apparatus with microelectromechanical die and application specific integrated circuit | |
US7517040B2 (en) | Liquid ejection apparatus with plural heating elements | |
WO2014057876A1 (ja) | ヘッド駆動方法、ヘッド駆動装置およびインクジェット記録装置 | |
US11926095B2 (en) | Three-dimensional object printing apparatus | |
JPWO2006016508A1 (ja) | インクジェット記録装置及びインクジェット記録方法 | |
JP2011049302A (ja) | パターン転写装置及びパターン形成方法 | |
JP5728702B2 (ja) | フィルタ製造装置およびフィルタ製造方法 | |
KR20150130836A (ko) | 잉크젯 마킹방법 및 잉크젯 마킹 시스템 | |
JP5243322B2 (ja) | インクジェット記録装置及びパターン形成方法 | |
WO2022102074A1 (ja) | 印刷方法及びインクジェット記録装置 | |
JP5649460B2 (ja) | 記録ヘッド、画像形成装置及び液体吐出装置 | |
JP2011121279A (ja) | 液体吐出装置及び液体吐出方法 | |
JP2011181646A (ja) | 回路部品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120827 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131114 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140804 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140812 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5599205 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |