JP2011194278A5 - 液体塗布装置及びインプリントシステム - Google Patents

液体塗布装置及びインプリントシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2011194278A5
JP2011194278A5 JP2010060919A JP2010060919A JP2011194278A5 JP 2011194278 A5 JP2011194278 A5 JP 2011194278A5 JP 2010060919 A JP2010060919 A JP 2010060919A JP 2010060919 A JP2010060919 A JP 2010060919A JP 2011194278 A5 JP2011194278 A5 JP 2011194278A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
droplet ejection
liquid
head
substrate
nozzles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010060919A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011194278A (ja
JP5599205B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2010060919A external-priority patent/JP5599205B2/ja
Priority to JP2010060919A priority Critical patent/JP5599205B2/ja
Priority to US13/635,250 priority patent/US8827400B2/en
Priority to PCT/JP2011/056683 priority patent/WO2011115282A1/en
Priority to KR1020127027090A priority patent/KR101574990B1/ko
Priority to TW100108856A priority patent/TW201201250A/zh
Publication of JP2011194278A publication Critical patent/JP2011194278A/ja
Publication of JP2011194278A5 publication Critical patent/JP2011194278A5/ja
Publication of JP5599205B2 publication Critical patent/JP5599205B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

上記目的を達成するために、本発明に係る液体塗布装置は、基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、を備え、前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上の前記x方向における打滴間隔を可変させることを特徴とする。
(発明1):基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、を備え、前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上の前記x方向における打滴間隔を可変させることを特徴とする。
発明1によれば、x方向について使用されるノズルを切り換えることで打滴ピッチを変更することができ、液体の配置が最適化される。
発明1において、x方向について打滴配置を離散的にする態様として、ノズルのマトリクス配置の折り返しピッチをx方向の標準の打滴ピッチとする態様が挙げられる。
(発明):発明1に記載の液体塗布装置において、前記複数のノズルのそれぞれと連通する液室に液を供給する供給流路を複数備え、前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングにおいて、異なる供給流路から液の供給を受ける液室と連通するノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする。
(発明3):発明2に記載の液体塗布装置において、前記x方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドの前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造におけるノズルの折り返しピッチを前記x方向の標準の打滴間隔とすることを特徴とする。(発明4):発明1乃至3のいずれかに記載の液体塗布装置において、前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングにおいて前記x方向の最小ノズル間隔を超える前記x方向の間隔を有する複数のノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする。
(発明5):発明1から4のいずれかに記載の液体塗布装置において、前記ヘッドは、前記列方向に沿って配置されたノズルと連通する圧力室は、同一の供給流路と連通される構造を有することを特徴とする液体塗布装置。発明1に記載の液体塗布装置において、前記ヘッドは、x方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有し、前記x方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドをxy平面内で回転させる回転手段を含む態様もありうる
明1に記載の液体塗布装置において、前記ヘッドは、x方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有するサブヘッドをx方向につなげた構造を有し、前記x方向打滴間隔可変手段は、前記サブヘッドのそれぞれをxy平面内で回転させるサブヘッド回転手段と、各サブヘッドの少なくとも1つをx方向に移動させるx方向移動手段とを含む態様もありうる
(発明):発明1乃至のいずれかに記載の液体塗布装置において、前記打滴制御手段は、前記基板上に液滴を離散的に着弾させるように最小打滴周期のm倍以上(但し、mは2以上の整数)の周期で前記ヘッドを動作させるとともに、前記y方向打滴制御手段を含み、前記y方向打滴間隔可変手段は、最小打滴周期以上、最小打滴周期の(m−1)倍以下の遅延時間を、最小打滴周期を最小単位として生成する遅延時間生成手段を含み、前記遅延時間生成手段により生成された遅延時間を用いて前記ヘッドの駆動タイミングを遅らせて、前記y方向における打滴間隔を前記最小打滴周期の単位で可変させることを特徴とする。
明1に記載の液体塗布装置において、前記ヘッドをx方向に走査させる走査手段と、前記相対移動手段は、y方向に前記ヘッドと前記基板とを相対的に移動させ、前記ヘッドは、y方向に沿って複数のノズルが並べられたノズル群を少なくとも1つ具備し、前記y方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドをxy内で回転させる回転手段を含む態様もありうる
に記載の液体塗布装置において、前記ヘッドは、y方向に前記複数のノズルが並べられた構造を有するサブヘッドをy方向につなげた構造を有し、前記y方向打滴間隔可変手段は、前記サブヘッドのそれぞれをxy平面内で回転させるサブヘッド回転手段と、各サブヘッドの少なくとも1つをy方向に移動させるy方向移動手段とを含む態様もありうる
前記液体塗布装置において、前記打滴制御手段は、前記基板上に液滴を離散的に着弾させるように最小打滴周期のm倍以上(但し、mは2以上の整数)の周期で前記ヘッドを動作させるとともに、前記x方向打滴制御手段を含み、前記x方向打滴間隔可変手段は、最小打滴周期以上最小打滴周期の(m−1)倍以下の遅延時間を最小打滴周期の単位で生成する遅延時間生成手段を含み、前記x方向打滴間隔可変手段により遅延時間を用いて前記ヘッドの駆動タイミングを遅らせて、x方向における打滴間隔を前記最小打滴周期の単位で可変させる態様もありうる
本明細書は、基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと前記基板とを相対的に移動させ、所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記基板上に前記液体を離散的に着弾させる液体塗布方法において、前記相対移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変工程と、前記相対方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変工程と、を含むことを特徴とする液体塗布方法を開示する
(発明):基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、前記基板に塗布された液体を硬化させる硬化手段と、前記硬化手段により硬化させた液体、又は前記硬化手段により硬化させている途中の液体に凹凸パターンが形成された型を押し当てて、当該凹凸パターンを転写する転写手段と、を備え、前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上の前記x方向における打滴間隔を可変させることを特徴とするインプリントシステム

Claims (7)

  1. 基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、
    前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
    所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、
    前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、
    前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、
    を備え
    前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、
    前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、
    前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上の前記x方向における打滴間隔を可変させることを特徴とする液体塗布装置。
  2. 請求項1に記載の液体塗布装置において、
    前記複数のノズルのそれぞれと連通する液室に液を供給する供給流路を複数備え、
    前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングにおいて、異なる供給流路から液の供給を受ける液室と連通するノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする液体塗布装置。
  3. 請求項2に記載の液体塗布装置において、
    前記x方向打滴間隔可変手段は、前記ヘッドの前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造におけるノズルの折り返しピッチを前記x方向の標準の打滴間隔とすることを特徴とする液体塗布装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれかに記載の液体塗布装置において、
    前記打滴制御手段は、同一の打滴タイミングにおいて前記x方向の最小ノズル間隔を超える前記x方向の間隔を有する複数のノズルから液体を打滴するように前記ヘッドを動作させることを特徴とする液体塗布装置。
  5. 請求項1から4のいずれかに記載の液体塗布装置において、
    前記ヘッドは、前記列方向に沿って配置されたノズルと連通する圧力室は、同一の供給流路と連通される構造を有することを特徴とする液体塗布装置。
  6. 請求項1乃至5のいずれかに記載の液体塗布装置において、
    前記打滴制御手段は、前記基板上に液滴を離散的に着弾させるように最小打滴周期のm倍以上(但し、mは2以上の整数)の周期で前記ヘッドを動作させるとともに、前記y方向打滴制御手段を含み、
    前記y方向打滴間隔可変手段は、最小打滴周期以上、最小打滴周期の(m−1)倍以下の遅延時間を、最小打滴周期を最小単位として生成する遅延時間生成手段を含み、前記遅延時間生成手段により生成された遅延時間を用いて前記ヘッドの駆動タイミングを遅らせて、前記y方向における打滴間隔を前記最小打滴周期の単位で可変させることを特徴とする液体塗布装置。
  7. 基板上に機能性を有する液体を打滴するための複数のノズルを具備するヘッドと、
    前記基板と前記ヘッドとを相対的に移動させる相対移動手段と、
    所定の打滴周期で前記ヘッドを動作させて前記液体を前記基板上に離散的に着弾させる打滴制御手段と、
    前記相対移動手段の移動方向と直交するx方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるx方向打滴間隔可変手段と、
    前記相対移動手段の移動方向と平行のy方向について、前記基板上の打滴間隔を可変させるy方向打滴間隔可変手段と、
    前記基板に塗布された液体を硬化させる硬化手段と、
    前記硬化手段により硬化させた液体、又は前記硬化手段により硬化させている途中の液体に凹凸パターンが形成された型を押し当てて、当該凹凸パターンを転写する転写手段と、
    を備え
    前記ヘッドは、前記x方向に沿う行方向及び前記x方向と角度θをなす斜めの列方向、又は前記x方向と所定の角度γ(但し、0<γ<90°)をなす方向に沿う行方向及び前記y方向と所定の角度α(但し、0<α<90°)をなす方向に沿う列方向について前記複数のノズルがマトリクス状に並べられた構造を有し、
    前記打滴制御手段は、前記x方向打滴間隔可変手段を含み、
    前記x方向打滴間隔可変手段は、使用されるノズルを切り換えて、前記複数のノズルを前記x方向に並ぶように投影した投影ノズル群におけるノズル間隔のn倍(但し、nは正の整数)の単位で、基板上の前記x方向における打滴間隔を可変させることを特徴とするインプリントシステム。
JP2010060919A 2010-03-17 2010-03-17 インプリントシステム Active JP5599205B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060919A JP5599205B2 (ja) 2010-03-17 2010-03-17 インプリントシステム
US13/635,250 US8827400B2 (en) 2010-03-17 2011-03-15 Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system
PCT/JP2011/056683 WO2011115282A1 (en) 2010-03-17 2011-03-15 Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system
KR1020127027090A KR101574990B1 (ko) 2010-03-17 2011-03-15 액체 도포 장치, 액체 도포 방법 및 임프린팅 시스템
TW100108856A TW201201250A (en) 2010-03-17 2011-03-16 Liquid application apparatus, liquid application method and imprinting system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060919A JP5599205B2 (ja) 2010-03-17 2010-03-17 インプリントシステム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011194278A JP2011194278A (ja) 2011-10-06
JP2011194278A5 true JP2011194278A5 (ja) 2012-10-11
JP5599205B2 JP5599205B2 (ja) 2014-10-01

Family

ID=44649361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010060919A Active JP5599205B2 (ja) 2010-03-17 2010-03-17 インプリントシステム

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8827400B2 (ja)
JP (1) JP5599205B2 (ja)
KR (1) KR101574990B1 (ja)
TW (1) TW201201250A (ja)
WO (1) WO2011115282A1 (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5460541B2 (ja) 2010-03-30 2014-04-02 富士フイルム株式会社 ナノインプリント方法、液滴配置パターン作成方法および基板の加工方法
JP2012015324A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Fujifilm Corp 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム
JP5489887B2 (ja) 2010-06-30 2014-05-14 富士フイルム株式会社 液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステム
JP6395352B2 (ja) * 2013-07-12 2018-09-26 キヤノン株式会社 インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
WO2015137271A1 (ja) * 2014-03-10 2015-09-17 武蔵エンジニアリング株式会社 塗布装置および塗布方法
JP6478565B2 (ja) * 2014-11-06 2019-03-06 キヤノン株式会社 インプリントシステム及び物品の製造方法
JP6440510B2 (ja) * 2015-01-29 2018-12-19 東レエンジニアリング株式会社 塗布装置及び塗布方法
US10634993B2 (en) * 2016-12-12 2020-04-28 Canon Kabushiki Kaisha Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
US10481491B2 (en) * 2016-12-12 2019-11-19 Canon Kabushiki Kaisha Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
US10468247B2 (en) * 2016-12-12 2019-11-05 Canon Kabushiki Kaisha Fluid droplet methodology and apparatus for imprint lithography
US10304690B2 (en) 2017-03-22 2019-05-28 Canon Kabushiki Kaisha Fluid dispense methodology and apparatus for imprint lithography
JP6938247B2 (ja) * 2017-07-04 2021-09-22 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置および、物品製造方法
CN109709766B (zh) 2017-10-25 2023-06-16 东芝机械株式会社 转印装置
US20190139789A1 (en) 2017-11-06 2019-05-09 Canon Kabushiki Kaisha Apparatus for imprint lithography comprising a logic element configured to generate a fluid droplet pattern and a method of using such apparatus
US11927883B2 (en) 2018-03-30 2024-03-12 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus to reduce variation of physical attribute of droplets using performance characteristic of dispensers
JP7157576B2 (ja) * 2018-07-10 2022-10-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
CN113492082A (zh) * 2021-06-30 2021-10-12 镭德杰标识科技武汉有限公司 喷涂装置、赋码系统及涂层喷涂方法
CN114234791B (zh) * 2021-12-16 2023-03-21 四川大学 一种基于滴液沉积的复合薄膜应变传感器的制备方法
CN114849993B (zh) * 2022-05-24 2023-04-11 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 点胶固化控制方法、装置、设备、系统及存储介质

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101069333B1 (ko) * 2003-02-05 2011-10-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치의 제조방법
EP1768846B1 (en) * 2004-06-03 2010-08-11 Molecular Imprints, Inc. Fluid dispensing and drop-on-demand dispensing for nano-scale manufacturing
JP4644882B2 (ja) * 2005-05-30 2011-03-09 富士フイルム株式会社 配線基板製造方法、配線基板、吐出ヘッド及び画像形成装置
US8001924B2 (en) * 2006-03-31 2011-08-23 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP4827668B2 (ja) * 2006-09-11 2011-11-30 富士フイルム株式会社 液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法
JP4908369B2 (ja) 2007-10-02 2012-04-04 株式会社東芝 インプリント方法及びインプリントシステム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011194278A5 (ja) 液体塗布装置及びインプリントシステム
JP5599205B2 (ja) インプリントシステム
JP2012011310A5 (ja)
WO2017016202A1 (zh) 喷墨打印喷头、喷墨打印方法和喷墨打印设备
JP5283647B2 (ja) パターン転写方法及びパターン転写装置
CN110450542B (zh) 一种喷墨打印装置
JP2008520474A5 (ja)
WO2011079288A3 (en) Inkjet printhead module with adjustable alignment
JP2011071500A (ja) パターン転写装置及びパターン形成方法
JP2010005619A5 (ja)
JP5244758B2 (ja) 溶液の塗布装置及び塗布方法
TW200638069A (en) A droplet ejection apparatus, a method of manufacturing a panel from a base, an image display apparatus and an electronic apparatus
JP2013256075A5 (ja)
JP2016068290A (ja) インクジェット印刷装置とその方法
JP2008528335A5 (ja)
TW200745695A (en) Droplet ejection apparatus, method for forming functional film, apparatus for forming liquid crystal alignment film, method for forming liquid crystal alignment film of liquid crystal display, and liquid crystal display
CN110549747B (zh) 一种喷墨打印装置以及制备薄膜的方法
JP2012133137A5 (ja) 配向膜形成液の塗布装置および配向膜形成基板の製造方法
US11926095B2 (en) Three-dimensional object printing apparatus
CN110667116A (zh) 一种3d打印机多喷头校准机构及其校准喷头的方法
CN207825736U (zh) 一种点状图形喷墨打印系统
CN110406266B (zh) 喷墨打印装置和喷墨打印方法
CN211390163U (zh) 一种3d打印机多喷头校准机构
JP2019217669A (ja) 印刷方法および印刷装置
JP5281989B2 (ja) パターン転写装置及びパターン形成方法