JP2011184289A - 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 - Google Patents
配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011184289A JP2011184289A JP2011023451A JP2011023451A JP2011184289A JP 2011184289 A JP2011184289 A JP 2011184289A JP 2011023451 A JP2011023451 A JP 2011023451A JP 2011023451 A JP2011023451 A JP 2011023451A JP 2011184289 A JP2011184289 A JP 2011184289A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- crystal
- oriented
- ceramic
- piezoelectric element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 31
- 239000000428 dust Substances 0.000 title claims description 27
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 207
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 46
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 4
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 33
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 27
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 22
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 20
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 3
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical group [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100513612 Microdochium nivale MnCO gene Proteins 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8536—Alkaline earth metal based oxides, e.g. barium titanates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1646—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by sputtering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G45/00—Compounds of manganese
- C01G45/006—Compounds containing, besides manganese, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
- C04B35/4682—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
- C04B35/6262—Milling of calcined, sintered clinker or ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/6265—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering involving reduction or oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/64—Burning or sintering processes
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N2/00—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction
- H02N2/10—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors
- H02N2/16—Electric machines in general using piezoelectric effect, electrostriction or magnetostriction producing rotary motion, e.g. rotary motors using travelling waves, i.e. Rayleigh surface waves
- H02N2/163—Motors with ring stator
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/093—Forming inorganic materials
- H10N30/097—Forming inorganic materials by sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3201—Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3206—Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3208—Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3215—Barium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
- C04B2235/3236—Alkaline earth titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3239—Vanadium oxides, vanadates or oxide forming salts thereof, e.g. magnesium vanadate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3251—Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3256—Molybdenum oxides, molybdates or oxide forming salts thereof, e.g. cadmium molybdate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3258—Tungsten oxides, tungstates, or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3262—Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3262—Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
- C04B2235/3267—MnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3281—Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3298—Bismuth oxides, bismuthates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc bismuthate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5427—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof millimeter or submillimeter sized, i.e. larger than 0,1 mm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
- C04B2235/6027—Slip casting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/605—Making or treating the green body or pre-form in a magnetic field
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6567—Treatment time
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6583—Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/765—Tetragonal symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/767—Hexagonal symmetry, e.g. beta-Si3N4, beta-Sialon, alpha-SiC or hexa-ferrites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/768—Perovskite structure ABO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/78—Grain sizes and shapes, product microstructures, e.g. acicular grains, equiaxed grains, platelet-structures
- C04B2235/787—Oriented grains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【解決手段】酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Bに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Bの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cからなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有する配向性酸化物セラミックスの製造方法。(1)原料を反応、(2)酸化物結晶Aを還元、または(3)酸化物結晶Aを高温に保持、急冷することで得られた酸化物結晶Bを含むスラリーを用いることができる。
【選択図】なし
Description
ところが、非特許文献2によれば、正方晶ペロブスカイト構造圧電材料では、<111>方向に電圧を印加することで、エンジニアードドメイン構造が形成され、良好な圧電性が得られることが報告されている。つまり、高性能な圧電素子作成のためには、(111)配向したセラミックスを作成すればよい。しかし、正方晶チタン酸バリウムの磁化容易軸は<001>であるため、(111)配向したチタン酸バリウムセラミックスは、磁場配向では容易に作成することができなかった。
本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、(111)配向した酸化物セラミックスの製造方法を提供するものである。また本発明は、上記の製造方法により得られた配向性酸化物セラミックスを用いた圧電素子、及び前記圧電素子を用いた液体吐出ヘッド、超音波モータ、および塵埃除去装置を提供するものである。
本発明の第五の様態は、前記圧電素子を用いた超音波モータである。
本発明の第六の様態は、前記圧電素子を用いた塵埃除去装置である。
また本発明は、上記の製造方法により得られた配向性酸化物セラミックスを用いた圧電素子、及び前記圧電素子を用いた液体吐出ヘッド、超音波モータ、および塵埃除去装置を提供することができる。
本発明に係る配向性酸化物セラミックスの製造方法は、酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Bに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Bの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cの成形体からなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有することを特徴とする。
本発明における、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cとは、酸化物結晶Cが酸化物結晶Bの有さない結晶系を有する場合である。例えば、酸化物結晶Bが六方晶であり、酸化物結晶Cが正方晶の場合である。また、酸化物結晶Cが有する結晶系の数が酸化物結晶Bの有する結晶系の数よりも少ない場合も該当する。例えば、酸化物結晶Bが正方晶と六方晶を有し、酸化物結晶Cが正方晶のみを有する場合である。
酸化物結晶Bの具体例として、六方晶のBaTi0.9Mn0.05O3+β、BaTi0.9Cu0.05O2.85等の結晶が挙げられる。これらの結晶は、炭酸バリウム、酸化チタン、酸化マンガン、酸化銅等の固相反応により作成される。酸化物結晶Bは固相反応でも作成されるが、大量生産、粒径制御に優れた水熱合成法やシュウ酸法など別の手法で作成してもかまわない。
酸化物結晶Bの具体例として、六方晶のチタン酸バリウムが挙げられる。六方晶のチタン酸バリウムは、正方晶のチタン酸バリウム(酸化物結晶A)を水素雰囲気中で1400〜1500℃に保持することで得られる。還元処理後に、酸化物結晶Bの結晶系が変化しない条件下で熱処理を加えることもある。
酸化物結晶Bの具体例として、六方晶のチタン酸バリウムが挙げられる。室温で正方晶のチタン酸バリウム(酸化物結晶A)を約1500℃以上に保持すると六方晶のチタン酸バリウムへと相転移が起こる。相転移の後に急冷することで、室温で六方晶のチタン酸バリウムが得られる。
次に、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶構造を有する酸化物結晶Cからなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を行う。
ロットゲーリングファクター(F)の算出法は、対象とする結晶面から回折されるX線のピーク強度を用いて、式2により計算する。
ここで、ρ0は無配向試料のX線の回折強度(I0)を用いて計算される。(001)配向した正方晶結晶のロットゲーリングファクターを計算する場合、無配向試料の全回折強度の和に対する、00l回折強度の合計の割合として、式3により求める。
ρは配向サンプルのX線の回折強度(I)を用いて計算され、(001)配向した正方晶結晶の場合、全回折強度の和に対する、00l回折強度の合計の割合として、上式3と同様に式4により求める。
無配向試料のロットゲーリングファクターはゼロである。ロットゲーリングファクターが5%以上のとき、配向性セラミックスであると判断できる。
本発明で述べる同じ金属組成とは、還元処理、酸化処理、焼成などの工程で起こる蒸発などに起因する、最大で5%の金属組成変化を許容する。
よって、酸化物結晶Bの結晶構造は6H型六方晶であることが好ましい。酸化物結晶Bが6H型六方晶チタン酸バリウムであるとさらに好ましい。
xが0.02以下の場合は、磁場配向で十分な効果を得られる量の六方晶結晶を得ることができない。xが0.05よりも大きくなると、得られる配向性酸化物セラミックスの圧電性が低下するので好ましくない。
本発明に係る圧電素子は、第一の電極、圧電セラミックスおよび第二の電極を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電セラミックスが上記の圧電セラミックスであることを特徴とする。
第一の電極と第二の電極の製造方法は限定されず、金属ペーストの焼き付けにより形成しても良いし、スパッタ、蒸着法などにより形成してもよい。また第一の電極と第二の電極とも所望の形状にパターニングして用いても良い。
本発明の液体吐出ヘッドに含まれる圧電素子101の近傍を図1(a)で詳細に説明する。図1(a)は、図1(b)に示された圧電素子の幅方向の断面図である。圧電素子101の断面形状は矩形で表示されているが、台形や逆台形でもよい。
なお、これらの名称の違いはデバイスの製造方法によるものであり、いずれの場合でも本発明の効果は得られる。
バッファ層108の厚みは、5nm以上300nm以下であり、好ましくは10nm以上200nm以下である。
吐出口105の大きさは、円相当径で5μm以上40μm以下である。吐出口105の形状は、円形であっても良いし、星型や角型状、三角形状でも良い。
図2は、本発明の超音波モータの構成の一実施態様を示す概略図である。
本発明の圧電素子が単板からなる超音波モータを、図2(a)に示す。超音波モータは、振動子201、振動子201の摺動面に不図示の加圧バネによる加圧力で接触しているロータ202、ロータ202と一体的に設けられた出力軸203を有する。前記振動子201は、金属の弾性体リング2011、本発明の圧電素子2012、圧電素子2012を弾性体リング2011に接着する有機系接着剤2013(エポキシ系、シアノアクリレート系など)で構成される。本発明の圧電素子2012は、不図示の第一の電極と第二の電極によって挟まれた圧電セラミックスで構成される。
圧電セラミックスに電圧を印加すると、圧電横効果によって圧電セラミックスは伸縮する。金属などの弾性体が圧電素子に接合している場合、弾性体は圧電セラミックスの伸縮によって曲げられる。ここで説明された種類の超音波モータは、この原理を利用したものである。
ロータ205は、加圧用のバネ206により振動子204と加圧接触し、駆動のための摩擦力を得る。ロータ205はベアリングによって回転可能に支持されている。
図3(a)および図3(b)は本発明の塵埃除去装置の一実施態様を示す概略図である。塵埃除去装置310は板状の圧電素子330と振動板320より構成される。振動板320の材質は限定されないが、塵埃除去装置310を光学デバイスに用いる場合には透光性材料や光反射性材料を振動板320として用いることができる。
磁場を印加しない環境下で、正方晶BaTiO3結晶の鋳込み成型を行い、成形体を作成した。まず、固相反応で作成した正方晶BaTiO3結晶粉末と水、分散剤を含むスラリーを作成した。代表的なスラリーの成分は、酸化物粉末が60重量%、カルボン酸系の分散剤が2重量%、水が38重量%であった。粒子を分散させてスラリーの粘度を下げるためには、分散剤の種類と量はこの限りではない。スラリー中の粒子は、動的光散乱で評価される粒径が概ね1ミクロン以下になるまでボールミルで混合、解砕された。
得られたスラリーを石膏型に流し込み、鋳込み成形で成形体を作成した。石膏型の形状は原則任意である。本発明中での比較例および実施例では、中心に円筒状の穴(直径24mm、深さ10mm)の空いた直方体状の石膏型1を用いた。図6に示すように、穴の壁面をフィルムで覆った。石膏型にスラリーを流し込んだ後、スラリー中の水分がある程度石膏型に吸収されて、スラリーが成形体となるまで放置した。その後石膏型から成形体を取り出した。取り出した成形体は24時間空気中で乾燥させた。
得られた成形体を空気中1300〜1400℃で2〜6時間焼成して、試料Aが得られた。その後X線回折によって試料Aの構成相と結晶配向を評価した。その結果、試料Aは無配向の正方晶結晶であった(図7(a))。
比較例1に示された鋳込み成型を、図6に示されるように、超伝導磁石によって発生した10Tの垂直磁場下で行った。スラリー中の水分がある程度石膏型に吸収され、スラリーが成形体となってから石膏型を磁場中から取り出した。その後一晩乾燥させた後に石膏型から成形体を取り出した。得られた成形体を空気中1300〜1400℃で2〜6時間焼成して、試料Bが得られた。試料Bの表面を研磨した後にX線回折測定を行ったところ、試料Bは(001)配向した正方晶結晶であった(図7(b))。この時、(111)配向度を示すロットゲーリングファクターは−12%であった。ロットゲーリングファクターの計算には、波長0.15406nmのX線による回折角度(2θ)で20°から50°の間のピークを用いた(以後も同様)。
以上に示したように、正方晶チタン酸バリウムは、無磁場での鋳込み成形では当然配向せず、磁場があっても(001)配向してしまう。つまり、酸化物結晶Bが正方晶のチタン酸バリウムのみである場合、(111)配向した正方晶チタン酸バリウムは磁場中での鋳込み成型では容易には得られない。
モル比がBa:Ti:Mn=1.00:0.98:0.01で表される組成の粉末を作成した。
原料には、炭酸バリウム、酸化チタン、酸化マンガンを用いた。各粉末を目的の組成になるように秤量し混合した。混合された粉末は大気中900から1250℃で、2から20時間かけて仮焼した。次に得られた仮焼粉をボールミルで粉砕し、50から250ミクロンの篩で分級した。仮焼から分級までの工程を1から2回行った。
上記仮焼粉に、仮焼粉中のMnと同モル数のNbを与えるNb2O5粉末を混合して酸化物粉末を作成した。
スラリーの中では、酸化物結晶Bが磁場によるトルクによって配向する。
モル比がBa:Ti:Mn=1.00:0.96:0.02で表される組成の粉末を作成した。手法は比較例3と同様である。得られた仮焼粉は茶色であった。X線回折測定によると、試料は正方晶結晶と六方晶結晶の二相で構成されていた。
モル比がBa:Ti:Mn=1.00:0.9:0.05で表される組成の粉末を作成した。手法は比較例3と同様である。得られた仮焼粉は茶色であった。X線回折測定によると、試料は比較例3や4とは異なり、六方晶結晶のみで構成されていた(図8(b))。
さらに比較例3と同様な手法で鋳込み成型を行い、成形体を作成した。
得られた成形体は(001)配向した六方晶チタン酸バリウムであった。スラリー作成時に加えられたNb2O5結晶は僅かであるため、X線回折では検出されなかった。
得られた成形体を空気中1300〜1400℃で2〜6時間焼成して、試料Eが得られた。試料Eの表面を研磨した後にX線回折測定を行ったところ、試料Eは(111)配向した正方晶結晶であった。図10に示すように強い111回折が観察された。(111)配向度を示すロットゲーリングファクターは76%であった。
実施例1ではスラリーに、Mnと同じモル数となるNbの酸化物粉末を加えているが、Nbの代わりにW、V、もしくはTaを加えた実験を行い、試料F、G、Hを得た。試料F、G、Hは(111)配向した正方晶結晶であり、(111)配向度を示すロットゲーリングファクターはそれぞれ83、61、53%であった。
実施例1ではスラリーに、Mnと同じモル数となるNbの酸化物粉末を加えているが、Nbの代わりにMoもしくはTiを加えた実験を行い、試料I、Jを得た。試料I、Jを構成する結晶は、焼成後も正方晶に変化することはなく、六方晶結晶のままであった。(111)配向した正方晶結晶は得られなかった。つまり、焼成によって六方晶結晶を正方晶結晶に変化させるためには、少なくともTiよりも価数の高い元素が必要であった。
水熱合成法で作成された正方晶チタン酸バリウム粉末(粒径は約100nm)を還元処理して酸化物結晶Bの粉末を得た。還元処理は、大気圧で水素の体積濃度が99%以上であり、温度が1400〜1500℃の雰囲気で30分から120分間行われた。還元処理した粉末をX線回折で評価したところ、構成相は六方晶チタン酸バリウムであった。本還元処理によってチタン酸バリウム粉末の重量が0.2重量%減少した。また粉末の色は白から青に変わった。還元温度を1250℃まで低下させると、六方晶チタン酸バリウムも検出できたが、正方晶チタン酸バリウムが主相であった。主相とは、X線回折を行った場合に、最大のピークを与える相のことである。
1450℃で還元された六方晶チタン酸バリウム粉末を、空気中1000℃で1〜6時間熱処理した。粉末の色は薄い青色となったが、粉末の構成相は熱処理の前後で変化はなかった。本熱処理を実施しなければ、最終的に得られる正方晶チタン酸バリウムの(111)配向度が低下することがあった。
成形体を1200から1400℃で空気中で1から6時間、酸化・焼成して配向性酸化物セラミックス(試料K)を得た。試料Kの相対密度は94%以上であった。
実施例5との比較のために、実施例5で行った鋳込み成型を無磁場環境下で行った。得られた六方晶チタン酸バリウムの成形体はc軸には配向していなかった。成形体を空気中1300℃で6時間焼成して試料Lを得た。試料Lの結晶系は正方晶であったが、結晶配向はランダムであった。
まず試料KとLを研磨して厚みを0.5mmとした。スパッタ法を用いて、表裏に接着層としてTi層(厚み3から10nm)を形成し、続いて金電極(200から300nm)を作成した。その後10×2.5×0.5t mmサイズの短冊状に切断した。
分極処理を施した試料の圧電定数d31を共振反共振法で測定した。結果を表2に示す。無配向の試料と比較して(111)配向した試料は大きな圧電定数を示すことが確認された。
水熱合成法で作成された正方晶チタン酸バリウム粉末(粒径は約100nm)を、冷間静水等方圧プレスなどの方法で押し固め、棒状の成形体を作成した。この成形体を、例えば浮遊帯溶融法装置を用いるなどして1500℃以上に加熱した後に急冷して六方晶チタン酸バリウムを得た。六方晶チタン酸バリウムは正方晶チタン酸バリウムの高温相であるが、急冷することで室温でも準安定相として六方晶構造を維持する。得られた結晶を酸化物結晶Bとして、実施例5と同様に磁場中で鋳込み成型を行い、成形体を作成した。得られた成形体は(001)配向した六方晶チタン酸バリウムであった。成形体を1300から1400℃で空気中で1から6時間、酸化・焼成して配向性酸化物セラミックス(試料M)を得た。試料Mの相対密度は94%以上であった。X線回折測定によると、焼成された試料Mは正方晶チタン酸バリウム単相であった。記録されたX線回折パターンは、図10と同様に、無配向試料と比較して111回折の相対強度が強いパターンであった。すなわち得られたセラミックスは(111)配向していた。
102 個別液室
103 振動板
104 液室隔壁
105 吐出口
106 連通孔
107 共通液室
108 バッファ層
1011 第一の電極
1012 圧電セラミックス
1013 第二の電極
201 振動子
202 ロータ
203 出力軸
204 振動子
205 ロータ
206 バネ
2011 弾性体リング
2012 圧電素子
2013 有機系接着剤
2041 金属弾性体
2042 積層圧電素子
310 塵埃除去装置
330 圧電素子
320 振動板
330 圧電素子
331 圧電セラミックス
332 第1の電極
333 第2の電極
336 第1の電極面
337 第2の電極面
310 塵埃除去装置
320 振動板
330 圧電素子
1 石膏型
2 フィルム
Claims (14)
- 酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Bに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Bの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cの成形体からなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有することを特徴とする配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程は、原料を反応させて酸化物結晶Bを得る工程と、前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程からなることを特徴とする請求項1に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程は、酸化物結晶Aを還元処理して、前記酸化物結晶Aの結晶系とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Bを得る工程と、前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程からなることを特徴とする請求項1に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程は、酸化物結晶Aを高温に保持、急冷して、前記酸化物結晶Aの結晶系とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Bを得る工程と、前記酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程からなることを特徴とする請求項1に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記酸化物結晶Aと酸化物結晶Cの金属組成が等しいことを特徴とする請求項3または4に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記酸化物結晶Bが六方晶のチタン酸バリウムであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記配向性酸化物セラミックスが圧電体であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 前記配向性酸化物セラミックスの結晶構造がペロブスカイト構造である請求項1乃至7のいずれか1項に記載の配向性酸化物セラミックスの製造方法。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする配向性酸化物セラミックス。
- 第一の電極、圧電材料及び第二の電極を有する圧電素子であって、前記圧電材料が請求項9または10に記載の配向性酸化物セラミックスであることを特徴とする圧電素子。
- 請求項11に記載の圧電素子を用いた液体吐出ヘッド。
- 請求項11に記載の圧電素子を用いた超音波モータ。
- 請求項11に記載の圧電素子を用いた塵埃除去装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011023451A JP5734688B2 (ja) | 2010-02-10 | 2011-02-07 | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
US13/023,043 US8632723B2 (en) | 2010-02-10 | 2011-02-08 | Manufacturing method for preferentially-oriented oxide ceramics, preferentially-oriented oxide ceramics, piezoelectric element, liquid discharge head, ultrasonic motor, and dust removing device |
US13/829,596 US8698380B2 (en) | 2010-02-10 | 2013-03-14 | Preferentially-oriented oxide ceramics, piezoelectric element, liquid discharge head, ultrasonic motor, and dust removing device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010028179 | 2010-02-10 | ||
JP2010028179 | 2010-02-10 | ||
JP2011023451A JP5734688B2 (ja) | 2010-02-10 | 2011-02-07 | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011184289A true JP2011184289A (ja) | 2011-09-22 |
JP5734688B2 JP5734688B2 (ja) | 2015-06-17 |
Family
ID=44353142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011023451A Active JP5734688B2 (ja) | 2010-02-10 | 2011-02-07 | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8632723B2 (ja) |
JP (1) | JP5734688B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011184288A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-09-22 | Canon Inc | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
JP2012066987A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Tdk Corp | 六方晶系チタン酸バリウム粉末、その製造方法、誘電体磁器組成物および電子部品 |
WO2013054432A1 (ja) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | 株式会社ユーテック | ポーリング処理方法、磁場ポーリング装置及び圧電体膜 |
JP2014012620A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Murata Mfg Co Ltd | 配向性セラミックの製造方法、及び配向性セラミック、並びにセラミック電子部品 |
JP2014062034A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-04-10 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 |
JP2014062032A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-04-10 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 |
JP2015113244A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 誘電体セラミックス、誘電体セラミックスの製造方法およびセラミック電子部品 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010125987A1 (en) | 2009-04-27 | 2010-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Tungsten bronze-type piezoelectric material and production method therefor |
KR101378273B1 (ko) | 2009-09-30 | 2014-03-25 | 캐논 가부시끼가이샤 | 텅스텐 브론즈 구조 금속 산화물을 포함하는 압전 재료 |
JP5734688B2 (ja) * | 2010-02-10 | 2015-06-17 | キヤノン株式会社 | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
JP5599203B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-10-01 | キヤノン株式会社 | 圧電薄膜、圧電素子、圧電素子の製造方法、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ |
JP5676910B2 (ja) | 2010-04-27 | 2015-02-25 | キヤノン株式会社 | セラミクスの製造方法および圧電材料 |
JP5932216B2 (ja) | 2010-12-22 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | 圧電セラミックス、その製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置、光学デバイスおよび電子機器 |
JP5864168B2 (ja) | 2010-12-28 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
JP6016333B2 (ja) | 2011-05-27 | 2016-10-26 | キヤノン株式会社 | ニオブ酸ナトリウム粉末、ニオブ酸ナトリウム粉末の製造方法、板状粒子、板状粒子の製造方法、配向セラミックスの製造方法 |
JP6063672B2 (ja) | 2011-09-06 | 2017-01-18 | キヤノン株式会社 | 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、圧電音響部品、および電子機器 |
CN107755365B (zh) * | 2012-03-16 | 2021-06-22 | 佳能株式会社 | 压电材料、压电元件和电子装置 |
KR101952119B1 (ko) * | 2012-05-24 | 2019-02-28 | 삼성전자 주식회사 | 메탈 실리사이드를 포함하는 반도체 장치 및 이의 제조 방법 |
CN105773790B (zh) * | 2014-12-25 | 2017-11-17 | 辽宁爱尔创生物材料有限公司 | 纳米陶瓷坯体成型装置 |
US10727395B2 (en) | 2016-06-28 | 2020-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoeletric material, piezoelectric element, liquid discharge head, liquid discharge apparatus, vibration wave motor, optical instrument, vibration apparatus, dust removing apparatus, imaging apparatus and electronic device |
JP6795385B2 (ja) * | 2016-12-01 | 2020-12-02 | シャープ株式会社 | 照明装置、画像読取装置および画像形成装置 |
CN109551614B (zh) * | 2018-10-11 | 2021-04-20 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种用于粉末压制成型的超声波装置 |
CN109895225A (zh) * | 2019-04-20 | 2019-06-18 | 陈锐 | 一种二次布料二次施压的瓷砖模具及其制成的瓷砖 |
CN112025925B (zh) * | 2020-08-10 | 2021-09-03 | 深圳陶陶科技有限公司 | 撞色陶瓷及其制备方法和应用 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1072661A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-17 | Tanakatakashi Shoten:Kk | 部分的金属蒸着膜形成方法およびその装置 |
JP2001106568A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-17 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス、結晶配向セラミックスの製造方法及び結晶配向セラミックス製造用板状Ba6Ti17O40粉末の製造方法 |
JP2006225188A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 異方形状粉末及びその製造方法、並びに、結晶配向セラミックス及びその製造方法 |
JP2008037064A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Murata Mfg Co Ltd | 配向性セラミックスの製造方法 |
JP2008208004A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Nagaoka Univ Of Technology | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP2009010736A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 撮像装置、その制御方法及びプログラム |
WO2009136443A1 (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-12 | 独立行政法人宇宙航空研究開発機構 | 誘電体磁器組成物 |
JP2011184288A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-09-22 | Canon Inc | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2988422A (en) * | 1959-01-02 | 1961-06-13 | Monsanto Chemicals | Barium titanate |
JP2002134806A (ja) | 2000-10-19 | 2002-05-10 | Canon Inc | 圧電膜型アクチュエータおよび液体噴射ヘッドとその製造方法 |
US6789956B2 (en) | 2001-12-19 | 2004-09-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical module |
JP5164052B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2013-03-13 | キヤノン株式会社 | 圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
JP2006343699A (ja) | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Konica Minolta Holdings Inc | 撮像装置 |
JP5355148B2 (ja) | 2008-03-19 | 2013-11-27 | キヤノン株式会社 | 圧電材料 |
JP4775772B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2011-09-21 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料および圧電素子 |
JP5219921B2 (ja) | 2008-05-28 | 2013-06-26 | キヤノン株式会社 | 金属酸化物、圧電材料および圧電素子 |
US8518290B2 (en) | 2008-07-30 | 2013-08-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric material |
JP2010143788A (ja) | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Canon Inc | 酸窒化物圧電材料及びその製造方法 |
WO2010125987A1 (en) | 2009-04-27 | 2010-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Tungsten bronze-type piezoelectric material and production method therefor |
JP5734688B2 (ja) * | 2010-02-10 | 2015-06-17 | キヤノン株式会社 | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
JP6063672B2 (ja) | 2011-09-06 | 2017-01-18 | キヤノン株式会社 | 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、圧電音響部品、および電子機器 |
-
2011
- 2011-02-07 JP JP2011023451A patent/JP5734688B2/ja active Active
- 2011-02-08 US US13/023,043 patent/US8632723B2/en active Active
-
2013
- 2013-03-14 US US13/829,596 patent/US8698380B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1072661A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-17 | Tanakatakashi Shoten:Kk | 部分的金属蒸着膜形成方法およびその装置 |
JP2001106568A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-17 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 結晶配向セラミックス、結晶配向セラミックスの製造方法及び結晶配向セラミックス製造用板状Ba6Ti17O40粉末の製造方法 |
JP2006225188A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 異方形状粉末及びその製造方法、並びに、結晶配向セラミックス及びその製造方法 |
JP2008037064A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Murata Mfg Co Ltd | 配向性セラミックスの製造方法 |
JP2008208004A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Nagaoka Univ Of Technology | 結晶配向セラミックスの製造方法 |
JP2009010736A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 撮像装置、その制御方法及びプログラム |
WO2009136443A1 (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-12 | 独立行政法人宇宙航空研究開発機構 | 誘電体磁器組成物 |
JP2011184288A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-09-22 | Canon Inc | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6015011053; 牧谷敦: '高磁場による粒子配向チタン酸ビスマスセラミックスの作製' 日本セラミックス協会学術論文誌 No.111 Vol.9, 20030901, P.702-703 * |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011184288A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-09-22 | Canon Inc | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 |
JP2012066987A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Tdk Corp | 六方晶系チタン酸バリウム粉末、その製造方法、誘電体磁器組成物および電子部品 |
JPWO2013054432A1 (ja) * | 2011-10-14 | 2015-03-30 | 株式会社ユーテック | ポーリング処理方法、磁場ポーリング装置及び圧電体膜 |
WO2013054432A1 (ja) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | 株式会社ユーテック | ポーリング処理方法、磁場ポーリング装置及び圧電体膜 |
US9831417B2 (en) | 2011-10-14 | 2017-11-28 | Youtec Co., Ltd. | Poling treatment method, magnetic field poling device, and piezoelectric film |
JP2014012620A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Murata Mfg Co Ltd | 配向性セラミックの製造方法、及び配向性セラミック、並びにセラミック電子部品 |
US9308553B2 (en) | 2012-07-05 | 2016-04-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for producing orientational ceramic, orientational ceramic, and ceramic electronic component |
JP2014062032A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-04-10 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 |
US9660174B2 (en) | 2012-08-27 | 2017-05-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric material and piezoelectric element using the same, and electronic apparatus using the piezoelectronic element |
JP2014062034A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-04-10 | Canon Inc | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 |
US9960343B2 (en) | 2012-08-27 | 2018-05-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric material piezoelectric element and electronic apparatus |
JP2018083752A (ja) * | 2012-08-27 | 2018-05-31 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、および電子機器 |
JP2015113244A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 誘電体セラミックス、誘電体セラミックスの製造方法およびセラミック電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8698380B2 (en) | 2014-04-15 |
US20110193451A1 (en) | 2011-08-11 |
US20130200750A1 (en) | 2013-08-08 |
US8632723B2 (en) | 2014-01-21 |
JP5734688B2 (ja) | 2015-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5734688B2 (ja) | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP6063672B2 (ja) | 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、超音波モータ、光学機器、振動装置、塵埃除去装置、撮像装置、圧電音響部品、および電子機器 | |
JP5967988B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP5864168B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP6004640B2 (ja) | 圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置、およびデバイス | |
JP6021351B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置およびデバイス | |
JP5523431B2 (ja) | 圧電セラミックス、圧電セラミックスの製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ及び塵埃除去装置 | |
JP4948639B2 (ja) | 圧電セラミックス、その製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ | |
JP5865608B2 (ja) | 配向性圧電セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP5791370B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP5932216B2 (ja) | 圧電セラミックス、その製造方法、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータ、塵埃除去装置、光学デバイスおよび電子機器 | |
US20090242099A1 (en) | Method of producing a piezostack device | |
JP5791371B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ、塵埃除去装置 | |
US8884498B2 (en) | Piezoelectric material, piezoelectric element, liquid discharge head, ultrasonic motor, and dust cleaning device | |
JP5748493B2 (ja) | 配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置 | |
JP5597368B2 (ja) | 積層型電子部品およびその製法 | |
JP5484180B2 (ja) | 圧電特性を有する化合物、圧電素子及びそれを用いた液体吐出ヘッドと超音波モーター | |
JP5894222B2 (ja) | 積層型電子部品およびその製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140715 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140717 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140916 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150415 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5734688 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |