JP2011173184A - 研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨対象のガラス基板に対し、まず、陽電子消滅ガンマ線測定により、表面近傍の欠陥分布の検査を行う。次に、ガラス基板の表面に、ガスクラスタイオンを照射することによりガラスを劣化させた脆性層、又は柔軟な物質で表面を被覆した被覆層からなる緩衝層を生成する。次に、陽電子消滅ガンマ線測定により、生成した緩衝層の厚みを測定する。次に、ガラス基板の表面を洗浄する。次に、ガラス基板を研磨する研磨具上に、スラリーの砥粒を均一に散布し、更にスラリーの液体成分を加えてスラリーを生成する。次に、生成したスラリーを用いて緩衝層の上からガラス基板の化学機械研磨を行う。
【選択図】図1
Description
図1は、研磨方法の工程例を簡略的に示す概念図である。研磨対象のガラス基板に対し、まず、陽電子消滅ガンマ線測定により、表面近傍の欠陥分布の検査を行う。次に、ガラス基板の表面に、ガラスよりも研磨が容易な緩衝層を生成し、陽電子消滅ガンマ線測定により、生成した緩衝層の厚みを測定する。次に、ガラス基板の表面を洗浄し、スラリーの砥粒を散布し、更にスラリーの液体成分を加えた上で緩衝層の上からCMPによるガラス基板の研磨を行う。以下、研磨方法の各工程の詳細を説明する。
11 脆性層
12 被覆層
41 ターンテーブル
42 研磨パッド(研磨具)
43 保持具
46 液体成分容器
47 ノズル
51 砥粒
52 液体成分
Claims (6)
- ガラスを研磨するための砥粒及び液体成分を含有するスラリーを用いてガラスの化学機械研磨を行う研磨方法において、
スラリーを用いた研磨がガラスよりも容易な緩衝層をガラス表面に生成し、
生成した緩衝層の上からガラスの化学機械研磨を行うこと
を特徴とする研磨方法。 - ガラスの表面にガスクラスタイオンを照射することにより、ガラスの表面近傍を劣化させた脆性層を前記緩衝層として生成すること
を特徴とする請求項1に記載の研磨方法。 - 前記緩衝層として、ガラスよりも柔軟な物質で、スラリー中の砥粒の粒径以上の厚さにガラスの表面を被覆した被覆層を生成すること
を特徴とする請求項1又は2に記載の研磨方法。 - 前記緩衝層を生成する前に、陽電子消滅ガンマ線測定により、ガラス表面近傍に存在する欠陥の分布を検査すること
を特徴とする請求項1乃至3のいずれか一つに記載の研磨方法。 - 前記緩衝層を生成した後に、陽電子消滅ガンマ線測定により、前記緩衝層の厚みを測定すること
を特徴とする請求項1乃至4のいずれか一つに記載の研磨方法。 - 前記緩衝層上、又はガラスを研磨するための研磨具上に、砥粒を均一に散布し、散布した状態の砥粒に液体成分を加えることにより、スラリーを生成すること
を特徴とする請求項1乃至5のいずれか一つに記載の研磨方法。
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