JP6638334B2 - プラズマ処理装置部品のクリーニング方法及びクリーニング装置 - Google Patents
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Description
〔実施例1〜9〕
アルミニウム板の表面にイットリア溶射により200μmのイットリア被膜を形成しこれを素地とした。このイットリア被膜形成アルミニウム板をCF4ガスのプラズマに晒すことにより、イットリア被膜の表層に模擬付着物を形成し、被処理部材Sとしてのテストピースを作製した。このテストピース上の付着物の厚さは約2μmであった。
実施例1で使用したのと同じテストピースを化学薬品(フッ素系溶剤)により480分間クリーニング処理を行った。処理条件を表1にあわせて示す。また、処理後の表層の元素構成比をXPS測定するとともに、イットリア被膜の膜厚の減少量を計測した。結果を表2にあわせて示す。
実施例1で使用したのと同じテストピースをサンドブラストにより10分間クリーニング処理を行った。処理条件を表1にあわせて示す。また、処理後の表層の元素構成比をXPS測定するとともに、イットリア被膜の膜厚の減少量を計測した。結果を表2にあわせて示す。
2…下部電極
3…上部電極
4…RF(高周波)電源
5…ガス導入管
6…排気口
7…チラーユニット
7A…配管
S…被処理部材
W…水蒸気を含む処理ガス
Claims (7)
- 被処理基板を収容する処理チャンバと、前記処理チャンバ内に配設され、前記被処理基板が載置される下部電極と、前記下部電極と対向する上部電極とを有するプラズマ処理装置の前記処理チャンバ内の構成部材に付着した付着物を除去するプラズマ処理装置部品のクリーニング方法であって、
前記付着物がフッ化物であり、
前記処理チャンバ内に水蒸気を含む処理ガスを供給し、
前記水蒸気を含む処理ガスをプラズマ化し、
該プラズマ化した水蒸気を含む処理ガスにより前記処理チャンバ内の構成部材を処理することを特徴とするプラズマ処理装置部品のクリーニング方法。 - 前記水蒸気を含む処理ガスが、希ガス、酸素、窒素及び水素の1種又は2種以上を含有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置部品のクリーニング方法。
- 前記水蒸気を含む処理ガスをプラズマ化するための高周波出力(RF出力)が5〜300W/cm2であることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置部品のクリーニング方法。
- 前記水蒸気を含む処理ガスを減圧状態下で0.5〜20Paの圧力となるように供給することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ処理装置部品のクリーニング方法。
- 被処理基板を収容する処理チャンバと、前記処理チャンバ内に配設され前記被処理基板が載置される下部電極と、前記下部電極と対向する上部電極とを有するプラズマ処理装置の前記処理チャンバ内の構成部材に付着した付着物を除去するプラズマ処理装置部品のクリーニング装置であって、
前記付着物がフッ化物であり、
前記処理チャンバから取り出した構成部材を収容するプラズマ容器と、
前記プラズマ容器内に配設され前記構成部材が載置される下部電極と、
前記下部電極と対向する上部電極と、
前記上部電極及び下部電極に高周波電流を供与する高周波電源と、
水蒸気を含む処理ガスを噴霧する噴霧機構と、
前記プラズマ容器内を減圧する減圧機構と
を備え、
前記水蒸気を含む処理ガスをプラズマ化し、
該プラズマ化した水蒸気を含む処理ガスにより前記構成部材を処理することを特徴とするプラズマ処理装置部品のクリーニング装置。 - 前記プラズマ容器内の前記上部電極と下部電極とが平板で平行に設置されており、前記上部電極側から下部電極に向けてプラズマ化した水蒸気を含む処理ガスが噴霧可能となっていることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ処理装置部品のクリーニング装置。
- 前記プラズマ容器内の前記上部電極が前記プラズマ容器内を上下方向に移動可能となっていて、前記下部電極との距離が可変となっていることを特徴とする請求項5又は6に記載のプラズマ処理装置部品のクリーニング装置。
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