JP2011151052A - 電子部品の製造方法 - Google Patents
電子部品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011151052A JP2011151052A JP2010008647A JP2010008647A JP2011151052A JP 2011151052 A JP2011151052 A JP 2011151052A JP 2010008647 A JP2010008647 A JP 2010008647A JP 2010008647 A JP2010008647 A JP 2010008647A JP 2011151052 A JP2011151052 A JP 2011151052A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- ceramic
- metal layer
- ceramic layer
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】まず、シート1の主面に金属層2を形成する。次に、金属層2に対して非浸潤な特性を有するセラミックスラリーを用いて、セラミック層3を金属層2に積層する。次に、セラミック層3に対して浸潤な特性を有するセラミックスラリーを、セラミック層3に積層する。そして、金属層2およびシート1を剥離する。
【選択図】図1
Description
この発明の第1の実施形態に係る電子部品の製造方法について、電子部品として積層セラミックコンデンサを想定して説明する。
図1は、本実施形態に係る電子部品の製造方法における各工程での状態を示す断面図である。
この発明の第2の実施形態に係る電子部品の製造方法について、電子部品として積層セラミックコンデンサを想定して説明する。
図2は、本実施形態に係る電子部品の製造方法における各工程での状態を示す断面図である。
図2(B4)は、第2セラミックスラリー積層工程での状態図である。この工程では、積層体33の主面に対してダイコーターやロールコーター、スクリーン印刷法などによりセラミックスラリーを塗布して乾燥させることでセラミック層25を形成する。これにより、セラミック層25および積層体33からなる積層体34が構成される。このセラミックスラリーは、前述のセラミックスラリーと同成分である。なお、第2セラミックスラリー積層工程は本発明の第1の積層工程に相当し、セラミック層25は本発明の第1のセラミック層に相当する。この工程を終えると次の第2電極ペースト積層工程に移行する。
その後、外部電極形成などの製造プロセスを経て複数の電子部品を形成する。したがって、金属層23は製造プロセス内で利用および除去され、電子部品の作用や構成に制約無く設けることができる。
次に、第1実験例に基づいて本発明の作用効果を説明する。
積層体は、左側領域55と右側領域56とに区画される。左側領域55は比較構成であり、シート51にセラミック層53およびセラミック層54を直接積層して構成している。一方、右側領域56は本構成であり、シート51に金属層52を形成してから、セラミック層53およびセラミック層54を積層して構成している。
図3(A)に示すシート51に金属層52およびセラミック層53を積層した段階では、比較構成の左側領域55および本構成の右側領域いずれも、セラミック層53にシワ付きは生じなかった。
一方、図3(B)に示すセラミック層53に対してさらにセラミック層54を積層する段階で、比較構成の左側領域55では密にシワ付きが発生し、本構成の右側領域56ではほとんどシワ付きが発生しなかった。この実験から、本構成では膨潤によるシワの発生を抑制できることが確認された。
図4(A)に示す比較構成において、シワ付き部分の周辺では、セラミック層54がほぼ一定の層厚であるのに対してセラミック層53の層厚が部分的に増大している。
一方、図4(B)に示す本構成では、セラミック層53,54いずれもそれぞれの層厚が略一定であった。
このことから、下層のセラミック層53に対する金属層による裏打ち無しの比較構成では、下層のセラミック層53が膨潤してシワ付きの要因となり、下層のセラミック層53に対する金属層による裏打ちが有る本構成では、下層のセラミック層53の膨潤を抑制してシワ付きを無くすことができるといえる。
次に、第2実験例に基づいて本発明の作用効果を説明する。
図5は、本実験に用いた積層体の構成例を説明する図である。
本実験では、3層構造の積層体と4層構造の積層体とで、金属層の有無によるシワ付きの程度を比較した。
このことから、CuやNiによる金属膜を設けることにより、金属膜を設けない場合よりもシワ付きが抑制できることがわかった。より好適にはCuを金属膜に利用するとシワ付きをほとんど無くすことができることが確認された。
梨地状の表面の凹凸は、基材70として金属層を設けないシートのみを用いた場合に比べて、基材70としてCuやNiを金属層として設けた場合に、凹凸深さが抑制されたものであった。
このことから、CuやNiによる金属膜を設けることにより、金属膜を設けない場合よりも表面の平坦度を改善できることが確認された。
11〜16,31〜36…積層体
2,23…金属層
3,5,7,22,25,27…セラミック層
4,6,24,26…電極層
Claims (6)
- 支持体の主面に金属層を形成する金属層形成工程と、
セラミックスラリーを前記金属層に塗布し乾燥させることで、第1のセラミック層を前記金属層に積層する第1の積層工程と、
前記第1のセラミック層に対して膨潤性を有するセラミックスラリーを、前記第1のセラミック層に塗布し乾燥させることで、第2のセラミック層を前記第1のセラミック層に積層する第2の積層工程と、
前記金属層、前記第1のセラミック層、および前記第2のセラミック層が積層された積層体から、前記金属層を除去する金属層除去工程と、
を有する電子部品の製造方法。 - 前記金属層除去工程は、焼失により前記金属層を除去する、請求項1に記載の電子部品の製造方法。
- 前記金属層除去工程は、剥離により前記金属層および前記支持体を除去する、請求項1に記載の電子部品の製造方法。
- 開口部を備えるパターンで電極ペーストを塗布し乾燥させて電極層を形成する電極積層工程を有する、請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
- 前記電極ペーストは、上下に積層されるセラミック層に対して膨潤性を有さない、請求項4に記載の電子部品の製造方法。
- 前記電極層に積層されるセラミックスラリーは、積層される電極層に対して膨潤性を有さない、請求項4に記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010008647A JP5544891B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010008647A JP5544891B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011151052A true JP2011151052A (ja) | 2011-08-04 |
JP5544891B2 JP5544891B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=44537812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010008647A Active JP5544891B2 (ja) | 2010-01-19 | 2010-01-19 | 電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5544891B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08279438A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック積層電子部品の製造方法 |
JP2005086017A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Ngk Spark Plug Co Ltd | セラミック基板の製造方法 |
JP2007201287A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Kyocera Corp | 電子部品の製造方法 |
JP2008244153A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Tdk Corp | 積層電子部品の製造方法 |
-
2010
- 2010-01-19 JP JP2010008647A patent/JP5544891B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08279438A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-22 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック積層電子部品の製造方法 |
JP2005086017A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Ngk Spark Plug Co Ltd | セラミック基板の製造方法 |
JP2007201287A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Kyocera Corp | 電子部品の製造方法 |
JP2008244153A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Tdk Corp | 積層電子部品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5544891B2 (ja) | 2014-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010067887A5 (ja) | ||
TWI492675B (zh) | 可剝離之附銅箔基板及電路基板之製造方法 | |
JP2014072522A (ja) | チップ素子及びその製造方法 | |
JP4896247B2 (ja) | プリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板 | |
JP5083409B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP5544891B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP4968411B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP2015179849A5 (ja) | Fpc用電磁波シールド材を備えたfpc | |
JP2011204849A (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
US20050030696A1 (en) | Thin metal layers-having ceramic green sheet and method for producing ceramic capacitor | |
JP2009239221A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JPH09129487A (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
KR20110050144A (ko) | 다층 세라믹 기판의 소성용 세터 및 이를 이용한 다층 세라믹 기판의 제조방법 | |
JP6197369B2 (ja) | 配線基板の製造方法および配線基板製造用の型 | |
JP4333141B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP2019194007A5 (ja) | ||
JP3921454B2 (ja) | 積層セラミック電子部品用の積層体ユニットの製造方法および積層セラミック電子部品用の積層体ユニット | |
JP2010040628A (ja) | 積層型セラミック電子部品の製造方法 | |
JP7276658B2 (ja) | セラミック電子部品および積層セラミックコンデンサの製造方法 | |
JP2013120934A (ja) | 印刷回路基板の製造方法 | |
JP5035471B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP4651519B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP2009238920A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JP2007266485A (ja) | チップ型電子部品の製造方法 | |
JP6065355B2 (ja) | 多層セラミック基板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140415 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140428 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5544891 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |