JP2011148184A - テクスチュアデータ処理装置、テクスチュアデータ処理方法、プログラム、エンボス版製造装置、エンボス版製造方法、及びシート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】テクスチュアデータ処理装置1は、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータ67を切り出し範囲65で切り出し、切り出し範囲65のハイトデータ67のテクスチュアデータ66に含まれる制御点63を抽出する制御点抽出部27と、切り出し範囲65の制御点63−1を、制御点63−4の隣であって切り出し範囲65の外に付加し、付加された制御点63−1’を含む制御点63により生成されるテクスチュアデータ66に基づくハイトデータ67を生成する制御点付加部28と、ハイトデータ67の画素値に応じて、ハイトデータ67−1でハイトデータ67−2を上書きし、ハイトデータ67−3でハイトデータ67−4を上書きするテクスチュア上書き部29と、を具備する。
【選択図】図20
Description
さらに、前記テクスチュアデータは、たて糸、よこ糸を有する織物のデータであり、前記所定の方向は、前記たて糸に沿った方向、前記よこ糸に沿った方向とすることができる。
まず、本発明に係るテクスチュアデータ処理装置1について説明する。
図1は、本実施の形態のテクスチュアデータ処理装置1のハードウエア構成を示す。
テクスチュアデータ処理装置1は、図1に示すように、例えば、制御部10、記憶部11、メディア入出力部12、周辺機器I/F部13、通信部14、入力部15、表示部16、印刷部17等がバス18を介して接続されて構成される。
CPUは、記憶部11、ROM、記録媒体等に格納されるプログラムをRAM上のワークメモリ領域に呼び出して実行し、バス18を介して接続された各部を駆動制御する。制御部10のCPUは後述するテクスチュアデータ処理(図3参照)を実行する。
入力部15は、例えば、キーボード、マウス等のポインティング・デバイス、テンキー等の入力装置であり、入力されたデータを制御部10へ出力する。
印刷部17は、プリンタであり、生成されたハイトデータ等の画像の印刷処理等を行う。
図3のフローチャートに示すように、テクスチュアデータ処理装置1の制御部10は、テクスチュアデータ生成ステップ(ステップS1)、ハイトデータのシームレス処理ステップ(ステップS2)、及び出力ステップ(ステップS3)の各ステップを含むテクスチュアデータ処理プログラムを実行することにより、テクスチュアデータのハイトデータを生成し、ハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理後のハイトデータを複数並べて出力する。
本実施の形態のテクスチュアデータ処理装置1において、制御部10は、まず、後述する繊維生成ステップS12、糸の形状生成ステップS13、織物の組織生成ステップS14、織物の形状生成ステップS15、階調画像生成ステップS16で利用されるパラメータの入力を受け付ける。
糸の形状生成ステップS13で利用されるパラメータとしては、糸の単位長さ当りの繊維数、繊維の撚り(回転角度)、糸の半径、糸の形状を表現するモデルを定義する関数等が挙げられる。
織物の組織生成ステップS14で利用されるパラメータとしては、織物の一組織におけるたて糸及びよこ糸の表裏配置情報を定義する二値の行列等が挙げられる。
織物の形状生成ステップS15で利用されるパラメータとしては、たて糸及びよこ糸の間隔、繊維の「ケバ」や「ムラ」を調整するための値等が挙げられる。
階調画像生成ステップS16で利用されるパラメータとしては、階調数等が挙げられる。
次に、制御部10は、繊維の形状を定義する。
制御部10は、入力されたパラメータ「繊維の長さ」に基づいて、3次元空間内に任意の長さの線または任意数の点群の集合を設定する。ここで、線とは、直線、曲線、または曲線の集合を含むものとする。以下の説明では、繊維を定義するため、任意の長さの線分を繊維データとして3次元空間内に設定する。そして、パラメータ「分節数」に基づいて、その線分(任意の長さの線または任意数の点群の集合を設定した場合は、線または点群の集合)を区切り、各ノード(区切られた線分の1要素)をパラメータ「繊維の揺らぎ」の幅内にランダムに揺らして配置することにより、繊維データを生成する。
i番目のノードの始点の座標niは、次の式(1)に示す位置となる。
次に、制御部10は、糸の形状を定義する。糸は、繊維を束ね、撚ったものとして表現される。
閉空間モデルの一例として、例えば、図6に示すような、所定の単位長の長さ及びパラメータ「糸の半径」分の半径rを持つ円柱モデル34を使用する。
制御部10は、まず、円柱モデル34内に、繊維データ31,31,31,・・・をパラメータ「繊維数」だけ略平行に配置する(図6(A))。
各繊維データ31,31,31,・・・は、円柱モデル34の上面と下面とを結ぶ方向(図中z方向)に対して略平行に配置されるものとする。
各繊維の移動のベクトルTt=(Ttx,Tty,Ttz)は式(3)の値となる。
円錐台の半径を返す関数r(a)を式(4)で定義するものとする。
繊維データを回転させる際は、各ノード端点を順次円の接線方向にθ度移動させるとともに、ノード長さの補正を行う。一般的な回転処理では、回転の軸から離れた点ほど移動量が多くなる。そのため、糸の外側の繊維が密に表現されてしまう。これを避けるため、各ノードの長さが元の長さを保つように移動後の位置を補正する。
この回転処理によって繊維の束である糸が撚られ、図8に示すような糸データが生成される。図8は、撚りの処理が行われた糸の3D画像を示す図である。糸の長軸が回転軸(z軸)である。図8に示すように、糸の複数の繊維が撚られた様子が表現される。
次に、制御部10は、織物の組織を定義する。
織物は、たて糸とよこ糸とから構成されるため、たて糸とよこ糸との交差する点(以下、組織点と呼ぶ)では、たて糸及びよこ糸のうちどちらか一方が表面に現れ、他方は裏面に現れる。
例えば、平織の表裏配置情報は、式(6)に示すような2×2行列により定義される。
ここで、組織点の位置を、たて糸のインデックスj、よこ糸のインデックスkで表現すると、たて糸のインデックスjと行列Aの行数mの余剰、またはよこ糸のインデックスkと列数nの余剰を参照することにより、注目する組織点が行列Aのどの要素に該当するかが決定され、各糸の表裏配置情報が決定される。
また、ここでは、行列Aの要素が1のとき、たて糸が表であるとして定義する。更に、たて糸の長軸をz方向、よこ糸の長軸をx方向、表裏をy方向に配置するものとする。
次に、制御部10は、たて糸とよこ糸の繊維が、それぞれ隣り合う組織点間を滑らかに補間するように、繊維を構成する各ノードを適宜平行移動する処理を行う。
図10は、糸56の変形について説明する図である。図10では、紙面の左右方向をz方向、紙面上下方向をy方向、紙面鉛直方向をx方向としている。
糸46と糸56とが交差するz位置zkから、糸47と糸56とが交差するz位置zk+1までの間を、糸56内の繊維が滑らかに補間する。
yaとybは対象となる組織点のy軸の座標であり、tは、隣り合う組織点間の位置を示し[0,1]の値をとる媒介変数である。
ここでは、補間の関数f(ya,yb,t)の一例として、式(9)に示す3次元ベジエ曲線を用いるものとする。
また、ベジエ曲線に代えて、他の補間の関数としてもよい。
また、たて糸とよこ糸をそれぞれ6本ずつ用いた平織の織物の3D画像を図12に示す。
図11、図12に示すように、本テクスチュアデータ処理装置1で生成された糸データまたは織物データは、糸に含まれる繊維の質感が微細に表現されていること分かる。
糸に「ムラ」を加えたときの織物の3D画像を図13に示す。
制御部10は、選択した繊維を糸の表面に飛び出させるために、直線状に変形させ、各ノードにノイズを付加する。ケバとなる繊維のノードniの位置は、式(11)のni’に移動する。
次に、テクスチュアデータ処理装置1は、生成された織物データの3次元形状をハイトフィールドに変換する処理を行う。制御部10は、生成された織物データの3次元形状の表側から繊維の表面で最も高い部分を選択し、テクスチュアの高さ情報を例えば256階調の階調画像(グレースケール等)で表し、2次元平面に射影したハイトデータを生成する。
図15及び図16に示すように、織物データは、糸の撚りの「ムラ」や繊維の「ケバ」等の微細な形状が表現されており、実際の布地の質感を十分微細に表現している。
また、ハイトデータの出力サイズを任意に変更できるので、実用性が向上する。
まず、制御部10は、ステップS1で生成されたハイトデータの所定の範囲を切り出し、ハイトデータのテクスチュアデータに含まれる複数の制御点を抽出する。
続いて、制御部10は、図20(B)に示すように、抽出した制御点63の左端の制御点63−1を、切り出し範囲65の右端部の外でよこ糸60−1の方向に沿って制御点63−4の隣に付加(コピー)し、制御点63−1’とする。制御点63−1’の持つテクスチュア生成情報は、X軸方向(よこ糸60−1の方向)の位置情報を除いて、制御点63−1と同様のものである。
次に、制御部10は、ハイトデータ67の画素値に応じて、図20(C)に示す、切り出し範囲65の右端部の外側の部分のハイトデータ67−1を、切り出し範囲65の左端部のハイトデータ67−2に上書きする。この際、ハイトデータ67−1の左端(切り出し範囲65の右端)を切り出し範囲65の左端に対応させる。
制御部10は、予め設定された数(大きさ)や並べ方で、あるいは入力部15から入力される指示操作にしたがって、シームレス処理されたハイトデータ67を、図23(C)や図25(C)のように複数並べられた状態でRAMや記憶部11またはメディア入出力部12に接続された記憶媒体等に記憶し出力する。その大きさは、後述するエンボス版の大きさに応じたものとできる。また、これらを表示部16に表示させたり、印刷部17に出力して印刷したりする場合もある。
次に、本発明に係るエンボス版製造装置、及びシートについて説明する。
図27に第2の実施の形態のエンボス版製造装置9Aの構成を示す。
彫刻機93は、彫刻機制御部931、駆動部932、及び彫刻用刃(打刻刃)933を備える。彫刻機制御部931は、コンピュータ91から入力されるテクスチュアのハイトデータに従って彫刻機駆動部932を駆動し、彫刻用刃933を支持台101,101に支持されたエンボス版シリンダ100の版面に対して深さ方向に上下動するとともに、エンボス版シリンダ100の回転軸方向(図中A−A方向)に移動させる。回転駆動部104は、コンピュータ91から入力される指示に従って、支持台101,101に支持されたエンボス版シリンダ100を回転軸A−A方向を中心に回転する。
これにより、彫刻機93は、コンピュータ91から入力されたテクスチュアのハイトデータに従った深さで金属製或いは樹脂製のエンボス版シリンダ100に彫刻を施し、織物布地等のテクスチュアの表面形状を形成する。
彫刻機制御部931は、走査部を駆動し、光学ユニットをエンボス版シリンダ100の回転軸方向(図中A−A方向)に移動させるとともに、レーザ発振器を制御してレーザの出力値を深さ情報(ハイトデータ)に従った出力値に変調する。これにより、エンボス版シリンダ100の所定位置に所定の出力でレーザビームを照射して、エンボス版シリンダ100の表面に織物布地等のテクスチュア表面形状の凹凸を彫刻する。
また、エンボス版を用いてシート表面を織物布地等のテクスチュア表面形状に加工し、量産することが可能となる。
第3の実施の形態のエンボス版製造装置は、第1の実施の形態のテクスチュアデータ処理手順に従って生成しシームレス処理され、エンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べられ出力されたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにエッチングの手法を用いて織物布地等のテクスチュア表面の凹凸形状を形成する。
支持台101及び回転駆動部104の構成及び動作は、第2の実施の形態と同様である。
第4の実施の形態のエンボス版製造装置は、第3の実施の形態と同様に、第1の実施の形態のテクスチュアデータ処理手順に従って生成しシームレス処理され、エンボス版シリンダの大きさに応じて複数並べられ出力されたハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにエッチングの手法を用いて織物布地等のテクスチュア表面の凹凸形状を形成する。エッチングにはフォトマスク97を使用する。
図29(B)に示すように、フォトマスク97にてレジスト層のコーティングされたエンボス版シリンダ200を覆い、露光することにより、フォトマスク97に形成されている遮光パターンに従った露光部及び非露光部が形成される。更に、第3の実施形態と同様、現像処理、洗浄処理を行うことにより不要なレジスト層が除去されてレジスト部のパターンが形成され、腐食処理、洗浄処理を行うことにより、エンボス版シリンダ200の表面に凹凸が形成されレジスト部が除去される。フォトマスク97を交換して、レジスト層コーティング、露光、現像、洗浄(非レジスト部の除去)、腐食、洗浄(レジスト部の除去)を繰り返すことにより、エンボス版シリンダ200の表面に複数段に凹凸が形成される。
9・・・・・・・エンボス版製造装置
10・・・・・・制御部
15・・・・・・入力部
16・・・・・・表示部
17・・・・・・印刷部
19・・・・・・テクスチュア生成部
20・・・・・・シームレス処理部
21・・・・・・パラメータ入力部
22・・・・・・繊維形状生成部
23・・・・・・糸の形状生成部
24・・・・・・織物の組織生成部
25・・・・・・織物の形状生成部
26・・・・・・階調画像生成部
27・・・・・・制御点抽出部
28・・・・・・制御点付加部
29・・・・・・テクスチュア上書き部
30・・・・・・出力部
31・・・・・・繊維データ
34、35、36・・糸のモデル
43〜47、59・・・・・・たて糸
51〜56、60・・・・・・よこ糸
62・・・・・・ケバ
63・・・・・・制御点
65・・・・・・切り出し範囲
66・・・・・・テクスチュアデータ
67・・・・・・ハイトデータ
69・・・・・・繋ぎ目
91・・・・・・コンピュータ
92・・・・・・エンボス版製造手段
93・・・・・・彫刻機
96・・・・・・パターン露光装置
97・・・・・・フォトマスク
98・・・・・・腐食装置
100・・・・・エンボス版シリンダ
200・・・・・エンボス版シリンダ(レジスト層被覆)
Claims (16)
- テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置。 - 前記ハイトデータ上書き手段は、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の一方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とし、
前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値と、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値を、対応する位置において比較し、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さが、前記所定の範囲の他方の端部のハイトデータの画素値が示すテクスチュアの高さよりも高い場合、前記位置における画素値を前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータの画素値とすることを特徴とする請求項1記載のテクスチュアデータ処理装置。 - テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理装置。 - 前記テクスチュア上書き手段は、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部から所定量ずらした位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータまたはテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部に上書きする際、前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った他方の端部から所定量ずらした位置に上書きすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のテクスチュアデータ処置装置。
- 前記テクスチュアデータには、前記所定の方向に沿って、その高さ位置が周期性を有する部分が含まれ、
前記所定の範囲は、前記所定の方向に沿った一端と他端で前記高さ位置の位相が一致するものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のテクスチュアデータ処理装置。 - 前記テクスチュアデータは、たて糸、よこ糸を有する織物のデータであり、前記所定の方向は、前記たて糸に沿った方向、前記よこ糸に沿った方向であることを特徴とする請求項5記載のテクスチュアデータ処理装置。
- テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法。 - テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データでありエンボス版の製造に用いられるハイトデータのシームレス処理を行うテクスチュアデータ処理装置を用いたテクスチュアデータ処理方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、
を具備することを特徴とするテクスチュアデータ処理方法。 - コンピュータを請求項1から請求項8のいずれかに記載のテクスチュアデータ処理装置として機能させるためのプログラム。
- テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加手段と、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書き手段と、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、
を具備することを特徴とするエンボス版製造装置。 - テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出手段と、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加手段と、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書き手段と、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力手段と、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、
を具備することを特徴とするエンボス版製造装置。 - 前記エンボス版製造手段は、前記エンボス版シリンダに対して、打刻刃またはレーザビームを用いて前記テクスチュアの表面形状を彫刻する彫刻手段であることを特徴とする請求項10または請求項11に記載のエンボス版製造装置。
- 前記エンボス版製造手段は、
レジスト層をコーティングした前記エンボス版シリンダ、または該エンボス版シリンダへの露光処理に用いるフォトマスクに対して、前記ハイトデータに基づく露光パターンを形成するパターン露光手段と、
前記露光パターンが形成された前記エンボス板シリンダ、または前記フォトマスクに対して腐食処理を施す腐食手段と、
を含むことを特徴とする請求項10または請求項11に記載のエンボス版製造装置。 - テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点により生成されるテクスチュアデータに基づくハイトデータを生成する制御点付加ステップと、
前記ハイトデータの画素値に応じて、前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたハイトデータで前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置のハイトデータを上書きするテクスチュア上書きステップと、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、
を具備することを特徴とするエンボス版製造方法。 - テクスチュアデータ生成情報に基づいて隣り合う制御点間でテクスチュアデータを生成し所定の方向に連続して配置される制御点を含むテクスチュアデータに基づく、テクスチュアの高さ情報を画素値で表す画像データであるハイトデータのシームレス処理を行い、シームレス処理されたハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置を用いたエンボス版製造方法であって、
前記ハイトデータを所定の範囲で切り出し、前記所定の範囲のハイトデータのテクスチュアデータに含まれる制御点を抽出する制御点抽出ステップと、
前記所定の範囲の前記所定の方向に沿った一方の端部の制御点を、他方の端部の制御点の前記所定の方向に沿った隣であって前記所定の範囲の他方の端部の外に付加し、前記制御点、および前記付加された制御点によりテクスチュアデータを生成する制御点付加ステップと、
前記所定の範囲の他方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の一方の端部で対応する位置に上書きし、前記所定の範囲の一方の端部の外に生成されたテクスチュアデータを、前記所定の範囲の他方の端部で対応する位置に上書きし、テクスチュアデータによるハイトデータを生成するテクスチュア上書きステップと、
前記テクスチュア上書き手段により生成されたハイトデータを複数並べて出力するハイトデータ出力ステップと、
前記ハイトデータ出力手段により出力されたハイトデータに基づいて、テクスチュアの表面形状をエンボス版シリンダに形成したエンボス版を製造するエンボス版製造ステップと、
を具備することを特徴とするエンボス版製造方法。 - 請求項10または請求項11に記載のエンボス版製造装置によって製造されたエンボス版を用いてシート表面形状を加工したシート。
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