JP6069978B2 - シート、ハイトデータ処理装置、ハイトデータ処理方法、プログラム、エンボス版製造装置、エンボス版製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、壁紙等のシート、シートの作成に用いるハイトデータの処理を行うハイトデータ処理装置、ハイトデータ処理方法、プログラム、およびハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置、エンボス版製造方法に関する。

壁紙等のシートの意匠としては、織物等のテクスチュア形状に近い凹凸を有するものがある。このようなシートを作成するためには、例えば、テクスチュア形状に対応する凹凸を形成したエンボス版を製造し、この凹凸を樹脂等のシートに転写する。

エンボス版にテクスチュア形状に対応する凹凸を形成するためには、凹凸形状のデータを版下用に作成する必要がある。このデータはハイトデータと呼ばれ、テクスチュア表面の高低を画素値で表したものである。

ところで、住宅内装材等に利用されている壁紙は、様々な大きさの平面に貼り付けられる。ただし、壁紙は製造上の制限から幅が例えば90cm程度に限られるので、それ以上の大きさの平面には、幅方向に複数の壁紙を並べて貼り付けることになる。従って、壁紙としては、複数の壁紙を並べた繋ぎ目において凹凸形状が連続していることが求められる。

このため、従来は、壁紙を貼り付ける際に凹凸形状が連続につながりやすいように、壁紙作成用のエンボス版を製造する際、１つの大きな面積のハイトデータを用いて全体の凹凸形状を形成するのではなく、小さな面積の同じハイトデータ（単位ハイトデータ）を繰り返し配置して版下用のデータを作成し、これによりエンボス版を製造している。

すなわち、１つの大きな面積のハイトデータから全体の凹凸形状を形成したエンボス版を用いて壁紙を作成すると、その壁紙９０は、図２８（ａ）に示すように、幅方向に並べる際に一定の位置関係で配置しなければ凹凸形状が連続しない。

しかし、単位ハイトデータを繰り返し配置したデータから凹凸形状を形成したエンボス版を用いて壁紙を作成すると、壁紙９０を幅方向に並べる際に、図２８（ｂ）に示すように、ある位置関係で凹凸形状が連続する場合、これを単位ハイトデータに対応する領域９０ａの大きさ分ずらした位置関係でも凹凸形状が連続するようになる。また、壁紙９０を張り付ける平面の幅に応じて、壁紙９０の幅方向の一部をカットして貼り付けを行うこともでき、無駄なく壁紙９０を貼り付けることが可能となる。

このような繰り返し形状を持った版下用のハイトデータを生成するには、例えば、特許文献１や特許文献２の手法を利用して単位ハイトデータを作成し、これを並べることができる。

特開２０１０−２８７２０４号公報 特開２０１１−１４８１８４号公報

しかしながら、上記のように、単位ハイトデータを繰り返し配置したデータから凹凸形状を形成したエンボス版を用いて壁紙を作成すると、壁紙において、単位ハイトデータに対応する同じ柄の繰り返しが生じ、一部の特徴的な凹凸柄が繰り返し認識できてしまう場合がある。そして、その繰り返しが不自然な印象を与えてしまう場合があった。

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、不自然な印象を与えない意匠性に優れたシート、およびシートの作成に用いられるハイトデータの処理を行うハイトデータ処理装置等を提供することを目的とする。

前述した目的を達成するために第１の発明は、複数の単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を並べて形成された凹凸形状を有するシートであって、前記単位領域は、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位領域は、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするシートである。

これにより、シートが、単位領域の凹凸形状を複数並べた凹凸形状を有する場合でも、一部の特徴的な凹凸柄の繰り返しによって不自然な印象を与えることがなくなり意匠性が高まる。また、各単位領域は外周部が同じであるので、シートを壁紙として用いる場合などでは、必要に応じてカットして用いることができるなど、利便性が向上する。

第１の発明のシートでは、隣り合う前記単位領域の前記外周部の凹凸形状同士が連続することが望ましい。
これにより、各単位領域の凹凸形状が繋ぎ目部分で連続するので、不自然な印象を与えることがなく意匠性が向上する。

前述した目的を達成するために第２の発明は、各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、を有し、前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするハイトデータ処理装置である。

前記単位ハイトデータ作成手段は、前記版下用ハイトデータ生成手段で複数の前記単位ハイトデータを並べた際に、隣り合う前記単位ハイトデータの前記外周部の凹凸形状同士が連続するように、複数の前記単位ハイトデータを作成することが望ましい。

これにより、第１の発明のシートの作成に用いるエンボス版を製造するために、版下用のハイトデータを好適に作成できる。

前記単位ハイトデータは、複数の制御点のパラメータに基づいて生成された織物のテクスチュアの形状より生成されるものであり、前記単位ハイトデータ作成手段は、前記内部領域にある制御点のパラメータを変更することにより、前記内部領域の凹凸形状を変更することが望ましい。
このように、制御点において設定されたパラメータに基づきテクスチュアの形状を生成し、この形状からハイトデータを作成することで、実際のテクスチュアから型を取るなどの必要が無く、微細な形状を表現したハイトデータを簡易に得ることができる。また、パラメータを変えることで、内部領域の凹凸形状が同種のテクスチュアを表現するものであり類似するものでありながら、これらが詳細な形状においては異なる、複数の単位ハイトデータが容易に生成できる。

第３の発明は、ハイトデータ処理装置が、各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成するステップと、複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成するステップと、を実行し、前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするハイトデータ処理方法である。

第４の発明は、ハイトデータ処理装置を、各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、して機能させ、前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするプログラムである。

第５の発明は、織物のテクスチュアの凹凸形状を表す版下用ハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、前記版下用ハイトデータに基づいて、織物のテクスチュアの凹凸形状を形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、を具備し、前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするエンボス版製造装置である。

また、第６の発明は、織物のテクスチュアの凹凸形状を表す版下用ハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造方法であって、各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成するステップと、複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成するステップと、前記版下用ハイトデータに基づいて、織物のテクスチュアの凹凸形状を形成したエンボス版を製造するステップと、を具備し、前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするエンボス版製造方法である。

本発明によれば、不自然な印象を与えない意匠性に優れたシート、およびシートの作成に用いられるハイトデータの処理を行うハイトデータ処理装置等を提供できる。

ハイトデータ処理装置１のハードウエア構成を示すブロック図 ハイトデータ処理装置１の機能ブロック図 ハイトデータ処理の流れを示すフローチャート ハイトデータ生成の流れを示すフローチャート セグメント３について示す図 線分３１を示す図 円柱モデル３４内の線分３１を示す図 糸の３次元形状の一例 織物の組織について説明する図 糸の変形について説明する図 糸の３次元形状の一例 織物データの３次元形状の一例 「ケバ」を表現した織物データの３次元形状の一例 ハイトデータの画像の一例 ハイトデータ変換の流れを示すフローチャート 制御点４について説明する図 制御点４のパラメータ変更について説明する図 制御点４の付加とハイトデータ６７の上書きについて説明する図 上書きされた後のハイトデータ６７を説明する図 連続するハイトデータ６７について説明する図 ハイトデータ６７の上書きと単位ハイトデータ６７ａを説明する図 ハイトデータ６７の上書きと単位ハイトデータ６７ａを説明する図 版下用ハイトデータ７０およびシート８０について説明する図 単位ハイトデータ６７ａの作成について示す図 エンボス版製造装置９Ａを示す図 エンボス版製造装置９Ｂを示す図 エンボス版製造装置９Ｃを示す図 壁紙９０の配置を示す図

以下、図面に基づいて本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。

［第１の実施形態］
（ハイトデータ処理装置１）
まず、本発明の第１の実施形態に係るハイトデータ処理装置１について説明する。図１はハイトデータ処理装置１のハードウエア構成を示す。

ハイトデータ処理装置１は、図１に示すように、例えば、制御部１０、記憶部１１、メディア入出力部１２、周辺機器Ｉ／Ｆ部１３、通信部１４、入力部１５、表示部１６、印刷部１７等がバス１８を介して接続されて構成される。

制御部１０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Accsess Memory）等により構成される。ＣＰＵは、記憶部１１、ＲＯＭ、記録媒体等に格納されるプログラムをＲＡＭ上のワークメモリ領域に呼び出して実行する。これによりバス１８を介して接続された各部を駆動制御し後述するハイトデータ処理（図３参照）を実行する。ＲＯＭは、コンピュータのブートプログラムやＢＩＯＳ等のプログラム、データ等を恒久的に保持する。ＲＡＭは、ロードしたプログラムやデータを一時的に保持するとともに、制御部１０が各種処理を行うために使用するワークエリアを備える。

記憶部１１は、ハードディスクドライブ等であり、制御部１０が実行するプログラムや、プログラム実行に必要なデータ、ＯＳ等が格納されている。これらのプログラムコードは、制御部１０により必要に応じて読み出されてＲＡＭに移され、ＣＰＵに読み出されて実行される。

メディア入出力部１２は、例えば、ＣＤドライブ、ＤＶＤドライブ、ＭＯドライブ等のメディア入出力装置であり、データの入出力を行う。
通信部１４は、通信制御装置、通信ポート等を有し、ネットワークとの通信を媒介する通信インタフェースであり、通信制御を行う。

入力部１５は、例えば、キーボード、マウス等のポインティング・デバイス、テンキー等の入力装置であり、入力されたデータを制御部１０へ出力する。
表示部１６は、例えば液晶パネル、ＣＲＴモニタ等のディスプレイ装置と、ディスプレイ装置と連携して表示処理を実行するための論理回路（ビデオアダプタ等）で構成され、制御部１０の制御により入力された表示情報をディスプレイ装置上に表示させる。

印刷部１７は、プリンタ等であり、印刷処理等を行う。
バス１８は、各部間の制御信号、データ信号等の授受を媒介する経路である。

次に、本発明のハイトデータ処理装置１の機能について、図２を参照して説明する。なお、本実施形態では、ハイトデータの対象とするテクスチュアを、縦糸、横糸を有する織物とする。ただし、ハイトデータの対象となるテクスチュアがこれに限られることはない。

図２に示すように、ハイトデータ処理装置１の制御部１０は、ハイトデータ処理に係る機能として、大きくハイトデータ生成部１９、ハイトデータ変換部２０、版下用ハイトデータ生成部３０を有する。

ハイトデータ生成部１９は、ハイトデータを生成するために、パラメータ入力、繊維形状生成、糸の形状生成、織物の組織生成、織物の形状生成、階調画像生成の各処理を行うものであり、パラメータ入力部２１、繊維形状生成部２２、糸の形状生成部２３、織物の組織生成部２４、織物の形状生成部２５、階調画像生成部２６を有する。

ハイトデータ変換部２０は、ハイトデータの内部領域の凹凸形状の変更処理とハイトデータの外周部の凹凸形状のシームレス処理を行うために、内部領域パラメータ変更、制御点付加、テクスチュア上書きの各処理を行うものであり、内部領域パラメータ変更部２７、制御点付加部２８、テクスチュア上書き部２９を有する。

ハイトデータ生成部１９でハイトデータを生成し、ハイトデータ変換部２０で変換処理を行うことにより、エンボス版を製造するための版下用ハイトデータに用いられる単位ハイトデータが作成される。これらハイトデータ生成部１９およびハイトデータ変換部２０は、本発明における単位ハイトデータ作成手段を構成している。

版下用ハイトデータ生成部３０は、単位ハイトデータを複数並べた版下用ハイトデータを生成する。

（ハイトデータ処理装置１による処理手順）
次に、ハイトデータ処理装置１による処理手順を説明する。
図３のフローチャートに示すように、ハイトデータ処理装置１の制御部１０は、ハイトデータ生成ステップ（Ｓ１）、ハイトデータ変換ステップ（Ｓ２）及び、版下用ハイトデータ生成ステップ（Ｓ３）の各ステップを含むハイトデータ処理プログラムを実行する。

＜Ｓ１：ハイトデータ生成ステップ＞
まず、ハイトデータ生成ステップ（Ｓ１）における処理を説明する。ハイトデータ生成ステップとしては、図４に示すように、パラメータ入力ステップ（Ｓ１１）、繊維形状生成ステップ（Ｓ１２）、糸の形状生成ステップ（Ｓ１３）、織物の組織生成ステップ（Ｓ１４）、織物の形状生成ステップ（Ｓ１５）、階調画像生成ステップ（Ｓ１６）が含まれる。

＜Ｓ１１：パラメータ入力ステップ＞
ハイトデータ処理装置１の制御部１０は、まず、後述する各ステップ等で利用されるパラメータの入力を受け付ける。

繊維生成ステップＳ１２で利用されるパラメータとしては、繊維の長さ、繊維の揺らぎの幅、及び繊維の分節数等が挙げられる。
糸の形状生成ステップＳ１３で利用されるパラメータとしては、糸の単位長さ当りの繊維数、繊維の撚り（回転角度）、糸の半径、糸の形状を表現するモデルを定義する関数等が挙げられる。
織物の組織生成ステップＳ１４で利用されるパラメータとしては、織物の一組織における縦糸及び横糸の表裏配置情報を定義する二値の行列等が挙げられる。
織物の形状生成ステップＳ１５で利用されるパラメータとしては、縦糸及び横糸の間隔、繊維の「ケバ」等を調整するための値等が挙げられる。
階調画像生成ステップＳ１６で利用されるパラメータとしては、階調数等が挙げられる。

本実施形態では、ハイトデータの生成に際して、図５に示すように、ハイトデータの領域２を、縦横に並んだ小さな矩形領域に区切る。これをセグメント３と呼ぶ。上記のパラメータは、各セグメント３の中心にある制御点４毎に入力される。この制御点４は、織物の縦糸、横糸の交点に対応する位置にあるものとする。
また、Ｓ１１では、上記のパラメータに加え、制御点４の位置情報として領域２の各辺からの距離も入力する。

＜Ｓ１２：繊維形状生成ステップ＞
次に、制御部１０は、繊維の形状を定義する。
制御部１０は、入力されたパラメータ「繊維の長さ」に基づいて、３次元空間内に任意の長さの線分を設定する。そして、パラメータ「分節数」に基づいて、その線分を区切り、各ノード（区切られた線分の１要素）をパラメータ「繊維の揺らぎ」の幅内にランダムに揺らして配置する。

具体的には、図６（Ａ）に示すように、線分３１の両端を含む分節数をＮｎとした場合、始点の座標をｎ_０、終点の座標をｎ_Ｎn-1、ｉ番目のノードの始点の座標をｎ_iとする。これらの座標ｎ₀、ｎ_Ｎn-1、ｎ_iは３次元ベクトルで表される。ｉ番目のノードの始点の座標ｎ_iは、次の式（１）に示す位置となる。

ここで、Ｚ_ｎは、各ノードに揺らぎを与えるために設定される３次元ベクトルである。Ｚ_ｎの各要素を、区間［Ｊ_ｇＭｉｎ，Ｊ_ｇＭａｘ］の乱数とすれば、ランダムな揺らぎをもつ繊維を表現できる。

また、線分３１に、図６（Ｂ）に示すような所望の表面形状３２を付加してもよい。表面形状３２は、定義した線分３１上のサンプル点ｓを中心とした、球表面の関数である式（２）の論理和として定義する。或いは、多角形によって定義することもできる。

ここで、ｘは３次元ベクトルであり、ｒ_ｎはサンプル点ｓから表面までの距離とする。

＜Ｓ１３：糸の形状生成ステップ＞
次に、制御部１０は、糸の形状を定義する。糸は、繊維を束ね、撚ったものとして表現される。

糸の形状を表現するため、所定の閉じた空間内に、上記の線分３１が所定数配置される。このような糸のモデルを閉空間モデルと呼ぶものとする。閉空間モデルは、その閉空間を表現する関数によって定義される。閉空間モデルの一例として、例えば、図７（Ａ）に示すような、軸方向の所定の単位長、及びパラメータ「糸の半径」分の半径ｒを持つ円柱モデル３４を使用することができる。

制御部１０は、まず、円柱モデル３４内に、線分３１をパラメータ「繊維数」の数だけ略平行に配置する（図７（Ａ））。各線分３１は、円柱モデル３４の軸方向（図中ｚ方向）に沿って略平行に配置される。

具体的には、制御部１０は、Ｓ１２で生成された線分３１に対して、平行移動等の処理を行い、円柱モデル３４内に複数の線分３１をランダムに配置する。各線分３１の移動のベクトルＴ_ｔ＝（Ｔ_ｔｘ，Ｔ_ｔｙ，Ｔ_ｔｚ）は式（３）の値で表すことができる。

ここで、ｌは円柱モデル３４の単位長、Ｚ_０，Ｚ_１，Ｚ_２，Ｚ_３，Ｚ_４は区間［０，１］の乱数列の値とし、各線分３１でそれぞれ設定される。

また、制御部１０は、パラメータ「繊維の撚り（回転角度θ）」の分だけ、線分３１を回転させ、撚りを表現する（図７（Ｂ）、（Ｃ））。ここで、制御部１０は、線分３１の各ノードを、糸の中心軸（円柱モデル３４の軸）を回転軸として、線分３１の１端点を固定しつつ、各ノード端点を順次θ度回転させる。

図７（Ｃ）は、円柱モデル３４の軸方向の任意位置における垂直断面（ｘ−ｙ）である。図７（Ｃ）の黒点は、円柱モデル３４に含まれる線分３１を意味する。線分３１を回転させる際は、各ノード端点を順次円の接線方向にθ度移動させるとともに、ノード長さの補正を行う。一般的な回転処理では、回転軸から離れた点ほど移動量が多くなる。そのため、円柱モデル３４の外側の線分３１が密に表現されてしまう。これを避けるため、各ノードの長さが元の長さを保つように移動後の位置を補正する。

すなわち、式（４）に示すように、i番目のノード端点の座標ｎ_ｉを、ｎ_ｉ’’の位置に移動する。

ここで、ｉは区間［０，Ｎ_ｎ］とする。Ｎ_ｎは、ノード数を表す上限値である。この回転処理によって繊維の束である糸が撚られ、図８に示すような糸の３次元形状が生成される。糸の長軸が円柱モデル３４の軸である。なお、Ｓ１３では閉空間モデルとして円柱モデル３４を用いたが、閉空間モデルはこれに限らない。例えば式（３）のｒを変更することで、円錐台を用いた閉空間モデルなども作成できる。

＜Ｓ１４：織物の組織生成ステップ＞
次に、制御部１０は、織物の組織を定義する。
織物は、縦糸と横糸とから構成されるため、縦糸と横糸との交差する点（制御点４）では、縦糸及び横糸のうちどちらか一方が表面に現れ、他方は裏面に現れる。

各制御点４において縦糸あるいは横糸のどちらが表面に現れるかは、行列Ａにより定義される。この行列Ａを表裏配置情報と呼ぶ。例えば、図９は平織の基本単位となる縦糸５１および横糸５２の組織を表しているが、この場合、表裏配置情報は、式（５）に示すような２×２行列により定義される。これは縦糸５１について定めたもので、縦糸５１が表にある場合を１、裏にある場合を−１としたものである。

平織の場合では、図９の基本単位が繰り返されるので、縦糸５１に関しては、各制御点４における表裏配置情報が行列Ａのいずれかの要素に該当することになる。ここでは、その該当する要素をＡ_i,jとする。以上から、各制御点４における縦糸５１の座標ｇ＝（ｇ_ｘ，ｇ_ｙ，ｇ_ｚ）は式（６）で定義できる。なお、ｘ方向は横糸５２の長軸方向、ｙ方向は上記の表裏方向（高さ方向）、ｚ方向は縦糸５１の長軸方向に対応する。

ここで、Ｉ_ｗａｒｐは縦糸５１の間隔、Ｉ_ｗｅｆｔは横糸５２の間隔、ｒは縦糸５１の半径である。横糸５２については、行列Ａを−Ａとすることで、同様に制御点４における座標を算出できる。本実施形態では、制御部１０は、ステップＳ１４の処理を、制御点４の数だけ繰り返す。

なお、ここでは平織の場合について説明したが、上記の行列Ａのサイズあるいは値の定義により、例えば綾織など、様々な織り方に対応することが可能である。

＜Ｓ１５：織物の形状生成ステップ＞
次に、制御部１０は、縦糸と横糸の繊維が、それぞれ隣り合う制御点４間を滑らかに補間するように、前記の線分３１を構成する各ノードを適宜平行移動する処理を行う。

図１０は、縦糸５１の場合について、糸の変形を説明する図である。図に示すように、縦糸５１と横糸５２とが交差する制御点４のｚ位置ｚ_ｋから、縦糸５１と次の横糸５２とが交差する制御点４のｚ位置ｚ_ｋ＋１までの間を、縦糸５１内の繊維が滑らかに補間される。

上記の補間のため、ここでは、補間関数ｆ（ｙ_ａ，ｙ_ｂ，ｔ）を用いる。ｙ_ａとｙ_ｂは対象となる制御点４における縦糸５１のｙ軸の座標である。ｔは、隣り合う制御点４間のｚ方向の位置を示し［０，１］の値をとる媒介変数である。

まず、糸を変形するために、以下の式（７）に示すｆ’（ｙ_ａ，ｙ_ｂ，ｔ）を、各線分３１のノードのｙ座標に加える。

ここでは、補間関数ｆ（ｙ_ａ，ｙ_ｂ，ｔ）の一例として、式（８）に示す３次元ベジエ曲線を用いるものとする。なお、式（８）に代えて、その他の補間関数を用いることも可能である。

なお、その他隣り合う制御点４間での糸の生成に必要なパラメータは、上記と同様に、各制御点４での値と、予め定めた補間関数によって定めることができる。

変形処理された糸の３次元形状を、図１１に示す。また、縦糸と横糸をそれぞれ６本ずつ用いた平織の織物の３次元形状を図１２に示す。図１１、図１２に示すように、ハイトデータ処理装置１で生成された３次元形状（織物データ）は、糸に含まれる繊維の質感が微細に表現されていることが分かる。

なお、Ｓ１５では、更に、生成した織物データについて、糸の表面もしくは内部に含まれる繊維がほつれている様子を示す「ケバ」の調整を行うようにしてもよい。

「ケバ」を表現するために、制御部１０は、まず、糸として束ねられた線分３１の中から「ケバ」とする線分３１を所望の数Ｎ_ｆだけ無作為に選択する。ここで、Ｎ_ｆは区間［Ｎ_ｆＭｉｎ，Ｎ_ｆＭａｘ］の無作為な値とする。Ｎ_ｆＭｉｎは０以上、Ｎ_ｆＭａｘは円柱モデル３４等の閉空間モデルに充填された線分３１の数Ｎ_ｔ以下とする。

制御部１０は、選択した線分３１を糸の表面に飛び出させるために、直線状に変形させ、各ノードにノイズを付加する。ケバとなる線分３１のノードｎ_ｉの位置は、式（９）のｎ_ｉ’に移動する。

Ｚ_ｆ１は糸の飛び出し距離を定義するパラメータであり、区間［Ｊ_{ｆ１Ｍｉｎ}，Ｊ_{ｆ１Ｍａｘ}］の乱数とする。Ｚ_ｆ２は、繊維の揺らぎを定義するパラメータであり、各要素が区間［Ｊ_{ｆ２Ｍｉｎ}，Ｊ_{ｆ２Ｍａｘ}］の乱数である３次元ベクトルとする。このようにして、糸の「ケバ」を付加した３次元形状を図１３に示す。

この他、例えば円柱モデル３４等の半径ｒをランダムに増減させる等により、糸の太さに「ムラ」を加えることなども可能である。

＜Ｓ１６：階調画像生成ステップ＞
次に、ハイトデータ処理装置１は、上記のようにして生成された織物データの３次元形状をハイトデータに変換する処理を行う。制御部１０は、生成された織物データの３次元形状に関して、各平面位置で最も高い部分を例えば２５６階調のグレースケールによる画素値で表したものをハイトデータとして生成する。このハイトデータの例を、図１４に示す。

＜Ｓ２：ハイトデータ変換ステップ＞
次に、ハイトデータ変換ステップ（図３のＳ２）における処理を説明する。ハイトデータ処理装置１の制御部１０は、Ｓ２において、Ｓ１で生成されたハイトデータの内部領域の凹凸形状変更処理と、ハイトデータの外周部の凹凸形状のシームレス処理とを行う。

エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータとしては、エンボス版のサイズに合わせた大きなものが必要である。前述したように、この版下用ハイトデータは、単位ハイトデータを並べて作成されるが、上記のＳ１で生成されたハイトデータをそのまま単位ハイトデータとして用いると、単位ハイトデータの繋ぎ目が連続しない場合がある。よって、Ｓ２においてハイトデータの外周部の凹凸形状のシームレス処理を行うことが必要になる。
また、ハイトデータの内部領域の凹凸形状変更処理は、前記したように、壁紙等のシートにおいて、同じ凹凸柄の繰り返しが不自然な印象を与えるのを防ぐために行われるものである。

ハイトデータ変換ステップ（図３のＳ２）としては、図１５に示すように、内部領域パラメータ変更ステップ（Ｓ２１）、制御点付加ステップ（Ｓ２２）、ハイトデータ上書きステップ（Ｓ２３）、枚数判定ステップ（Ｓ２４）が含まれる。

以上の処理を説明する前に、まず図１６を参照しステップＳ１で生成されたハイトデータ等の例について説明する。本実施形態では、Ｓ１において、図５で説明した４×４個のセグメント３に対応する計１６個の制御点４で前述したパラメータを設定する。図１６（Ａ）に示すように、これらの制御点４は、縦糸５１（５１−１〜５１−４）と横糸５２（５２−１〜５２−４）の交点に配置されている。横糸５２−１に沿った制御点４を見ると、制御点４−１は領域２の左端部に位置し、制御点４−４は領域２の右端部に位置する。

Ｓ１では、各制御点４のパラメータに基づいて、上記のようにして織物の３次元形状を表す織物データが生成され、これに基づくハイトデータが生成される。横糸５２−１の方向に沿って連続する制御点４−１〜４−４について見た場合、図１６（Ｂ）に示すように、隣り合う制御点４の間に、各制御点４で設定されたパラメータや制御点４間を補間する補間関数等により、横糸５２−１やケバ６２等の織物データ６６が生成されている。また、図１６（Ｂ）の６７はハイトデータの一部であり、織物データ６６の３次元形状の高さの最高値を０〜２５５の画素値であらわしたものである。

＜Ｓ２１：内部領域パラメータ変更ステップ＞
Ｓ２において、制御部１０は、まず制御点４のパラメータを変更する処理を行う。ここでは、Ｓ１１で入力した各制御点４の位置情報を参照し、領域２の外周から１セグメント分の幅よりも内側にある制御点４のパラメータを変更する処理を行う。
従って、本実施形態では図５に示す４×４の制御点４のうち、内部領域にある２×２の制御点４のパラメータが変更される。パラメータの変更は、例えばランダムに行うことができる。

図１７はパラメータの変更について示す図である。図１７において、Ｐ₁〜Ｐ₁₆は、各制御点４におけるパラメータの値であり、Ｐ_6’、Ｐ_7’、Ｐ_10’、Ｐ_11’あるいはＰ_6”、Ｐ_7”、Ｐ_10”、Ｐ_11”は、それぞれＰ₆、Ｐ₇、Ｐ₁₀、Ｐ₁₁の変更後の値である。
後述するが、本実施形態では必要な枚数の単位ハイトデータを作成するまで、Ｓ２１の処理を複数回行い、各回ごとに、内部領域の２×２の制御点４のパラメータを互いに異なる値へと変更する。これにより、内部領域の凹凸形状が、同種の織物のテクスチュア形状であり類似しながらも、詳細な形状においては互いに異なる織物データおよびハイトデータを生成できる。

＜Ｓ２２：制御点付加ステップ＞
続いて、Ｓ２２の制御点付加ステップについて説明する。なお、以下の説明は、主に横糸５２−１に沿った制御点４−１〜４−４（図１６参照）について説明する。

Ｓ２２において、制御部１０は、図１８（Ａ）に示すように、領域２の左端の制御点４−１をコピーして、領域２の右外側で制御点４−４の隣に付加し、制御点４−１’とする。制御点４−１’の持つパラメータは、制御点４−１と同様のものである。これにより、制御点４−４と制御点４−１’の間に、上記と同様にして織物データ６６やケバ６２等が生成される。

＜Ｓ２３：ハイトデータ上書きステップ＞
次に、制御部１０は、ハイトデータ６７の画素値に応じて、図１８（Ｂ）に示す、領域２の右端部の外側の部分のハイトデータ６７−１を、領域２の左端部のハイトデータ６７−２に上書きする。この際、ハイトデータ６７−１の左端を領域２の左端に合わせる。

制御部１０は、このとき対応する位置で画素値を比較し、ハイトデータ６７−１の画素値が、ハイトデータ６７−２の画素値よりも高い場合には、当該位置の画素値をハイトデータ６７−１の画素値とする。そうでない場合は、ハイトデータ６７−２の画素値を維持する。

ステップＳ２３の処理は、領域２の左外側についても行う。即ち、領域２の左端部の外側の部分のハイトデータ６７−３を、領域２の右端部のハイトデータ６７−４に上書きする。この際、ハイトデータ６７−３の右端を領域２の右端に合わせる。上記と同様、制御部１０は、このとき対応する位置で画素値を比較し、ハイトデータ６７−３の画素値が、ハイトデータ６７−４の画素値よりも高い場合には、当該位置の画素値をハイトデータ６７−３の画素値とする。そうでない場合は、ハイトデータ６７−４の画素値を維持する。

以上の処理を行うと、図１９に示すようなハイトデータ６７が生成される。これは、領域２の右端部の外側、および左端部の外側の織物データ６６（図１８（Ａ）参照）を、領域２の左端部および右端部にそれぞれ上書きし図１９の織物データ６６を生成したことに実質等しくなり、横糸５２−１に沿ったハイトデータ６７の端部Ａと端部Ａ’が連続するようになる。

即ち、図２０に示すように、ハイトデータ６７を横にならべた場合に、その繋ぎ目６５でハイトデータ６７は滑らかに連続する。これは、織物データ６６の端部同士が繋ぎ目６５で連続することからもわかる。

図２１（Ａ）に示すように、ステップＳ２２〜Ｓ２３の処理をその他の横糸５２−２〜５２−４に沿った制御点４についても行うと、図２１（Ｂ）に示すようなハイトデータ６７が生成される。このハイトデータ６７では、横糸５２−２に対応するハイトデータ６７の端部Ｂと端部Ｂ’、横糸５２−３に対応するハイトデータ６７の端部Ｃと端部Ｃ’、横糸５２−４に対応するハイトデータ６７の端部Ｄと端部Ｄ’も連続するようになる。ここでは、説明を分かり易くするため、各横糸５２の幅方向を１つの画素で表している。

縦糸５１に沿った方向についても同様の処理を行うと、単位ハイトデータ６７ａが作成される。この単位ハイトデータ６７ａは、図２１（Ｃ）に示すように縦横に位置を合わせて並べたときに、繋ぎ目で滑らかに連続するようになる。

なお、Ｓ２３においてハイトデータ６７を上書きする際には、横糸５２と直交する方向に所定量位置をずらして上書きすることも可能である。

即ち、図２２（Ａ）に示すように、横糸５２−１、５２−２、５２−３、５２−４に対応し領域２の右端部の外側にあるハイトデータ６７で、横糸５２−３、５２−４、５２−１、５２−２に対応し領域２の左端部にあるハイトデータ６７をそれぞれ上書きする。
また、横糸５２−１、５２−２、５２−３、５２−４に対応し領域２の左端部の外側にあるハイトデータ６７で、横糸５２−３、５２−４、５２−１、５２−２に対応し領域２の右端部にあるハイトデータ６７をそれぞれ上書きする。

この場合、横糸５２−１に対応するハイトデータ６７と横糸５２−３に対応するハイトデータ６７が連続し、横糸５２−２に対応するハイトデータ６７と横糸５２−４に対応するハイトデータ６７が連続するようになる。即ち、図２２（Ｂ）に示す端部Ａと端部Ｃ’、端部Ａ’と端部Ｃ、端部Ｂと端部Ｄ’、端部Ｂ’と端部Ｄが連続するようになる。

その後、縦糸５１の方向については前述したようにシームレス処理を行うと、単位ハイトデータ６７ａが作成される。この単位ハイトデータ６７ａは、図２２（Ｃ）のように、横糸５２と直交する方向（ｚ軸方向）に所定量位置をずらして並べたときに繋ぎ目が連続するようになる。単位ハイトデータ６７ａを位置をずらして並べると、繋ぎ目がより自然に見えるようになる。

＜Ｓ２４：枚数判定ステップ＞
以上のＳ２１〜Ｓ２３の処理は、版下用ハイトデータに必要な枚数だけ単位ハイトデータ６７ａを作成するまで続けられる。全ての単位ハイトデータ６７ａを作成していない場合（Ｓ２４；Ｎｏ）は、Ｓ２１〜Ｓ２３の処理を行い次の単位ハイトデータ６７ａを作成する。

前記したように、Ｓ２１では、各単位ハイトデータ６７ａの作成毎に、内部領域の制御点４のパラメータを変えるので、内部領域の凹凸形状のみ異なり、外周部の凹凸形状は同じである複数の単位ハイトデータ６７ａが生成されることになる。以上のようにして必要な枚数だけ単位ハイトデータ６７ａを生成すると（Ｓ２４；ＹＥＳ）、処理を終了する。

なお、外周部とは、以上の処理により、複数の単位ハイトデータ６７ａ間で同じ凹凸形状となっている、単位ハイトデータ６７ａの領域の外周から内側へ向かって所定の幅の領域を指す。この幅は、例えば図１８でいえば、ハイトデータ６７−２あるいは６７−４の幅に該当する。また、制御点４を基準として表現した場合では、領域２の左端部の制御点４−１から領域２の左端までの距離、あるいは領域２の右端部の制御点４−１から領域２の右端までの距離に対応することになる。
そして、この幅は、制御点４の配置等により所定の値に定めることができる。また、上記した凹凸形状のシームレス処理が行われた場合には、この外周部の凹凸形状がシームレス処理されることになる。一方、この外周部より内側にある領域を、ここでは内部領域といっている。

＜Ｓ３：版下用ハイトデータ生成ステップ＞
制御部１０は、上記のように生成された複数の単位ハイトデータ６７ａを、図２３（Ａ）や図２３（Ｂ）等に示すように複数並べた版下用ハイトデータ７０を生成する。

版下用ハイトデータ７０は、単位ハイトデータ６７ａを複数並べたものであるが、これら複数の単位ハイトデータ６７ａは、外周部６９の凹凸形状が、同じでありかつシームレス処理が行われているので繋ぎ目での連続性が保たれる一方、内部領域６８の凹凸形状は、各単位ハイトデータ６７ａ間で、同種の織物のテクスチュア形状であり類似したものでありながらも、その詳細形状が異なるものとなっている。

この版下用ハイトデータ７０を用いて製造したエンボス版の凹凸形状をシートに転写したものは、図２３（Ｃ）、図２３（Ｄ）のシート８０に示すように、各単位ハイトデータ６７ａに対応する凹凸形状の複数の単位領域８０ａを並べた凹凸形状を有するものとなる。
従って、上記と同様、これら複数の単位領域８０ａは、外周部８２の凹凸形状が同じであり、かつ繋ぎ目での連続性が保たれる一方、内部領域８１の凹凸形状は、各単位領域８０ａ間で、同種の織物のテクスチュア形状であり類似したものでありながらも、その詳細形状が異なる。なお、図２３（Ｃ）のシート８０は図２３（Ａ）の版下用ハイトデータ７０に対応し、図２３（Ｄ）のシート８０は図２３（Ｂ）の版下用ハイトデータ７０に対応する。

そのため、シート８０では、同じ柄の繰り返しが生じず、また、単位領域８０ａ間の凹凸形状も連続する。以上より、不自然な印象を与えない意匠性の高いシート８０が形成できる。また、前記したように、シート８０を壁紙として用いる場合などでは必要に応じてカットして用いることができるなど、利便性が向上する。なお、このシート８０は、壁紙以外にも適用が可能である。

なお、シート８０を製造する際には、単位ハイトデータ６７ａの凹凸形状が必ずしも正確に反映されるわけではなく、シート素材等の製造条件によってわずかな誤差が生じる場合もある。ここで、上記した単位領域８０ａの凹凸形状に関していう「同じ」、「異なる」、あるいは「連続する」の語については、このようなわずかな誤差は考慮しないものとする。

例えば、上記のような原因により、複数の単位領域８０ａ間で外周部８２の凹凸形状にわずかな誤差が生じる場合もあるが、上記した単位領域８０ａの外周部８２の凹凸形状に関していう「同じ」とは、そのようなわずかな誤差がある場合も含めるものとする。
これは単位領域８０ａの凹凸形状に関して「連続する」あるいは「異なる」という場合にも同様である。すなわち、上記のような製造時の誤差により連続するようになった形状、あるいは異なるものとなった形状は、単位領域８０ａの凹凸形状に関していう「連続する」あるいは「異なる」形状には含まないものとする。

また、本実施形態では、制御点４において設定されたパラメータに基づき繊維の３次元形状を生成し、この形状から単位ハイトデータ６７ａを作成することで、実際のテクスチュアから型を取るなどの必要が無く、微細な繊維の形状を表現したハイトデータを簡易に得ることができる。また、パラメータを変えることで、内部領域６８の凹凸形状が同種の繊維を表現するものであり類似するものでありながら、これらが詳細な形状においては異なる、複数の単位ハイトデータ６７ａが容易に生成できる。

ただし、上記のような複数の単位ハイトデータ６７ａを生成する方法はこれに限ることはない。例えば、Ｓ１で生成したハイトデータ６７に関して、Ｓ２２、２３で説明した外周部６９の凹凸形状のシームレス処理を行った後、図２４に示すように、ハイトデータ６７の内部領域６８の画像処理を行うことにより、内部領域６８’、…、６８”の詳細形状を互いに異なるものとして複数の単位ハイトデータ６７ａを作成することもできる。この際の画像処理としては、既知の種々の手法を用いることができる。その一例として、例えば、テクスチャシンセシスと呼ばれる手法を適用することが可能である。また、画像処理ソフトウェアを使用し、ユーザのマウスやキーボードなどによる入力に従って、内部領域６８について糸の太さや濃度を変化させたり、画像を部分的にコピーペーストしたりといった画像処理をハイトデータ処理装置１に実行させ、内部領域６８の詳細形状を互いに異ならせることも可能である。

また、本実施形態ではシートに再現するテクスチュアを織物としており、縦糸や横糸の形状を定めて単位ハイトデータ６７ａを生成することでシート８０に織物の凹凸形状を再現できるが、シート８０に再現するテクスチュアがこれに限られることもない。その他の例としては、例えば石やレンガなどが挙げられる。

次に、上記のようにして生成された版下用ハイトデータ７０を用いてシート作成のためのエンボス版を製造するエンボス版製造装置の例について、第２〜第４の実施形態として以下説明する。各実施形態のエンボス版製造装置は、エンボス版製造手段においてそれぞれ異なる。

［第２の実施形態］
図２５は、第２の実施形態に係るエンボス版製造装置９Ａについて示す図である。図に示すように、エンボス版製造装置９Ａは、コンピュータ９１（ハイトデータ処理装置１）、彫刻機９３、支持台１０１、及び回転駆動部１０４を備える。

このエンボス版製造装置９Ａは、第１の実施形態のハイトデータ処理手順に従って生成された版下用ハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにテクスチュアの凹凸形状のエンボス彫刻を施すものである。

コンピュータ９１は、ハイトデータ処理装置１として上記した手法により版下用ハイトデータを生成し、これに基づき、彫刻機９３を制御する。

彫刻機９３は、彫刻機制御部９３１、駆動部９３２、及び彫刻用刃（打刻刃）９３３を備えるエンボス版製造手段である。
彫刻機制御部９３１は、コンピュータ９１から入力される版下用ハイトデータに従って駆動部９３２を駆動し、彫刻用刃９３３を支持台１０１，１０１に支持されたエンボス版シリンダ１００の版面に対して深さ方向に上下動するとともに、エンボス版シリンダ１００の回転軸方向（図中Ａ−Ａ方向）に移動させる。回転駆動部１０４は、コンピュータ９１から入力される指示に従って、支持台１０１、１０１に支持されたエンボス版シリンダ１００を回転軸Ａ−Ａ方向を中心に回転する。

これにより、彫刻機９３は、版下用ハイトデータに従った深さで金属製或いは樹脂製のエンボス版シリンダ１００に彫刻を施し、織物等のテクスチュアの凹凸形状を形成する。

なお、彫刻機９３は、彫刻用刃９３３に代えて、レーザ等を用いる方式のものでもよい。この場合、彫刻機９３は、図２５の駆動部９３２及び彫刻用刃９３３に代えて、走査部、レーザ発振器、及び光学ユニットを用いればよい。上記と同様にしてエンボス版シリンダ１００、あるいは光学ユニットを移動させながら、版下用ハイトデータに基づく出力値のレーザビームを光学ユニットを介して照射する。これによっても、エンボス版シリンダ１００に織物等のテクスチュアの凹凸形状を形成できる。

［第３の実施形態］
図２６は、第３の実施形態のエンボス版製造装置９Ｂについて示す図である。このエンボス版製造装置９Ｂは、版下用ハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダにエッチングの手法を用いて織物等のテクスチュアの凹凸形状を形成するもので、コンピュータ９１（ハイトデータ処理装置１）、パターン露光装置９６、腐食装置９８、支持台１０１、及び回転駆動部１０４を備える。支持台１０１にはレジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００が取り付けられている。

パターン露光装置９６は、走査部９６１、レーザ発振器９６２、及び光学ユニット９６３を備えるエンボス版製造手段である。パターン露光装置９６は、コンピュータ９１から入力される版下用ハイトデータに従って走査部９６１を駆動し、光学ユニットをエンボス版シリンダ２００の回転軸方向に移動させるとともに、レーザ発振器９６２を制御して版下用ハイトデータに従った出力値に変調する。

本実施形態では、所定の画素値を閾値として版下用ハイトデータを二値化し、当該閾値を境にレーザがＯＮ／ＯＦＦになるように制御を行う。これにより、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００の所定位置にレーザビームを照射し、露光部と非露光部とからなるパターンを形成する露光処理を行う。レジスト層としては、ポジ型レジスト、ネガ型レジストのいずれも用いることができる。ポジ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層がゲル化する。ネガ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層が硬化する。

露光処理が完了したエンボス版シリンダ２００は、図示しない現像装置において現像と版洗浄が行われ、レジスト層のうち露光部（ポジ型レジストの場合）もしくは非露光部（ネガ型レジストの場合）が除去され、レジスト層のパターンが形成される。

その後、腐食装置９８によりエンボス版シリンダ２００に腐食液を作用させると、レジスト層の除去により露出した金属面の部分が腐食を受けて窪み、パターンに応じた凹凸形状が形成される。続いて洗浄処理を行い、残ったレジスト層を除去する。

その後、再度レジスト層をエンボス版シリンダ２００の表面にコーティングし、以上の処理を上記の閾値を変えて繰り返す。これを複数回行うことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に深さの異なる凹凸を形成できる。閾値としては、適当な値を予め定めておくとよい。

また、レーザビームによってレジスト層のパターンを形成する手段としては、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００に直接描画（レジスト層を焼飛ばす）し、現像処理や洗浄処理によるレジスト層の除去を必要としないレーザ刷版装置もあり、多く用いられている。この場合のエンボス版製造装置の構成は、現像装置等を必要としない点を除いて上記のエンボス版製造装置９Ｂと同様である。

この際、パターン露光装置９６は、前記と同様の制御を行い、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００の所定位置にレーザビームを照射し、露光部のレジスト層を焼き飛ばし除去してレジスト層のパターンを形成する。レーザ発振器９６２が発振するレーザとしては、ＹＡＧレーザやファイバーレーザを使用することができる。

その後、上記と同様の腐食処理を行いパターンに応じた凹凸形状をエンボス版に形成した後、洗浄処理により残ったレジスト層の除去を行う。これらレジスト層コーティング、露光処理、腐食処理、洗浄処理を、上記の閾値を変えて複数回繰り返すことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に深さの異なる凹凸が形成できる。

［第４の実施形態］
図２７は、第４の実施形態のエンボス版製造装置９Ｃについて示す図である。このエンボス版製造装置９Ｃは、コンピュータ９１（ハイトデータ処理装置１）、パターン露光装置９６、腐食装置９８、エンボス版露光装置９９、支持台１０１、及び回転駆動部１０４を備える。支持台１０１にはレジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ２００が取り付けられる。

エンボス版製造装置９Ｃは、版下用ハイトデータに基づいてフォトマスク９７を製造し、これを用いて、エンボス版シリンダ２００にエッチングを行うことにより、織物等のテクスチュアの凹凸形状を形成するものである。すなわち、第４の実施形態では、パターン露光装置９６等をフォトマスク９７の製造段階で利用し、このフォトマスク９７を用いて、エンボス版露光装置９９によりエンボス版の製造を行う。第４の実施形態では、これらの装置がエンボス版製造手段を構成している。

フォトマスク９７は、基板９７３上に遮光膜９７２が形成され、更にその上にレジスト層９７１がコーティングされる。このような状態のフォトマスク９７に対して、パターン露光装置９６は、第３の実施形態と同様の方法で版下用ハイトデータの閾値に従った露光制御を行なうことにより、レジスト層９７１に露光部と非露光部とを形成する。その後、現像および洗浄を行って不要なレジスト層を除去してレジスト層のパターンを形成する。

続いて、腐食装置９８により腐食液を作用させると、レジスト層が除去されて露出した遮光膜９７２の部分が除去される。その後、洗浄処理により残ったレジスト層を除去すると、遮光膜９７２のパターンを基板９７３上に形成したフォトマスク９７が製造される。

フォトマスク９７は、上記の閾値の値を変えつつ必要な数だけ製造され、それぞれエンボス版シリンダ２００への露光の際に使用される。すなわち、フォトマスク９７にてレジスト層がコーティングされたエンボス版シリンダ２００を覆い、エンボス版露光装置９９で露光することにより、フォトマスク９７に形成されている遮光パターンに従った露光部及び非露光部が形成される。

続いて、第３の実施形態と同様に現像、洗浄処理を行うことにより不要なレジスト層が除去されてレジスト層のパターンが形成される。その後、腐食および洗浄処理を行うと、前記と同様に、エンボス版シリンダ２００の表面に凹凸が形成され、残ったレジスト層が除去される。
フォトマスク９７を交換して、レジスト層コーティング、露光、現像、洗浄（不要なレジスト層の除去）、腐食、洗浄（残ったレジスト層の除去）の処理を繰り返すことにより、エンボス版シリンダ２００の表面に複数段の凹凸形状が形成できる。

第２〜第４の実施形態のエンボス版製造装置９Ａ、９Ｂ、９Ｃによれば、第１の実施形態の手法で生成された版下用ハイトデータに基づいて、エンボス版シリンダ１００、２００に織物等のテクスチュアの凹凸形状を形成することが可能となる。また、このエンボス版シリンダ１００、２００を用いて、所望のシートにエンボス加工を施せば、図２３で説明したようなシート８０を製造できる。シート８０の素材は、用途に応じて決定されるが、例えば、紙、樹脂、合成皮革、金属等を用いることができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

１：ハイトデータ処理装置
３：セグメント
４：制御点
９Ａ〜９Ｃ：エンボス版製造装置
１９：ハイトデータ生成部
２０：ハイトデータ変換部
３０：版下用ハイトデータ生成部
６６：織物データ
６７：ハイトデータ
６７ａ：単位ハイトデータ
６８、８１：内部領域
７０：版下用ハイトデータ
８０：シート
８０ａ：単位領域
６９、８２：外周部

Claims (9)

1. 複数の単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を並べて形成された凹凸形状を有するシートであって、
   前記単位領域は、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位領域は、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするシート。
2. 隣り合う前記単位領域の前記外周部の凹凸形状同士が連続することを特徴とする請求項１記載のシート。
3. 各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、
   複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、
   を有し、
   前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするハイトデータ処理装置。
4. 前記単位ハイトデータ作成手段は、
   前記版下用ハイトデータ生成手段で複数の前記単位ハイトデータを並べた際に、隣り合う前記単位ハイトデータの前記外周部の凹凸形状同士が連続するように、複数の前記単位ハイトデータを作成することを特徴とする請求項３記載のハイトデータ処理装置。
5. 前記単位ハイトデータは、複数の制御点のパラメータに基づいて生成された織物のテクスチュアの形状より生成されるものであり、
   前記単位ハイトデータ作成手段は、前記内部領域にある制御点のパラメータを変更することにより、前記内部領域の凹凸形状を変更することを特徴とする請求項３または請求項４記載のハイトデータ処理装置。
6. ハイトデータ処理装置が、
   各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成するステップと、
   複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成するステップと、
   を実行し、
   前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするハイトデータ処理方法。
7. ハイトデータ処理装置を、
   各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、
   複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、
   して機能させ、
   前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするプログラム。
8. 織物のテクスチュアの凹凸形状を表す版下用ハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造装置であって、
   各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成する単位ハイトデータ作成手段と、
   複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成する版下用ハイトデータ生成手段と、
   前記版下用ハイトデータに基づいて、織物のテクスチュアの凹凸形状を形成したエンボス版を製造するエンボス版製造手段と、
   を具備し、
   前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするエンボス版製造装置。
9. 織物のテクスチュアの凹凸形状を表す版下用ハイトデータを用いてエンボス版の製造を行うエンボス版製造方法であって、
   各々が単位領域の織物のテクスチュアの凹凸形状を表す複数の単位ハイトデータを作成するステップと、
   複数の前記単位ハイトデータを並べた、エンボス版の製造に用いる版下用ハイトデータを生成するステップと、
   前記版下用ハイトデータに基づいて、織物のテクスチュアの凹凸形状を形成したエンボス版を製造するステップと、
   を具備し、
   前記単位ハイトデータは、外周部と前記外周部の内側にある内部領域を有し、
   前記複数の単位ハイトデータは、前記外周部の凹凸形状が同じであり、かつ前記内部領域の凹凸形状が互いに異なることを特徴とするエンボス版製造方法。