JPH08156438A

JPH08156438A - エンドレス版およびその製造方法

Info

Publication number: JPH08156438A
Application number: JP33110594A
Authority: JP
Inventors: Eisuke Arai; 榮助荒井; Yoshio Sukegawa; 佳夫助川; Masaru Okamoto; 優岡本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-12-08
Filing date: 1994-12-08
Publication date: 1996-06-18

Abstract

(57)【要約】【目的】境界線が認識される可能性のない印刷物を作
成することが可能なエンドレス版およびその製造方法を
提供する。【構成】シリンダＳを用意し（Ｓ１）、エンドレス絵
柄Ｑに対応する階調画像データを用意し（Ｓ２）、絵柄
Ｑの各画素の階調に対応した大きさをもった多数のセル
からなる二次元セル配列を定義する（Ｓ３）。この二次
元セル配列をシリンダＳの表面上にマッピングし、セル
ピッチが均一になるように修正した二値画像データを用
意する（Ｓ４）。シリンダＳの表面にレジスト層を形成
し（Ｓ５）、二値画像データに基づいてレーザビームを
照射して露光を行い（Ｓ６）、現像（Ｓ７）、シリンダ
Ｓ表面のエッチング（Ｓ８）を行い、ダイレクトエッチ
ング法によりエンドレス版を作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、エンドレス版およびそ
の製造方法、特に、印刷用シリンダの表面に、境界のな
い連続模様をもったエンドレス絵柄を形成してなるエン
ドレス版およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】建材などの表面に絵柄を印刷する場合、
流れ方向（版の回転方向）および幅方向ともに境界のな
い連続模様をもったエンドレス絵柄を空間的に繰り返し
配置することが一般に行われている。たとえば、１ｍ四
方の大きさのエンドレス絵柄を円筒版面上に用意してお
けば、このエンドレス絵柄を輪転印刷により円周方向に
連続して空間的に繰り返し印刷することにより、より広
い面積をもった壁紙などを得ることができる。特に、流
れ方向に関しては、全くつなぎ目のない絵柄を、理論上
は無限長にわたって印刷することが可能である。

【０００３】このようなエンドレス絵柄を作成するに
は、境界部分の画像処理が重要になる。すなわち、エン
ドレス絵柄を隣接して配置したときに、その境界部分が
目立たないように、できるだけ模様が連続して見えるよ
うに絵柄を調整する必要がある。このような絵柄の境界
部分の調整法は、特公昭３８−２１２７４号公報や特公
昭４３−２０６５号公報等により公知である。この絵柄
の調整作業は、熟練を要し、また、手間もかかる作業で
あった。そこで近年は、手作業に代えて、コンピュータ
による画像処理を用いて、絵柄の上辺と下辺の間、ある
いは絵柄の右辺と左辺の間の画素値に急激な変化が生じ
ないように、修正が行われる。たとえば、特公昭６２−
４５９７５号公報、特公昭６２−４５９７７号公報、特
公昭６２−４５９７８号公報には、このような画像処理
の手法が開示されている。

【０００４】こうしてエンドレス絵柄の画像データ（こ
の段階では、量子化されていない連続画像）が用意でき
ると、これをセル（網点）で量子化してドラム上のフィ
ルムに出力し、フィルム原版が作成される。たとえば、
特開昭６３−８７４３号公報、特開昭６３−８７４４号
公報には、このようなエンドレス版用フィルム原版の作
成方法が開示されている。いわゆるコンベンショナルグ
ラビア製版では、このフィルム原版上のセルで量子化さ
れた濃淡パターンをカーボンティッシュ上に露光させて
厚薄パターンとして形成し、この露光カーボンティッシ
ュ（レジストフィルム）を銅版の上に円周方向に対向す
る辺同士を突き合わせて転写した上で、銅版に対するエ
ッチングを行うことになる。カーボンティッシュが薄い
領域ほど深い溝をもったセルが形成され、グラビア印刷
を行った場合に、高い濃度が表現されることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、所定
の画像処理を施して得られるエンドレス絵柄は、空間的
に繰り返し配置した場合であっても、絵柄の境界におい
て模様が連続しているように見え、建材などに印刷した
場合にも、模様としての違和感はない。グラビア製版の
場合、所定形状のセルを定義し、この模様を多数のセル
を配置することによって表現することになる。グラビア
印刷で用いられるセルの大きさは、通常、肉眼による識
別が困難な程度の微小のもの（数１０μｍ〜数１００μ
ｍ程度の大きさ）であり、建材の印刷面をごく一般的な
態様で観察しても、個々のセルが認識されることはな
い。しかしながら、セルが特定の境界において不連続で
あると、肉眼によっても、何らかの境界線が認識される
おそれがある。前述したように、一般的なコンベンショ
ナルグラビア製版では、所定の画像処理によって得られ
たエンドレス絵柄は、フィルム原版上に出力され、この
フィルム原版を用いた露光により印刷シリンダ上にパタ
ーンが転写される。このとき、印刷シリンダ上における
エンドレス絵柄の円周方向に突き合わせた境界部分は、
模様レベルでは連続的なものを用いていても、実際にカ
ーボンティッシュを巻き付ける作業時における不可避的
なずれや寸法誤差のために、セルレベルでは不連続にな
るのが一般的である。このようなセルレベルでのずれや
誤差が大きくなると、模様レベルでも不連続が目立って
しまうことになる。上述したように、１つのセルは、数
１０μｍ〜数１００μｍ程度の大きさであり、フィルム
原版を用いたパターン形成では、このような微小な寸法
合わせを行うことは非常に困難である。このため、従来
のエンドレス版では、模様レベルでは連続であっても、
セルレベルでは円周方向の突き合わせ部分において不連
続な境界線が形成され、肉眼で注意深く観察すると境界
線が認識される事があった。

【０００６】そこで本発明は、境界線が認識される可能
性のない印刷物を作成することが可能なエンドレス版お
よびその製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、印刷用シリン
ダの表面に、境界のない連続模様をもったエンドレス絵
柄を形成してなるエンドレス版において、肉眼による識
別が困難な程度の微小領域からなる所定形状のセルを定
義し、連続模様を多数のセルを配置することにより形成
し、配置するセルの面積の大きさあるいはセルの個数密
度によって連続模様の階調を表現し、かつ、印刷用シリ
ンダの表面においてセル単位での不連続部分が生じない
ように構成したものである。

【０００８】また、本発明は、上述のエンドレス版を製
造するために、印刷用のシリンダを用意する段階と、そ
れぞれ所定の画素値をもった多数の画素を二次元平面上
に配列することにより階調をもった単位模様を形成し、
複数の単位模様を隣接して並べた場合にも連続模様が形
成されるように、境界領域に位置する画素の画素値を調
整することにより単位模様がエンドレス絵柄を構成する
ようにし、このエンドレス絵柄に対応する階調画像デー
タを用意する段階と、用意した階調画像データを構成す
る１画素もしくは所定の複数画素について、肉眼による
識別が困難な程度の微小領域からなる所定形状の１セル
を対応づけ、各セルには、それぞれ対応づけられた画素
の画素値に応じた面積あるいは個数密度を定義し、各セ
ルを、それぞれ対応づけられた画素位置に応じた二次元
平面上の位置に配置することにより、二次元セル配列を
定義する段階と、印刷用のシリンダ表面に、偏りのない
連続的な平均セルピッチが得られるように、定義した二
次元セル配列をマッピングする演算を行い、マッピング
されたセルを示す二値画像データを用意する段階と、印
刷用のシリンダの表面にレジスト層を形成する段階と、
このレジスト層を活性化する機能をもったビームをレジ
スト層に対して照射しながら、用意した二値画像データ
に基づいてビームを走査し、レジスト層に照射領域と非
照射領域とからなる露光パターンを形成する段階と、レ
ジスト層を現像して、照射領域および非照射領域のいず
れか一方を選択的に除去し、シリンダの表面の一部を露
出させる段階と、シリンダの露出部をエッチングするこ
とにより、マッピングされたセルに対応する物理的な凹
凸構造を形成し、レジスト層の残存部を除去する段階
と、を行うようにしたものである。

【０００９】

【作用】本発明に係るエンドレス版には、境界のない
連続模様をもったエンドレス絵柄が、微小なセルの集合
によって形成される。連続模様の階調は、この各セルの
面積または個数密度によって表現される。しかも、印刷
用シリンダの表面において、セル単位での不連続部分が
生じないように構成されているため、境界線が認識され
ることはない。

【００１０】また、本発明では、上述のようなセル単位
での不連続部分が生じないエンドレス版を製造するため
に、従来の一般的なコンベンショナルグラビア製版を行
う代わりに、ダイレクトエッチング法を用いて、印刷用
シリンダの表面に直接セルを形成している。すなわち、
二次元平面上のセル配列が得られたら、これをシリンダ
の表面にマッピングする演算を行い、マッピングされた
セルを示す二値画像データを用意する。このとき、マッ
ピングされた状態において、偏りのない連続的なセルピ
ッチが得られるように、必要があれば、シリンダ表面に
マッピングされた各セルの位置を修正する演算を行う。
そして、実際のシリンダの表面にレジスト層を形成した
後、マッピング状態を示す二値画像データに基づいて、
レーザビームなどを走査し、レジスト層を部分的に露光
してセルパターンを形成する。ビームの走査は、セル単
位での不連続部分がないマッピング状態の画像データに
基づいて行われるため、レジスト層上に形成されたセル
パターンにも、不連続部分は生じなくなる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明を図示する実施例に基づいて説
明する。図１は、エンドレス絵柄を利用した壁紙の一例
を示すものである。壁紙をはじめとするいわゆる長尺物
と呼ばれる建材用表面化粧材では、この例に示すよう
に、エンドレス絵柄Ｑからなる単位模様Ｕを空間的に繰
り返し配置することにより、連続模様Ａを形成するのが
一般的である。図示する例では、単位模様Ｕの左辺と右
辺とが隣接するため、左辺の模様が右辺にそのまま連続
するようなエンドレス絵柄Ｑが用いられている。すなわ
ち、図２(a) に示すように、左右に隣接して２つの単位
模様Ｕを配置したときに、その境界Ｂにおいて、模様が
連続することになる。図２(b) に示すグラフは、横軸に
図２(a) の横方向に関する位置をとり、縦軸に各位置に
おける画素の画素値をとって示したものである。画素値
としては、たとえば光学的透過（または反射）濃度が利
用される。「模様が連続」とは、このように、「単位模
様を隣接して配置したときに、隣接する境界領域に位置
する画素の画素値がなだらかに変化する」ということを
意味する。ここでいう「なだらか」な程度は、画素値が
絵柄上の二次元座標（ｘ，ｙ）について数学的な連続関
数になる場合をいうことはもちろんであるが、数学的に
は不連続関数であっても、印刷物の通常の観察距離（数
１０ｃｍ以上）において境界部分の模様に目視による違
和感が生じない程度のものも含む。

【００１２】このように、単位模様Ｕとして用いられる
エンドレス絵柄Ｑを作成する方法は、前掲公報にも開示
されているように公知の方法なので、ここでは詳しい説
明を省略する。通常は、コンピュータによる画像処理に
より、このようなエンドレス絵柄Ｑに対応する階調画像
データが用意されることになる。すなわち、所定の画素
値をもった多数の画素を二次元平面上に配列することに
より階調をもった単位模様を形成し、複数の単位模様を
隣接して並べた場合にも連続模様が形成されるように、
隣接する境界領域に位置する画素の画素値がなだらかに
変化するように調整すれば、所望のエンドレス絵柄Ｑに
対応する階調画像データを用意することができる。こう
してエンドレス絵柄Ｑの画像データを用意した後、これ
を出力スキャナ装置のドラム上のフィルムに出力すれ
ば、図３(a) に示すようなフィルム原版が作成される。
いわゆるコンベンショナルグラビア製版では、このフィ
ルム原版上の濃淡パターンをカーボンティッシュ上に厚
薄パターンとして露光形成し、このカーボンティッシュ
（すなわち、レジスト膜）を印刷用シリンダＳの表面に
転写した上で、シリンダＳの表面に対するエッチングを
行う。このエッチングにより、図３(b) に示すように、
シリンダＳの表面に凹凸構造をもったエンドレス版Ｅが
形成されることになる。このエンドレス版Ｅには、カー
ボンティッシュの厚みに応じた深さの凹部をもったセル
が形成され、このセルの集合によってエンドレス絵柄Ｑ
が表現されることになる。

【００１３】図３(a) に示すフィルム原版上のエンドレ
ス絵柄Ｑを、図３(b) に示す印刷用シリンダＳの表面に
転写してエンドレス版Ｅを形成する場合、エンドレス絵
柄Ｑの両端の境界ＢをシリンダＳの円周上の所定位置で
突き合わせることになる。もともとエンドレス絵柄Ｑ
は、図３(a) の対向する左右の境界Ｂにおいて模様が連
続する絵柄であるため、図３(b) に示す印刷用シリンダ
Ｓの円周上の境界Ｂにおいても、模様は連続したものと
なる。したがって、この印刷用シリンダＳを用いて印刷
を行えば、シリンダＳの１回転分を単位模様Ｕとして、
図１に示すような連続模様Ａを印刷することができる。

【００１４】しかしながら、上述のような方法によって
作成されたエンドレス版Ｅを用いた印刷では、確かに、
模様としては空間的に連続したものを得ることができる
が、円周方向に関する突き合わせ部に相当する境界Ｂに
おいては、シリンダＳとカーボンティッシュとの間の寸
法誤差や、伸縮、突き合わせ作業時のずれ、などが生じ
るため、セルレベルでは空間的に連続したものを得るこ
とができない。図４は、境界Ｂにおいて、このようなセ
ルレベルでの不連続が生じた例を示すものである。通
常、グラビア印刷で用いられるセルの大きさは、肉眼に
よる識別が困難な程度の微小のもの（数１０μｍ〜数１
００μｍ程度の大きさ）であり、エンドレス版Ｅを上述
したようなコンベンショナルグラビア製版で作成した場
合、境界Ｂ上においてセルレベルでの整合性を要求する
ことは非常に困難である。したがって、従来のエンドレ
ス版Ｅは、模様レベルではシリンダＳの全表面にわたっ
て連続的なものが得られるが、セルレベルでは境界Ｂに
おいて不連続が生じることになる。このようなセルレベ
ルでの不整合は、建材としての機能を損なうほどの顕著
なものではないにしても、肉眼によって何らかの不連続
線あるいは段差が認識されることが多く、建材の品質を
低下させる要因になる。

【００１５】本発明は、次のような方法でエンドレス版
Ｅを作成し、境界線が認識される可能性のない印刷物の
作成を可能にしたものである。以下、この作成手順を、
図５の流れ図に基づいて説明する。

【００１６】まず、ステップＳ１において、印刷用シリ
ンダＳを用意する。ここでは、図６に示すように、幅２
０００ｍｍ、円周１０００ｍｍの大きさをもち、表面に
銅の層が形成されたシリンダＳを用意したものとする。
次に、ステップＳ２において、エンドレス絵柄Ｑに対応
する階調画像データを用意する。この手順は、上述した
従来の方法と同様である。ここでは、図７に示すよう
に、ｘ軸方向に２００００画素、ｙ軸方向に１００００
画素を配してなる階調画像データを、コンピュータによ
って生成したものとして以下の説明を行うことにする。
座標値（ｘ，ｙ）で示される任意の画素Ｑ（ｘ，ｙ）に
は、それぞれ所定の画素値が定義されており、座標値ｙ
＝１で示される行の各画素（図７の下辺に位置する画
素）と、座標値ｙ＝１００００で示される行の各画素
（図７の上辺に位置する画素）とは、それぞれ近似した
画素値をもっている。

【００１７】続いて、ステップＳ３において、ステップ
Ｓ２で作成した階調画像データの各画素を、それぞれセ
ルに対応づけて二次元セル配列を定義する。図８は、こ
のようにして定義した二次元セル配列の一例を示す図で
ある。このようなセル配列を定義するには、まずセルピ
ッチを定める必要がある。セルピッチは、グラビア印刷
に要求される品質に応じて適宜設定すればよい。通常
は、数１００μｍ程度のセルピッチを設定するのが一般
的である。この実施例では、セルピッチを２５０μｍに
設定している。既に、ステップＳ１において、用意する
シリンダＳの寸法が定まっているので、セルピッチを設
定すれば、全セル数が必然的に決まることになる。本実
施例の場合、図６に示すように、幅２０００ｍｍ、円周
１０００ｍｍのシリンダＳを用意したので、セルピッチ
２５０μｍの場合、図８に示すように、ｘ軸方向に８０
００セル、ｙ軸方向に４０００セルを配してなる二次元
セル配列が定義されることになる。図９は、このように
して定義された二次元セル配列の部分拡大図である。

【００１８】ここで、図７に示す階調画像データが、２
００００×１００００画素からなり、図８に示す二次元
セル配列が８０００×４０００セルからなることを考慮
すると、画素／セル間の対応関係は１対１にはならない
ので、階調画像データ内の画素を所定間隔で間引いて１
対１に対応させるか、あるいは階調画像データ内の複数
ｎ個の画素を１セルに対応させる処理を行う。このと
き、各セルの大きさを、対応する画素の画素値に基づい
て決定する。たとえば、画素／セル間を１対１に対応さ
せた場合には、図８に示すように、座標値（ｘ，ｙ）で
示される任意のセルＣ（ｘ，ｙ）の面積の大きさは、対
応する画素Ｑ（ｘ，ｙ）の画素値に基づいて決定され
る。また、画素／セル間をｎ対１に対応させた場合に
は、対応するｎ個の画素の画素値の平均（単純平均ある
いは重みづけ平均）に基づいて、セルの大きさを決定す
ればよい。この実施例では、各画素の画素値を０〜２５
５までの８ビットのデータで表現しており、この画素値
に対応して、幅０〜２４０μｍの大きさのセルを定義し
ている。

【００１９】続いて、ステップＳ４において、二次元セ
ル配列のマッピングを行う。すなわち、図８に示すよう
な二次元セル配列を、ステップＳ１で用意したシリンダ
Ｓの表面にマッピングする演算を行う。このとき、シリ
ンダ表面において、偏りのない連続的なセルピッチが得
られるように、必要に応じてセルピッチの修正を行う。
たとえば、円周１０００ｍｍのシリンダを用いる予定
で、ステップＳ３において二次元セル配列を定義したと
ころ、実際に用意したシリンダＳの円周の実測値が１０
００．３ｍｍであったような場合には、定義した二次元
セル配列をそのままシリンダＳの表面にマッピングした
のでは、セルレベルでの不連続部分が生じてしまう。こ
のような場合は、セルピッチを、（１０００．３／１０
００）倍だけ拡大する演算を行えば、セルレベルでも連
続した模様がシリンダＳ上にマッピングできる。図１０
は、このようにしてマッピングを行った状態を示す概念
図である。シリンダＳの表面にセルＣが均一なピッチで
配列されている。

【００２０】従来のコンベンショナルグラビア製版で
は、画像の階調情報をセルの深さとして表現していた
が、本発明に係るダイレクト製版では、画像の階調情報
をセルの大きさ（面積）として表現することになる。す
なわち、シリンダＳ上に形成するセルは、それぞれ異な
る大きさをもっているが、その深さは均一である。した
がって、図１０に示すように、シリンダＳの表面にマッ
ピングされたセル配列は、二値画像データとして表現で
きる。たとえば、図１０の例では、セル部分が黒、下地
部分が白で表現されている。ステップＳ４の処理は、ス
テップＳ３で定義した二次元セル配列を、実際に用いる
シリンダＳの表面と等価な仮想面上にマッピングし、必
要に応じてセルピッチの修正を行い、マッピングされた
状態のセルを示す二値画像データをコンピュータ内で生
成する処理である。

【００２１】次に、ステップＳ５において、シリンダＳ
の表面にレジスト層を形成する。この実施例では、レー
ザビームによる露光を行うため、このレーザビームの照
射によって活性化する材料からなるレジスト層を用いて
いる。続いて、ステップＳ６において、レーザビームを
レジスト層に照射して露光を行う。図１１は、この工程
を示す側断面図である。シリンダＳの表面に形成された
レジスト層Ｒのうち、レーザビームＬの照射を受けた領
域だけが活性化することになる。ステップＳ４で用意し
た二値画像データに基づいて、レーザビームをシリンダ
Ｓの表面上で走査するようにすれば、図１０に示すよう
なセル配置に対応する露光パターンを、レジスト層に形
成することが可能になる。図１２は、レーザビームの走
査により、レジスト層Ｒに照射部Ｒ１と非照射部Ｒ２と
からなる露光パターンを形成した状態を示す側断面図で
ある。

【００２２】続いて、ステップＳ７において、レジスト
層に対する現像を行う。この実施例では、照射部Ｒ１が
硬化し、非照射部Ｒ２が現像液に溶出する性質をもった
ネガ型レジストを用いているため、図１３に示すよう
に、現像によって照射部Ｒ１だけが残ることになる。し
たがって、ステップＳ６において、図１０における下地
部分（白い部分）をレーザビームで走査するようにすれ
ば、非照射部となったセル部分のレジスト層は現像によ
って溶出することになる。なお、ポジ型レジストを用い
た場合には、逆にセル部分をレーザビームで走査するよ
うにすればよい。

【００２３】いずれにしても、ステップＳ７における現
像により、シリンダＳ表面のセル形成部分に相当する領
域が露出する。そこで、ステップＳ８において、この露
出部分に対するエッチングを行えば、図１４に示すよう
に、露出部分には凹部Ｆが形成される。この後、残存レ
ジスト層を除去すれば、シリンダＳの表面にエンドレス
版Ｅが形成されることになる。凹部Ｆが個々のセルに対
応し、このセルの大きさによって絵柄の階調が表現され
ることになる。レーザビームによる走査は、図１０に示
すように、二次元セル配列を実際のシリンダＳ上にマッ
ピングした状態を示す二値画像データに基づいて行われ
るため、各セルは均一なピッチで配置され、従来の方法
のように、セルレベルでの不連続部が生じることはな
い。

【００２４】以上、本発明を図示する実施例に基づいて
説明したが、本発明はこの実施例に限定されるものでは
なく、この他にも種々の態様で実施可能である。要する
に、本発明の基本的な技術思想は、階調をもったエンド
レス絵柄を、大きさの異なる多数のセルによって表現し
た二次元セル配列を定義し、この二次元セル配列をシリ
ンダ表面にセルレベルで不連続が生じないようにマッピ
ングした状態を示す二値画像データを用意し、この二値
画像データに基づいて、シリンダ表面に形成されたレジ
スト層をビーム走査するダイレクト製版法を用いること
により、境界線が認識される可能性のない印刷物を作成
することが可能なエンドレス版を実現するものであり、
この基本思想から逸脱しない限り、種々の態様で実施可
能である。以下にいくつかの変形例を開示する。

【００２５】上述の実施例では、図９に示すように、個
々のセルの面積の大小で濃淡表現を行っており、セルの
ピッチは全面にわたって同一であった。これに対して、
セルの個数密度の多少で濃淡表現を行い、いわゆるＦＭ
変調スクリーンを形成することも可能である。たとえ
ば、図１５に示す例では、ＸＹ平面上に配列した個々の
セルの面積はいずれも同一であるが、Ｘ軸方向に関する
セルのピッチは、Ｐ１＜Ｐ２＜Ｐ３＜Ｐ４＜Ｐ５と異な
り、Ｘ軸方向に関するセルの個数密度によって濃淡表現
を行っている。もちろん、ＸＹ両軸方向についてセルの
個数密度を変えることも可能である。

【００２６】なお、個々のセルの形状は、四角形（正方
形，長方形，菱形）の他、６角形（亀甲形），８角形，
円，楕円などにしてもよい。また、上述の例では、レジ
ストに対する露光をレーザ光で行っているが、レーザ以
外の光ビームを用いてもよく、その他、電子ビームやイ
オンビームを用いてもかまわない。更に、上述の例で
は、一般的なレジスト露光・腐食法によって、銅に凹凸
構造を形成して版として用いているが、シリンダＳの表
面に感光性樹脂層を塗布し、この樹脂層をセル状に露光
し、可溶部を溶解除去した後、残存樹脂層の凹凸表面構
造を版として用いることも可能である（ネガ型、ポジ
型、いずれにも適用可）。

【００２７】また、図１６に示すように、１つの単位模
様Ｕを、複数の単位模様Ｕ１〜Ｕ４の組み合わせによっ
て構成することも可能である。この場合、単位模様Ｕ１
〜Ｕ４は、いずれも同一のエンドレス絵柄をもった模様
であり、対向する左右の辺あるいは対向する上下の辺を
隣接配置することによって生じる境界ｂにおいて、模様
がなだらかに連続するようなエンドレス絵柄が形成され
ている。このように、１つの単位模様Ｕを、複数の単位
模様Ｕ１〜Ｕ４の組み合わせによって構成した場合、建
材表面に形成される連続模様Ａには、性質の異なる２と
おりの境界が形成されることになる。すなわち、単位模
様Ｕ１〜Ｕ４間の境界ｂと、シリンダＳに巻き付ける際
に円周方向の突き合わせ部を構成する境界Ｂ（図３(b)
参照）と、の２種類である。本発明によれば、境界ｂだ
けではなく、境界Ｂにおいても、セルレベルで連続した
エンドレス版を得ることできる。

【００２８】上述したように、図５の流れ図におけるス
テップＳ４において、二次元セル配列のマッピングを行
うときに、実際のシリンダに寸法誤差があった場合に
は、全体的にセルピッチを修正する演算を行うことによ
り不連続を解消し、図１７に示すように、境界Ｂの両側
においてセルピッチが連続するように調整することがで
きる。たとえば、円周１０００ｍｍのシリンダを用いる
予定であったときに、実際のシリンダの円周が１００
０．３ｍｍあった場合には、セルピッチを全体的に（１
０００．３／１０００）倍にすればよいことは既に述べ
たとおりである。このような全体的なピッチ修正を行う
代わりに、境界Ｂの近傍において局所的に修正を行うこ
とも可能である。たとえば、図１８(a) に示すように、
境界Ｂの両側において、セルピッチ，セルの面積あるい
はセルの個数密度が不連続であった場合を考える。この
場合は、図１８(b) に示すように、境界Ｂにおいてセル
ピッチ，セルの面積あるいはセルの個数密度が連続する
ように、境界Ｂの近傍の領域において、セルピッチ，セ
ルの面積あるいはセルの個数密度の修正を行えばよい。
このような修正方法の具体例を図１９に示す。この例で
は、境界Ｂの両側において、セルの面積Ｓが不連続にな
っている（修正前を示す破線参照）。このような場合、
境界Ｂの左右にそれぞれｎ個分のセルをとり、これらの
セルについて面積を修正する処理を施せばよい。図１９
に示す例では、境界Ｂ上のセルをセルＸ_ｎとし、その左
側にｎ個分のセルＸ_０，Ｘ_１，…Ｘ_ｎ−１をとり、その
右側にｎ個分のセルＸ_ｎ＋１，…Ｘ_２ｎ−１，Ｘ_２ｎを
とり、その間を線形補間している。すなわち、セルＸ_０
の面積値Ｓ（Ｘ_０）とセルＸ_２ｎの面積値Ｓ（Ｘ_２ｎ）
との差ΔＳに基づいて、任意のセルＸ_ｉ（ただし、ｉ＝
１〜２ｎ−１）についての面積値Ｓ（Ｘ_ｉ）が、Ｓ（Ｘ_ｉ）＝Ｓ（Ｘ_ｉ−１）−（ΔＳ／２ｎ）となるように修正するのである（図の白丸は、修正後の
面積値を示す）。

【００２９】なお、修正区間（セルＸ_０〜Ｘ_２ｎ間）の
補間法としては、上述のような線形補間法の他に、スプ
ライン補間法、正接関数補間法、ロジスティック関数補
間法などの曲線補間を行ってもかまわない。このような
各種補間法を適宜選択し、また、修正区間の幅を適宜設
定することにより、境界Ｂにおける絵柄の段差や不連続
を極力目立たなくさせることが可能になる。また、図５
のステップＳ２において用意した階調画像データが、も
ともと完全なエンドレス絵柄になっておらず、境界Ｂに
おいて、階調の段差や不連続が生じていた場合にも、ス
テップＳ４において上述の修正方法を適用すれば、連続
模様をもった版を作成することができる。

【００３０】

【発明の効果】以上のとおり本発明によれば、模様レベ
ルにとどまらず、セルレベルでもセルピッチおよびセル
面積（あるいは個数密度）が連続したエンドレス版が実
現できるので、このエンドレス版を用いて、境界線が認
識される可能性のない印刷物を作成することが可能にな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】エンドレス絵柄を利用した壁紙の一例を示す図
である。

【図２】左右に隣接して２つの単位模様Ｕを配置した状
態（図(a) ）と、この配置における画素値分布（図(b)
）とを示す図である。

【図３】エンドレス絵柄Ｑの画像データを出力スキャナ
装置のドラム上のフィルムに出力して得たフィルム原版
（図(a) ）と、このフィルム原版に基づいてシリンダの
表面上に作成されたエンドレス版Ｅ（図(b) ）とを示す
図である。

【図４】図３(b) に示すエンドレス版の境界Ｂにおい
て、セルレベルでの不連続が生じた例を示す図である。

【図５】本発明に係るエンドレス版の作成方法の基本手
順を示す流れ図である。

【図６】図５の流れ図におけるステップＳ１の手順で用
意されるシリンダＳの一例を示す図である。

【図７】図５の流れ図におけるステップＳ２の手順で用
意される階調画像データの一例を示す図である。

【図８】図５の流れ図におけるステップＳ３の手順で定
義される二次元セル配列の一例を示す図である。

【図９】図８に示す二次元セル配列の部分拡大図であ
る。

【図１０】図５の流れ図におけるステップＳ４の手順に
おいて、二次元セル配列をシリンダＳの表面にマッピン
グした状態を示す図である。

【図１１】図５の流れ図におけるステップＳ６の手順に
おいて、レーザビームをレジスト層に照射して露光を行
う工程を示す側断面図である。

【図１２】図１１に示すレーザビーム走査により、レジ
スト層Ｒに照射部Ｒ１と非照射部Ｒ２とからなる露光パ
ターンが形成された状態を示す側断面図である。

【図１３】図５の流れ図におけるステップＳ７の現像手
順により、レジスト層Ｒのうちの照射部Ｒ１のみが残存
した状態を示す側断面図である。

【図１４】図５の流れ図におけるステップＳ８のエッチ
ング手順により、シリンダＳの表面に凹部Ｆ（セル）が
形成された状態を示す側断面図である。

【図１５】セルピッチを変えることによりセルの個数密
度によって階調表現を行った実施例を示す図である。

【図１６】シリンダにマッピングする１つの単位模様Ｕ
を複数の単位模様Ｕ１〜Ｕ４によって構成した例を示す
図である。

【図１７】境界において連続的なセルピッチが得られた
状態を示す図である。

【図１８】境界においてセルピッチ、面積あるいは個数
密度が不連続な場合の修正方法を示す図である。

【図１９】図１８に示す修正方法として線形補間を用い
た具体例を示す図である。

【符号の説明】

Ａ…連続模様Ｂ，ｂ…境界Ｃ，Ｃ（ｘ，ｙ）…セルＥ…エンドレス版Ｆ…凹部Ｐ１〜Ｐ５…セルピッチＱ…エンドレス絵柄Ｑ（ｘ，ｙ）…画素Ｒ…レジスト層Ｒ１…レジスト層の照射部Ｒ２…レジスト層の非照射部Ｓ…シリンダ／セル面積Ｕ…単位模様Ｕ１〜Ｕ４…単位模様Ｕを構成する単位模様

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】印刷用シリンダの表面に、境界のない連
続模様をもったエンドレス絵柄を形成してなるエンドレ
ス版において、肉眼による識別が困難な程度の微小領域
からなる所定形状のセルを定義し、前記模様を多数のセ
ルを配置することにより形成し、配置するセルの面積の
大きさあるいはセルの個数密度によって前記模様の階調
を表現し、かつ、前記シリンダの表面においてセル単位
での不連続部分が生じないように構成したことを特徴と
するエンドレス版。
【請求項２】印刷用シリンダの表面に、境界のない連
続模様をもったエンドレス絵柄を形成してなるエンドレ
ス版を製造する方法であって、印刷用のシリンダを用意する段階と、それぞれ所定の画素値をもった多数の画素を二次元平面
上に配列することにより階調をもった単位模様を形成
し、複数の単位模様を隣接して並べた場合にも連続模様
が形成されるように、境界領域に位置する画素の画素値
を調整することにより前記単位模様がエンドレス絵柄を
構成するようにし、このエンドレス絵柄に対応する階調
画像データを用意する段階と、前記階調画像データを構成する１画素もしくは所定の複
数画素について、肉眼による識別が困難な程度の微小領
域からなる所定形状の１セルを対応づけ、各セルには、
それぞれ対応づけられた画素の画素値に応じた面積ある
いは個数密度を定義し、各セルを、それぞれ対応づけら
れた画素位置に応じた二次元平面上の位置に配置するこ
とにより、二次元セル配列を定義する段階と、前記シリンダ表面に、偏りのない連続的な平均セルピッ
チが得られるように、前記二次元セル配列をマッピング
する演算を行い、マッピングされたセルを示す二値画像
データを用意する段階と、前記シリンダの表面にレジスト層を形成する段階と、前記レジスト層を活性化する機能をもったビームを前記
レジスト層に対して照射しながら、前記二値画像データ
に基づいてビームを走査し、前記レジスト層に照射領域
と非照射領域とからなる露光パターンを形成する段階
と、前記レジスト層を現像して、前記照射領域および前記非
照射領域のいずれか一方を選択的に除去し、前記シリン
ダの表面の一部を露出させる段階と、前記シリンダの露出部をエッチングすることにより、マ
ッピングされたセルに対応する物理的な凹凸構造を形成
し、前記レジスト層の残存部を除去する段階と、を有することを特徴とするエンドレス版の製造方法。