JP2011102386A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ＣｌｏｇＰの値が１．００以下である第１級または第２級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬（但し、第２級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第３級ではない）とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法であって、
   上記第１級または第２級アミン化合物が、下記一般式（１）
   ＨＮＲ^１ _２−ｎＲ^２ _ｎ （１）
   （上式中、Ｒ ^１ は、水素原子、または炭素数１〜６の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基であり、Ｒ ^２ は、独立して１以上の酸素原子もしくは窒素原子を含む炭素数２〜７の直鎖、分岐または環状のアルキル基であり、２つのＲ ^２ が互いに結合して酸素原子および／または窒素原子を１以上含有する環状構造を取ってもよく、ｎは１または２である。）
   で示される保護ポリマーの脱保護方法。
2. 上記一般式（１）のＲ^２ _ｎの一部もしくは全部が、下記一般式（２）
   

   

   （上式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは、水酸基、アミノ基またはアルキルアミノ基であり、ｍは０または１であり、（Ｎ）はＲ^２の窒素への置換位置を示す記号である。）
   で示される構造を有する請求項１に記載の保護ポリマーの脱保護方法。
3. 上記保護ポリマーが、更に脂肪族アルコール由来のエステル構造を有する単位構造を含む請求項１または請求項２に記載の保護ポリマーの脱保護方法。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の脱保護方法を実施する工程を含む、化学増幅型レジスト用ベースポリマーの製造方法。