JP2011094120A - 高分子フィルム用湿度依存性改良剤、高分子フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】使用環境の湿度の変化に対するＲｅおよびＲｔｈの変動が抑制することができる高分子フィルム用湿度依存性改良剤の提供。
【解決手段】下記一般式のいずれかで表される化合物を含む高分子フィルム用湿度依存性改良剤（Ｒａ〜Ｒｃはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基；Ｘ¹〜Ｘ⁶は単結合または２価の連結基；Ｒ¹〜Ｒ⁶は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基）。

【選択図】なし

Description

本発明は、高分子フィルム用湿度依存性改良剤、それを含む高分子フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、それらを含む偏光板及び液晶表示装置、特にＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｅｄ）モードの液晶表示装置に関する。

液晶表示装置の表示特性は近年ますます向上している。偏光板と液晶セルとの間に特定のＲｅ、Ｒｔｈを有する位相差フィルムを配置することにより、液晶表示装置の視野角特性を著しく改善できることが知られている。

位相差フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの制御方法の一つとして、高分子フィルムにレターデーション上昇剤を添加する方法が開示されている（特許文献１参照）。この文献に開示されているレターデーション上昇剤は、ケト−エノール互変異可能な構造をその構成要素として含む分子錯合体を形成しうる化合物であり、その一例としてグアナミン骨格等の１，３，５−トリアジン環を含む化合物が開示されている。また、その他のレターデーション上昇剤として、円盤状化合物や、１，３，５−トリアジン環を含む他の構造を有する化合物が開示されている（特許文献２および３参照）。

特開２００４−１０９４１０号公報 特開２００１−１６６１４４号公報 特開２００３−３４４６５５号公報

一方、本発明者らがこのようなレターデーション上昇剤を添加した高分子フィルムについてその他の特性を検討したところ、使用環境の湿度変化にともなうＲｅおよびＲｔｈの変動（ＲｅおよびＲｔｈの湿度依存性と称することがある）が大きいことが判明した。

本発明は使用環境の湿度変化にともなうＲｅおよびＲｔｈの変動を抑制できる高分子フィルム用湿度依存性改良剤の提供を課題とする。また、本発明は、該湿度依存性改良剤を添加した高分子フィルム、該高分子フィルムを用いた偏光板保護フィルム、該高分子フィルムを用いた位相差フィルム、該高分子フィルムまたは該位相差フィルムを有する偏光板および液晶表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、使用環境の湿度変化にともなうＲｅおよびＲｔｈの変動を抑制することを目的に様々な化合物を添加剤として検討した。その結果、特定の種類ならびに特定の配置、の置換基を有する１，３，５−トリアジン環を含む化合物を高分子フィルム基材に添加すると、使用環境の湿度変化にともなうＲｅおよびＲｔｈの変動を顕著に抑制できることを見出すに至った。

本発明で選択される特定の置換基を有する１，３，５−トリアジン環を含む化合物は、円盤状の形状（または平面性）に注目してＲｔｈを上昇させることを見出した特許文献２などとは好ましい化合物の範囲が異なり、また円盤状の形状であるものに限定されない。

具体的には、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 下記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を含有する高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（１）中、Ｒａはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）

（一般式（２）中、ＲｂおよびＲｃはそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ⁵およびＸ⁶はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［２］ 前記一般式（１）および（２）において、前記Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｘ⁵およびＸ⁶が、それぞれ独立に、単結合および下記一般式（３）で表される２価の連結基からなる群から選択されるいずれか一つであることを特徴とする［１］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（３）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、＊側が前記一般式（１）および（２）で表される化合物中の１，３，５−トリアジン環に置換しているＮ原子との連結部位である。）
［３］ 前記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
［４］ 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（４）中、Ｒａ¹はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［５］ 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（５）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（５）中、Ｒａ²はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ²¹およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［６］ 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（６）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（６）中、Ｒａ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［７］ 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（６ｂ）で表されることを特徴とする１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（６ｂ）中、Ｒａ⁴はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、置換基を有していてもよい。）
［８］ 前記Ｒａ³またはＲａ⁴がアルキル基であることを特徴とする［６］または［７］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
［９］ 前記一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
［１０］ 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（７）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（式中、Ｒｂ¹およびＲｃ¹はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［１１］ 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（８）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（８）中、Ｒｂ²およびＲｃ²はそれぞれ単独にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。Ｒ²⁵は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
［１２］ 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（９）で表されることを特徴とする［１］または［２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。

（一般式（９）中、Ｒｂ³およびＲｃ³はそれぞれ単独にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。）
［１３］ 前記Ｒｂ³および前記Ｒｃ³が共にアルキル基であることを特徴とする［１２］に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
［１４］ 前記一般式（１）または（２）で表される化合物がＲｔｈ降下剤であることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれか一項に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
[１５] [１]〜［１４］のいずれか一項に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤と、水酸基を含有する高分子を含むことを特徴とする高分子フィルム。
［１６］ 前記の水酸基を含有する高分子がセルロースアシレート樹脂であることを特徴とする［１５]に記載の高分子フィルム。
［１７］ 前記セルロースアシレート樹脂がセルロースアセテート樹脂であることを特徴とする［１６］に記載の高分子フィルム。
［１８］ ［１５]〜［１７］のいずれか一項に記載の高分子フィルムを含むことを特徴とする位相差フィルム。
［１９］ ［１５]〜［１７］のいずれか一項に記載の高分子フィルムまたは［１８］に記載の位相差フィルムを含むことを特徴とする偏光板。
［２０］ ［１５]〜［１７］のいずれか一項に記載の高分子フィルム、［１８］に記載の位相差フィルムまたは［１９］に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。

本発明の湿度依存性改良剤は、使用環境の湿度変化に対するＲｅおよびＲｔｈの変動の抑制効果に優れているため、液晶表示装置における偏光板保護フィルム、位相差フィルム、偏光板に好適に用いることができ、特に本発明の液晶表示装置に好適に用いることができる。

本発明の液晶表示装置の一例の構成を示す模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

まず、本明細書で用いられる用語について、説明する。
（レターデーション（Ｒｅ及びＲｔｈ））
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ｘ）及び式（ＸＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本発明において、位相差膜等の「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５８９ｎｍでの値である。
また、本明細書において、位相差膜及び液晶層等の各部材の光学特性を示す数値、数値範囲、及び定性的な表現（例えば、「同等」、「等しい」等の表現）については、液晶表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲及び性質を示していると解釈されるものとする。

１． 高分子フィルム用湿度依存性改良剤
（１−１） 高分子フィルム用湿度依存性改良剤の構造
本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤は、前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする。本明細書中、高分子フィルム用湿度依存性改良剤とは、高分子フィルムに添加することによって、添加された高分子フィルムの使用環境の湿度変化にともなうＲｅの変動またはＲｔｈの変動の少なくとも一方が小さくなる化合物のことを言う。以下、本発明に用いられる前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の構造の詳細について、説明する。
なお、従来１，３，５−トリアジン環を有する化合物を高分子フィルム（例えば、セルロースアシレート樹脂）に添加する場合は、１，３，５−トリアジン環を有する化合物全体の形状の平面性に注目していたため、本発明の前記一般式（１）または一般式（２）で表される構造の化合物はほとんど注目されていなかった。

また、本発明のフィルムは、前記一般式（１）および（２）において、前記Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｘ⁵およびＸ⁶が、それぞれ独立に、単結合および下記一般式（３）で表される２価の連結基からなる群から選択されるいずれか一つであることが好ましい。

（一般式（３）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、＊側が前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物中の１，３，５−トリアジン環に置換しているＮ原子との連結部位である。）

（一般式（１）で表される化合物）
まず、一般式（１）で表される化合物について説明する。なお、本明細書中において、アルキル基などの炭化水素基は、本発明の趣旨に反さない場合、直鎖であっても、分枝であってもよい。

（一般式（１）中、Ｒａはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）

前記Ｒａはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基であることが湿度依存性改良の観点からより好ましい。また、特に本発明のフィルムに用いるセルロースアシレート樹脂がセルロースアセテート樹脂である場合は、特にアルキル基であることが、湿度依存性改良の観点から好ましく、無置換のアルキル基であることがより好ましい。

前記Ｒａがアルキル基である場合、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数１〜１２であることがより好ましく、炭素数１〜８であることが特に好ましい。
前記Ｒａがアルケニル基である場合、炭素数２〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１２であることがより好ましく、炭素数２〜８であることが特に好ましい。
前記Ｒａがアルキニル基である場合、炭素数２〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１２であることがより好ましく、炭素数２〜８であることが特に好ましい。
前記Ｒａがアリール基である場合、炭素数６〜２４であることが好ましく、炭素数６〜１８であることがより好ましく、炭素数６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。
前記Ｒａが複素環基である場合、炭素数２〜２３であることが好ましく、炭素数２〜１７であることがより好ましく、炭素数２〜６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。含窒素へテロ環を構成する環員（メンバー）の数は、４〜２４であることが好ましく、５〜１２であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。具体的には、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基を挙げることができる。

前記Ｒａが有していてもよい置換基としては、以下の置換基Ｔを挙げることができる。前記置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

前記Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴がそれぞれ独立に表していてもよい前記２価の連結基としては、例えば、下記一般式（３）で表される２価の連結基、アルキレン基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜３、特に好ましくは炭素数２）、アリーレン基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは、炭素数６〜１０）などを挙げることができる。その中でも下記一般式（３）で表される２価の連結基であることが好ましく、カルボニル基であることがより好ましい。

（一般式（３）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、＊側が前記一般式（１）で表される化合物中の１，３，５−トリアジン環に置換しているＮ原子との連結部位である。）

前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基または複素環基であることがより好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより特に好ましい。また、前記Ｒ¹またはＲ²の少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、前記Ｒ³またはＲ⁴の少なくとも一方が水素原子であることが好ましい。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアルキル基である場合、炭素数１〜１２であることが好ましく、炭素数１〜６であることがより好ましく、炭素数１〜４であることが特に好ましい。前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアルキル基、かつ、Ｘが−Ｃ（＝Ｏ）−である場合、湿度依存性改良の観点から好ましいＲ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の範囲は後述の一般式（６ｂ）におけるＲｄ¹およびＲｄ²がアルキル基である場合と同様である。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアルケニル基である場合、炭素数２〜１２であることが好ましく、炭素数２〜６であることがより好ましく、炭素数２〜４であることが特に好ましい。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアルキニル基である場合、炭素数２〜１２であることが好ましく、炭素数２〜６であることがより好ましく、炭素数２〜４であることが特に好ましい。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアリール基である場合、炭素数６〜１８であることが好ましく、炭素数６〜１２であることがより好ましく、炭素数６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴がアリール基、かつ、Ｘが−Ｃ（＝Ｏ）−である場合、湿度依存性改良の観点から好ましいＲ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の範囲は後述の一般式（６ｂ）におけるＲｄ¹およびＲｄ²がアリール基である場合と同様である。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴が複素環基である場合、炭素数４〜１３であることが好ましく、炭素数４〜９であることがより好ましく、炭素数５であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。
前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はさらに置換基を有していても、有していなくともよく、該置換基としては前記置換基Ｔを挙げることができる。
前記一般式（３）中、前記Ｒは水素原子またはアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（４）で表されることがより好ましい。

前記Ｒａ¹はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は、前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。

前記Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の好ましい範囲と同様である。

前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（５）で表されることが特に好ましい。

前記Ｒａ²はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は、前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。

前記Ｒ²¹およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の好ましい範囲と同様である。
さらに、前記Ｒ²¹およびＲ²⁴がともに水素原子であることが高分子フィルムのＲｔｈの湿度依存性改良の観点からより好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（６）で表されることがより特に好ましい。

前記Ｒａ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は、前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。
さらに、本発明の高分子フィルムは、前記Ｒａ³がアルキル基であることが、Ｒｔｈを下降させつつ、レターデーションの湿度依存性を改良する場合に好ましく、その場合はさらに前記Ｒａ³が無置換のアルキル基であるときがより好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（６ｂ）で表されることがより特に好ましい。

（一般式（６ｂ）中、Ｒａ⁴はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、置換基を有していてもよい。）

一般式（６ｂ）中、Ｒａ⁴はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は、前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。さらに、本発明の高分子フィルムは、前記Ｒａ⁴がアルキル基であることが、Ｒｔｈを下降させつつ、レターデーションの湿度依存性を改良する場合に好ましく、その場合はさらに前記Ｒａ⁴が無置換のアルキル基であるときがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
一般式（６ｂ）中、Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、置換基を有していてもよい。前記Ｒｄ¹およびＲｄ²が前記置換基を有していてもよいアリール基である場合の前記置換基としては、ハロゲン原子（塩素原子であることが好ましい）、アルキル基（炭素数１〜１０であることが好ましく、炭素数１〜５であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。直鎖であっても分枝であってもよい）、アルコキシ基（炭素数１〜３であることが好ましく、メトキシ基がより好ましい）を挙げることができ、ハロゲン原子またはアルキル基であることが好ましい。前記Ｒｄ¹およびＲｄ²が前記置換基を有していてもよいアルキル基（直鎖であっても分枝であってもよい）である場合は、無置換のアルキル基であることが好ましく、無置換の炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、無置換の炭素数３〜９のアルキル基であることがより好ましく、無置換の炭素数３〜６のアルキル基であることが特に好ましい。
前記Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基を表すことがより好ましい。前記Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数６〜１０アリール基を表すことがより好ましく、置換基を有していてもよいフェニル基を表すことが特に好ましく、置換基を有するフェニル基を表すことがより特に好ましく、この場合の好ましい置換基の位置はパラ位である。
前記Ｒｄ¹およびＲｄ²はともに無置換のフェニル基を表すことがより特に好ましい。
前記Ｒｄ¹およびＲｄ²は同じ基を表しても、異なる基を表してもよいが、同じ基を表すことが好ましい。

（一般式（２）で表される化合物）
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。

（一般式（２）中、ＲｂおよびＲｃはそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ⁵およびＸ⁶はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）

前記ＲｂおよびＲｃはそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。

Ｘ⁵およびＸ⁶はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、好ましい範囲は前記Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴の好ましい範囲と同様である。

前記Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の好ましい範囲と同様である。

前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（７）で表されることがより好ましい。

前記Ｒｂ¹およびＲｃ¹はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。

前記Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴の好ましい範囲と同様である。

前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（８）で表されることが特に好ましい。

前記Ｒｂ²およびＲｃ²はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。

前記Ｒ²⁵はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒ²¹およびＲ²⁴の好ましい範囲と同様である。

前記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（９）で表されることがより特に好ましい。

前記Ｒｂ³およびＲｃ³はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、好ましい範囲は前記Ｒａの好ましい範囲と同様である。
さらに、本発明の高分子フィルムは、前記Ｒｂ³およびＲｃ³が共にアルキル基であることが、Ｒｔｈを下降させつつ、レターデーションの湿度依存性を改良する場合に好ましく、その場合はさらに前記Ｒｂ³およびＲｃ³が共に無置換のアルキル基であるときがより好ましい。

以下に前記一般式（１）または（２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。

＊側が１，３，５−トリアジン環との連結部位である。

（１−２） レターデーション降下剤
本発明の前記一般式（１）または（２）で表される化合物は、高分子フィルム用湿度依存性改良剤であることに加えてレターデーション降下剤でもあることも、好ましい態様の一つである。従来、前記一般式（１）または（２）で表される化合物に類似する化合物、例えば、１，３，５−トリアジンを有する化合物であって芳香環を２つ以上（好ましくは３つ以上）有する化合物群はセルロースアシレートフィルムのレターデーション上昇剤として用いられていた。本発明では、前記１，３，５−トリアジン環を有する化合物の中から湿度依存性改良効果を良好に奏する化合物を見出したことに加え、湿度依存性改良効果とＲｔｈ下降効果を奏する化合物も見出したものである。すなわち、本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤を添加したセルロースアシレートフィルムの好ましい一態様では、添加剤無添加のフィルムに比べて、フィルムのＲｔｈが小さいことを特徴とする。
レターデーション降下剤である前記一般式（１）または（２）で表される化合物は、例えば、前記一般式（６）における前記Ｒａ³がアルキル基である場合や、前記一般式（９）における前記Ｒｂ³およびＲｃ³が共にアルキル基である場合を挙げることができるが、これら例示した構造に限定されるものではない。

（１−３） 物性
前記一般式（１）または（２）で表される化合物は、分子量が１００〜２０００であることが好ましく、１５０〜１５００であることがより好ましく、１７０〜１０００であることが特に好ましい。

（１−４） 添加量
前記一般式（１）または（２）で表される化合物の添加量は、高分子フィルムの基材１００質量部に対して、５０質量部以下とすることが好ましく、０．１〜３０質量部とすることがより好ましく、０．５〜２０質量部とすることが特に好ましく、１〜１５質量部とすることがさらに好ましい。このように、前記一般式（１）または（２）で表される化合物は、これまでに報告されている湿度依存性改良剤に比較して少量の使用で十分湿度依存性を改良することができる。

（１−５） 一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の製造方法
本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤に含有される一般式（１）または一般式（２）で表される化合物の製造方法は、特に限定はなく、公知の方法により製造することができる。本発明において好ましく用いられる製造方法としては、例えば米国特許第３，４７８，０２６公報やＣｈｅｍ． Ｅｕｒ． Ｊ． ２００５, １１, ６６１６−６６２８に記載されているようにジシアノジアミドとニトリル化合物とを水酸化カリウム等の無機塩基存在下にてアルコール中で加熱することでトリアジン環を形成する方法や、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ２０００，５６，９７０５−９７１１に記載されているように塩化シアヌルを原料としてグリニャール化合物とアミン化合物を段階的に置換反応させていく方法や、有機合成化学協会誌 １９６７，第２５巻第１１号，１０４８−１０５１に記載されているようにイミドイルグアニジンとカルボン酸クロリドまたはエステルの反応によりモノアミノ―ジ置換−ｓ−トリアジン類を合成する方法を用いることができる。
また、一般式（１）または一般式（２）で表される化合物は商業的に入手してもよい。

（１−６） 一般式（１）または一般式（２）で表される化合物以外のその他の成分
また、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、一般式（１）または一般式（２）で表される化合物以外のその他の成分が、本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤に含有されていてもよい。前記その他の成分としては、一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を溶解することができる溶剤（有機溶媒）や、バインダー、高分子可塑剤を挙げることができる。
また、本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤は商業的に入手してもよい。

２．高分子フィルム
本発明の高分子フィルム（以下、本発明のフィルムとも言う）用湿度依存性改良剤は、水酸基を含有する高分子に好適に用いることができる。水酸基を含有する高分子としては、ポリビニルアルコールとその変性体やセルロースアシレート樹脂が挙げられる。なお、前記の水酸基を含有する高分子にはその水酸基が他の置換基によって置換された誘導体も含まれ、例えば、水酸基の全てがアシル基で置換されたセルロースアシレート樹脂も、前記の水酸基を含有する高分子に含まれる。

（セルロースアシレートフィルム）
本発明の高分子フィルム用湿度依存性改良剤は、高分子フィルムの中でも、特にセルロースアシレートフィルム用湿度依存性改良剤として好ましく用いることができる。以下において、セルロースアシレートフィルムについて詳しく説明する。
本発明の高分子フィルムがセルロースアシレートフィルムである場合は、前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物とセルロースアシレート樹脂を含むことを特徴とする。
以下、本発明のフィルムの好ましい態様について説明する。

（２−１） 本発明の湿度依存性改良剤の添加量
本発明のフィルムは、前記セルロースアシレート樹脂１００質量部に対する、前記一般式（１）または（２）で表される化合物の添加量は３０質量部以下とすることが好ましく、０．１〜３０質量部とすることがより好ましく、０．５〜２０質量部とすることが特に好ましく、１〜１５質量部とすることがさらに好ましい。
また、本発明のフィルムは、前記セルロースアシレート樹脂１００質量部に対する、湿度依存性改良剤の合計含有量が３５質量部以下であることが、好ましく、３０質量部以下であることがより好ましく、２０質量部以下であることが特に好ましく、該湿度依存性改良剤は前記一般式（１）または（２）で表される化合物や１，３，５−トリアジン環を有する化合物に限定されない。

（２−２） セルロースアシレート樹脂
本発明のフィルムがセルロースアシレートフィルムである場合、セルロースアシレート樹脂を含む。また、本発明のフィルムは、セルロースアシレート樹脂を主成分として含有することが好ましい。ここで「主成分として含有する」とは、セルロースアシレートフィルムの材料として用いられているセルロースアシレート樹脂が１種である場合は、当該セルロースアシレート樹脂をいい、複数種である場合は、最も高い割合で含有されるセルロースアシレート樹脂をいう。セルロースには、β−１，４結合しているグルコース単位当り、２位、３位及び６位に遊離の水酸基がある。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレート樹脂でも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、前記セルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

前記セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレート樹脂のアシル基は特に制限はないが、アセチル基、プロピオニル基またはブチリル基であることが好ましく、アセチル基であることがより好ましい。
具体的には、下記式（ｉ）〜（iii）を同時に満たすセルロースアシレートを含有することが好ましい。
式（ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３。
式（ii） １．０≦Ａ≦３。
式（iii） ０≦Ｂ≦１．０
（式（ｉ）〜式（iii）中、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基の置換度とブチリル基の置換度の合計を表す。）

前記セルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート樹脂のアシル置換度が、下記式（iv）〜（vi）を同時に満たすことがより好ましい。
式（iv） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３。
式（v） １．５≦Ａ≦３。
式（vi） Ｂ＝０
（式（iv）〜式（vi）中、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基の置換度とブチリル基の置換度の合計を表す。）

以下に本発明の湿度依存性改良剤の好ましい例を示す。これらの化合物に加え、化合物（３−１）、（３−３）、（３−５）〜（３−７）、（３−１０）および（３−１５）も好ましい。

セルロースアシレート樹脂中のアセチル置換度、プロピオニル置換度およびブチリル置換度はそれぞれ、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアセチル化ならびにプロピオニル化及び／又はブチリル化されている割合をそれぞれ意味する。なお、本明細書では、セルロースアシレート樹脂のアセチル基、プロピオニル基、及びブチリル基の置換度は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９１」に準じて実施する。

前記セルロースアシレート樹脂は、３５０〜８００の重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の重合度を有することがさらに好ましい。また本発明に用いるセルロースアシレート樹脂は、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。

前記セルロースアシレート樹脂は、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。工業的に最も一般的な合成方法としては、以下の通りである。綿花リンタや木材パルプなどから得たセルロースをアセチル基並びにプロピオニル基及び／又はブチリル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化し、目的のセルロースアシレート樹脂を合成することができる。

（２−３） 他の添加剤
本発明の高分子フィルムは、種々の目的により、前記一般式（１）または（２）で表される化合物以外の添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤は、当該高分子フィルムを溶液製膜法で製造する場合は、高分子樹脂ドープ、例えばセルロースアシレートドープ中に添加することができる。添加のタイミングについては特に制限はない。添加剤は、高分子（例えば、セルロースアシレート）と相溶（溶液製膜法ではセルロースアシレートドープ中に可溶）な剤から選択する。添加剤は、高分子フィルムの光学特性の調整及びその他の特性の調整等を目的として添加される。

（可塑剤）
本発明の高分子フィルムは、可塑剤を含有しているのが、製膜性などが改善されるので好ましい。可塑剤として、糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される糖類系可塑剤、又はジカルボン酸類とジオール類との重縮合エステル及びその誘導体からなるオリゴマー類から選択されるオリゴマー系可塑剤を使用すると、高分子フィルムの環境湿度耐性が改善されるので好ましい。具体的には、湿度に依存したＲｔｈの変動を軽減することができる。糖類系可塑剤及びオリゴマー系可塑剤の双方を併用すると、湿度に依存したＲｔｈの変動の軽減効果が高くなる。

（糖類系可塑剤）
上記した通り、本発明の高分子フィルムは、糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される少なくとも１種の化合物を、含有しているのが好ましい。中でも、１〜１０量体の糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される化合物は、可塑剤として好ましい。その例には、国際公開を２００７／１２５７６４号パンフレットの[００４２]〜[００６５]に記載のグルコース等の糖のＯＨの一部又は全部の水素原子がアシル基に置換された糖誘導体が含まれる。糖類系可塑剤の添加量は、主成分であるセルロースアシレートに対して、０．１質量％以上７０質量％未満であるのが好ましく、１質量％以上６５質量％未満であるのがより好ましく、１質量％以上６０質量％未満であるのがさらに好ましい。

（オリゴマー系可塑剤）
上記した通り、本発明の高分子フィルムは、オリゴマー類から選択されるオリゴマー系可塑剤を含有しているのが好ましい。オリゴマー系可塑剤の好ましい例には、ジオール成分とジカルボン酸成分との重縮合エステル及びその誘導体（以下、「重縮合エステル系可塑剤」という場合がある）、並びにメチルアクリレート（ＭＡ）のオリゴマー及びその誘導体（以下、「ＭＡオリゴマー系可塑剤」という場合がある）が含まれる。

前記重縮合エステルは、ジカルボン酸成分とジオール成分との重縮合エステルである。ジカルボン酸成分は、１種のジカルボン酸のみからなっていても、又は２種以上のジカルボン酸の混合物であってもよい。中でも、ジカルボン酸成分として、少なくとも１種の芳香族性ジカルボン酸及び少なくとも１種の脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分を用いるのが好ましい。一方、ジオール成分についても１種のジオール成分おみからなっていても、又は２種以上のジオールの混合物であってもよい。中でも、ジオール成分として、エチレングリコール及び／又は平均炭素原子数が２．０より大きく３．０以下の脂肪族ジオールを用いるのが好ましい。

前記時カルボン酸成分中の前記芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との比率は、芳香族ジカルボン酸が５〜７０モル％であることが好ましい。上記範囲であると、フィルムの光学特性の環境湿度依存性を低減できるとともに、製膜過程でブリードアウトの発生を抑制できる。前記ジカルボン酸成分中の芳香族ジカルボン酸は、より好ましくは１０〜６０モル％であり、２０〜５０モル％であることがさらに好ましい。
芳香族ジカルボン酸の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸等が含まれ、フタル酸、及びテレフタル酸が好ましい。脂肪族ジカルボン酸の例には、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が含まれ、中でも、コハク酸、及びアジピン酸が好ましい。

前記ジオール成分は、エチレングリコール及び／又は平均炭素数が２．０より大きく３．０以下のジオールである。前記ジオール成分中、エチレングリコールが５０モル％以上であることが好ましく、７５モル％以上であることがより好ましい。脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を挙げることができ、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール等があり、これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。

前記ジオール成分は、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールであるのが好ましく、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールである。

また、前記重縮合エステル系可塑剤としては、前記重縮合エステルの末端のＯＨがモノカルボン酸とエステルを形成している当該重縮合エステルの誘導体であるのが好ましい。両末端ＯＨ基の封止に用いるモノカルボン酸類としては、脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。重縮合エステルの両末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が３以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障の発生を低減することが可能である。また、封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。前記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止されているのが好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基となっている重縮合エステルの誘導体が特に好ましい。

前記重縮合エステル及びその誘導体は、数平均分子量は７００〜２０００程度のオリゴマーであることが好ましく、８００〜１５００程度がより好ましく、９００〜１２００程度がさらに好ましい。なお、重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。

以下の表１に、重縮合エステル系可塑剤の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

前記重縮合エステルは、常法により、ジカルボン酸成分とジオール成分とのポリエステル化反応もしくはエステル交換反応による熱溶融縮合法、又はジカルボン酸成分の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、本発明に係る重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。

前記重縮合エステル系可塑剤の添加量は、主成分であるセルロースアシレートの量に対し０．１〜７０質量％であることが好ましく、１〜６５質量％であることがさらに好ましく、３〜６０質量％であることがよりさらに好ましい。

なお、重縮合エステル系可塑剤が含有する原料及び副生成物、具体的には、脂肪族ジオール、ジカルボン酸エステル、及びジオールエステル等、のフィルム中の含有量は、１％未満が好ましく、０．５％未満がより好ましい。ジカルボン酸エステルとしては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ（ヒドロキシエチル）、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジ（ヒドロキシエチル）、アジピン酸ジ（ヒドロキシエチル）、コハク酸ジ（ヒドロキシエチル）等が挙げられる。ジオールエステルとしては、エチレンジアセテート、プロピレンジアセテート等が挙げられる。

本発明の高分子フィルムに用いられる可塑剤としては、メチルメタクリレート（ＭＡ）オリゴマー系可塑剤も好ましい。ＭＡオリゴマー系可塑剤と前記糖類系可塑剤との併用も好ましい。併用の態様では、ＭＡオリゴマー系可塑剤と糖類型可塑剤とを質量比で１：２〜１：５の割合で使用するのが好ましく、１：３〜１：４の割合で使用するのがより好ましい。ＭＡオリゴマー系可塑剤の一例は、下記繰り返し単位を含むオリゴマーである。

重量平均分子量は、５００〜２０００程度が好ましく、７００〜１５００程度がより好ましく、８００〜１２００程度であるのがさらに好ましい。

また、ＭＡオリゴマー系可塑剤は、ＭＡ単独のオリゴマーの他、ＭＡから誘導体される上記繰り返し単位とともに、他のモノマーから誘導される繰り返し単位の少なくとも１種を有するオリゴマーであってもよい。前記他のモノマーの例には、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、ならびに上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルにかえたモノマーが含まれる。また、スチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレンなどの芳香環を有するモノマーを利用することもできる。前記他のモノマーとしては、芳香環を持たない、アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーが好ましい。
また、ＭＡオリゴマー系可塑剤が、２種以上の繰り返し単位を有するオリゴマーである場合は、Ｘ（親水基を有するモノマー成分）及びＹ（親水基を持たないモノマー成分）からなり、Ｘ：Ｙ（モル比）が１：１〜１：９９のオリゴマーが好ましい。

これらのＭＡ系オリゴマーは、特開２００３−１２８５９号公報に記載されている方法を参考にして合成することができる。

（高分子可塑剤）
本発明の高分子フィルムは、前述した糖類系可塑剤、重縮合エステル系可塑剤、及びＭＭＡオリゴマー系可塑剤とともに、又はそれに代えて、他の高分子系可塑剤を含有していてもよい。他の高分子系可塑剤としては、ポリエステルポリウレタン系可塑剤、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、フェノール−ホルムアルデヒド縮合物、尿素−ホルムアルデヒド縮合物、酢酸ビニル、等が挙げられる。

（少なくとも２つの芳香環を有する化合物）
本発明の高分子フィルムは、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、少なくとも２つの芳香環を有する化合物を含有していてもよい。当該化合物は、高分子フィルムの光学特性を調整する作用がある。例えば、本発明の高分子フィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、光学特性、特にＲｅを好ましい値に制御するには、延伸が有効である。Ｒｅの上昇はフィルム面内の屈折率異方性を大きくすることが必要であり、一つの方法が延伸による主鎖配向の向上である。また、屈折率異方性の大きな化合物を添加剤として用いることで、さらにフィルムの屈折率異方性を上昇することが可能である。例えば上記の２つ以上の芳香環を有する化合物は、延伸によりポリマー主鎖が並び、それに伴い該化合物の配向性も向上し、所望の光学特性に制御することが容易となる。

少なくとも２つの芳香族環を有する化合物としては、例えば特開２００３−３４４６５５号公報に記載のトリアジン化合物、特開２００２−３６３３４３号公報に記載の棒状化合物、特開２００５−１３４８８４及び特開２００７−１１９７３７号公報に記載の液晶性化合物等が挙げられる。より好ましくは、上記トリアジン化合物又は棒状化合物である。少なくとも２つの芳香族環を有する化合物は２種以上を併用して用いることもできる。なお、少なくとも２つの芳香環を有する化合物の分子量は、３００〜１２００程度であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。

少なくとも２つの芳香族環を有する化合物の添加量は、セルロースアシレート樹脂に対して質量比で０．０５％〜１０％が好ましく、０．５％〜８％がより好ましく、１％〜５％がさらに好ましい。また、前記２つの芳香族環を有する化合物は、本発明に用いられる前記一般式（１）または（２）で表される化合物を兼ねていてもよい。一方、前記２つの芳香族環を有する化合物が、１，３，５−トリアジン環構造を有するものの前記一般式（１）または（２）を満たさない場合は、湿度依存性改良の観点から、該２つの芳香族環を有する化合物の添加量は、セルロースアシレート樹脂に対して質量比で０．０５％〜１０％が好ましく、０．５％〜８％がより好ましく、１％〜５％が特に好ましい。

（光学異方性調整剤）
また、本発明の高分子フィルムは、光学異方性調整剤を含有していてもよい。例えば、特開２００６−３０９３７号公報の２３〜７２頁に記載の「Ｒｔｈを低減させる化合物」が例に挙げられる。

（マット剤微粒子）
前記高分子フィルムには、マット剤を添加してもよい。マット剤として使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

２次平均粒子径の小さな粒子を有する高分子フィルムの製造方法には、微粒子の分散液を用いることができる。例えば、セルロースアシレートフィルムを例に挙げると、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ調製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集し難い点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースアシレートを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。いずれの方法を利用してもよいし、またこれらの方法に限定されるものでもない。
上記調製方法に使用される溶剤は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

（低分子可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
前記高分子フィルムには、各調製工程において用途に応じた、上述した以外の種々の添加剤（例えば、低分子可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期は、ドープ調製工程においていずれのタイミングで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後のタイミングで添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、高分子フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

（２−４） 高分子フィルムの製造方法
本発明の高分子フィルムは、溶液製膜法（ソルベントキャスト法）によって製膜されたフィルムであるのが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒に溶解して調製されたドープを、金属等からなる支持体の表面にキャストして、乾燥して製膜する。その後、膜を支持体面から剥ぎ取り、延伸処理することで製造される。
ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号 等に記載の例を参考にすることができる。

（２−５） 高分子フィルムの諸特性
（ＲｅおよびＲｔｈ）
本発明の高分子フィルムの光学特性の好ましい範囲は、用途に応じて変動するであろう。ＶＡモード液晶表示装置に利用される態様では、
Ｒｅ（５８９）が３０ｎｍ〜２００ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が７０ｎｍ〜４００ｎｍであるのが好ましく；Ｒｅ（５８９）が３０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が１００ｎｍ〜３００ｎｍであるのがより好ましい。さらには、Ｒｅ（５８９）が４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が１００ｎｍ〜２５０ｎｍであることがさらに好ましい。

（Ｒｅの湿度依存性およびＲｔｈの湿度依存性）
本発明の高分子フィルムは、フィルムを２５℃・相対湿度１０％にて２時間調湿したときのＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ（１０％）、Ｒｔｈ（１０％）とも言う）と、２５℃・相対湿度８０％にて２時間調湿したときのＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ（８０％）、Ｒｔｈ（８０％）とも言う）の変動が小さい。このように光学特性の湿度依存性を向上させることで、使用環境の湿度が変化する条件下においてもＲｅおよびＲｔｈの変動が抑制され、前記好ましい範囲のレテーデーションを発揮することができ、使用環境の湿度が変化する条件下での使用にも好適な高分子、特にセルロースアシレートフィルムを得ることができる。

本発明の高分子フィルムは、Ｒｅの湿度依存性（ΔＲｅ＝Ｒｅ（１０％）−Ｒｅ（８０％））が、１１ｎｍ未満であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、９．５ｎｍ以下であることが特に好ましい。
本発明の高分子フィルムはＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｔｈ＝Ｒｔｈ（１０％）−Ｒｔｈ（８０％））が、２１ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１９ｎｍ以下であることが特に好ましい。

（膜厚）
本発明の高分子フィルムを液晶表示装置の部材等、薄型化が望まれる装置の部材として利用する態様では、膜厚は薄いほうが好ましいが、一方、膜厚が薄すぎるとその用途に要求される光学特性を達成できない。液晶表示装置の光学補償フィルムや偏光板保護フィルムとして利用する態様では、膜厚は２０〜８０μｍ程度であるのが好ましい。より好ましくは、２５〜７０μｍ程度であり、さらに好ましくは３０〜６０μｍ程度である。

３． 高分子フィルムの用途
本発明の高分子フィルムは、種々の用途に用いることができる。例えば、液晶表示装置の位相差フィルム（以下、光学補償フィルムとも言う）、偏光板の保護フィルム等に利用することができる。
（位相差フィルム）
本発明の高分子フィルムは、位相差フィルムとして用いることができる。なお、「位相差フィルム、または光学補償フィルム」とは、一般に液晶表示装置等の表示装置に用いられ、光学異方性を有する光学材料のことを意味し、光学補償シートなどと同義である。液晶表示装置において、光学補償フィルムは表示画面のコントラストを向上させたり、視野角特性や色味を改善したりする目的で用いられる。

また、本発明の高分子フィルムを複数枚積層したり、本発明の高分子フィルムと本発明外のフィルムとを積層したりしてＲｅやＲｔｈを適宜調整して光学補償フィルムとして用いることもできる。フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いて実施することができる。

（偏光板）
本発明の高分子フィルムは、偏光板（本発明の偏光板）の保護フィルムとして用いることができる。本発明の偏光板の一例は、偏光膜とその両面を保護する二枚の偏光板保護フィルム（透明フィルム）からなり、本発明の高分子フィルムを少なくとも一方の偏光板保護フィルムとして有する。本発明の高分子フィルムが支持体として利用され、その表面に液晶組成物からなる光学異方性層を有する態様について、偏光板の保護フィルムとして利用する場合は、支持体である本発明の高分子フィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の面）を偏光膜の表面に貼り合せるのが好ましい。
本発明の高分子フィルムを前記偏光板保護フィルムとして用いる場合、本発明の高分子フィルムには前記表面処理（特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報にも記載）を施して親水化しておくことが好ましく、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などを施すことが好ましい。特に、本発明の高分子フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合には、前記表面処理としてはアルカリ鹸化処理が最も好ましく用いられる。

また、前記偏光膜としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸した偏光膜を用いる場合、接着剤を用いて偏光膜の両面に本発明の高分子フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。本発明の製造方法においては、このように前記セ高分子フィルムが偏光膜と直接貼合されていることが好ましい。前記接着剤としては、ポリビニルアルコール又はポリビニルアセタール（例えば、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例えば、ポリブチルアクリレート）のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液である。

一般に液晶表示装置は二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられるため、４枚の偏光板保護フィルムを有する。本発明の高分子フィルムは、４枚の偏光板保護フィルムのいずれに用いてもよいが、本発明の高分子フィルムは、液晶表示装置における偏光膜と液晶層（液晶セル）の間に配置される保護フィルムとして、特に有用である。また、前記偏光膜を挟んで本発明の高分子フィルムの反対側に配置される保護フィルムには、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層などを設けることができ、特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムとして好ましく用いられる。

（液晶表示装置）
本発明の高分子フィルム、ならびそれを利用した光学補償フィルム及び偏光板は、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下にこれらのフィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明の高分子フィルム、並びにそれを利用した光学補償フィルム及び偏光板は、特にＶＡモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型及び半透過型のいずれでもよい。

図１に、本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図を示す。なお、図１中、上を観察者（表示面）側、下をバックライト側とする。
図１のＶＡモード液晶表示装置は、液晶セルＬＣ（上側基板１、下側基板３、及び液晶層５、からなる）と、液晶セルＬＣを挟持して配置される一対の上側偏光板Ｐ１及び下側偏光板Ｐ２とを有する。なお、偏光膜は、双方の表面に保護フィルムを有する偏光板として液晶表示装置に組み込まれるのが一般的であるが、図１では、偏光膜の外側保護フィルムは省略した。偏光板Ｐ１及びＰ２は、それぞれ偏光膜８ａ及び８ｂを有し、その吸収軸９ａ及び９ｂを互いに直交方向にして配置されている。液晶セルＬＣはＶＡモードの液晶セルであり、黒表示時には、図１に示す通り、液晶層５はホメオトロピック配向になる。上側基板１と下側基板３は、それぞれ内面に、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有し、さらに観察者側の基板１の内面には、カラーフィルタ層（図示せず）を有する。

上側基板１と上側偏光膜８ａとの間、及び下側基板３と下側偏光膜８ｂとの間には、位相差膜１０ａ及び１０ｂがそれぞれ配置されている。位相差膜１０ａ及び１０ｂは、本発明の高分子フィルムである。位相差膜１０ａ及び１０ｂは、その面内遅相軸１１ａ及び１１ｂを、上側偏光膜８ａ及び下側偏光膜８ｂのそれぞれの吸収軸９ａ及び９ｂと直交にして配置される。即ち、位相差膜１０ａ及び１０ｂは、それぞれの遅相軸を直交にして配置される。本発明の高分子フィルムからなる位相差膜１０ａ及び１０ｂは、黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及びカラーシフトの軽減に寄与する。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明の高分子フィルムは、場合により、ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへ適用してもよい。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明の高分子フィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか或いは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明の高分子フィルムにおいても好ましく用いることができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［合成例１：一般式（１）で表される化合物（１−６）の合成］
以下の方法にしたがって、本発明の化合物（１−６）を合成した。
ジシアノジアミド（９．７８ｇ，１１６ｍｍｏｌ）、ベンゾニトリル（１０．０ｇ，９７．０ｍｍｏｌ）及び水酸化カリウム（３．２６ｇ，５８．１ｍｍｏｌ）をメトキシエタノール（８０ｍL）に添加し、３時間加熱還流した。室温まで冷却後、反応混合物を水（３００ｍL）にゆっくり加え、析出物をろ過で採取し、水洗した。得られた粗生成物を水／エタノール（５０／５０（体積比））より再結晶することで目的物（１−６）（収量１６．１ｇ、収率８８％）を得た。
化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトルおよび元素分析で確認した。

［合成例２：一般式（２）で表される化合物（２−２）の合成］
以下の方法にしたがって、本発明の化合物（２−２）を合成した。
有機合成化学協会誌 １９６７，第２５巻第９号，８０２−８０７に記載の方法に従って、ベンズイミドイルグアニジン塩酸塩を合成した。水酸化ナトリウム（１１．６ｇ，２９０ｍｍｏｌ）の水溶液（７３ｍL）にアセトン（７３ｍL）を加えた中に、ベンズイミドイルグアニジン塩酸塩（２４．０ｇ，１２１ｍｍｏｌ）を氷冷下添加した。これら混合物に、氷冷下にてバレロイルクロライド（１６．０ｇ，１３３ｍｍｏｌ）のアセトン溶液（７０ｍL）を滴下添加し、氷冷下にて２時間撹拌した。得られた反応混合物をロータリーエバポレーターによりアセトンを留去させた後、析出物をろ過で採取し、水洗した。得られた粗生成物をメタノールより再結晶することで目的物（２−２）（収量２２．１ｇ、収率８０％）を得た。
化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトルおよび元素分析で確認した。

その他の化合物（１−１）〜（１−５）、（１−７）〜（１−１５）および（２− １）については前記合成例１および合成例２に順じて合成し、化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトルおよび元素分析で確認した。

［実施例１〜２０、比較例１〜４］
（セルロースアシレートフィルムの作製）
前記化合物（１−６） ４質量部および下記表２に記載のセルロースアシレート樹脂 １００質量部を、溶媒であるメチレンクロライド、３９６質量部、メタノール、５９質量部中に混合して、セルロースアシレート（具体的には、セルロースアセテート）溶液を調製した。この溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後１４０℃の条件下、ＴＤ方向（フィルム幅方向）に３５％延伸した後、乾燥して、厚さ５０μｍのセルロースアシレートフィルム（具体的には、セルロースアセテート）フィルムを作製した。これを実施例１のフィルムとして用いた。

セルロースアシレート樹脂の種類をＡから下記表２に示す通りに変え、用いた添加剤を化合物（１−６）から下記表２に示した添加剤に変えた以外は実施例１のフィルムと同様にして、下記表２に示す実施例２〜２０のフィルムを作製した。一方、比較例１および３のフィルムとして、添加剤を無添加のフィルムを製造した。また、以下に示す構造の比較化合物１を添加剤として用いて、比較例２および４のフィルムを製造した。

（光学特性の評価）
得られた各実施例および比較例のフィルムについて、幅方向３点（中央、端部（両端からそれぞれ全幅の５％の位置））を長手方向に１０ｍごとに３回サンプリングし、３ｃｍ角の大きさのサンプルを９枚取り出し、下記の方法にしたがって求めた各点の平均値から求めた。
サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定することから、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出する。
その結果を下記表２に示す。

また、レターデーション値の湿度に伴う変化については、フィルムを２５℃・相対湿度１０％にて２時間調湿した以外は上記の方法と同様にして測定して算出したＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ（１０％）、Ｒｔｈ（１０％））、および２５℃・相対湿度８０％にて１２時間調湿した以外は上記の方法と同様にして測定して算出したＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ（８０％）、Ｒｔｈ（８０％））から、Ｒｅの湿度依存性（ΔＲｅ）とＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｔｈ）とを算出した。
その結果を下記表２に、それぞれΔＲｅ、ΔＲｔｈとして示す。

上記表２に示す結果から、本発明の湿度依存性改良剤を添加したフィルムはいずれも、比較例１〜４のフィルムと比較して、レターデーションの湿度依存性が良好であることが分かった。

［合成例３：一般式（６ｂ）で表される化合物（３−１）の合成］
化合物（３−１）の合成
Ｎ−エチルピロリドン１００ｍｌにアセトグアナミン１０ｇ、安息香酸メチル２７ｇ、ナトリウムメトキシド２２ｇを加え、４０℃で２時間攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、酢酸エチル及び水を加えて分液し、有機層を１Ｎ塩酸水、水の順に水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去しカラムクロマトグラフィーにより精製し化合物（３−１）を得た。
得られた化合物（３−１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（３Ｈ、ｓ）
７．４５−７．５５（４Ｈ、ｍ）
７．６０−７．６５（２Ｈ、ｍ）
７．９０−８．００（４Ｈ、ｍ）
１１．２０（２Ｈ、ｓ）

［合成例４：一般式（６ｂ）で表されるその他の化合物の合成］
化合物（３−２）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｏ−メチル安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−２）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（６Ｈ、ｓ）
２．６０（３Ｈ、ｓ）
７．２０−７．３０（４Ｈ、ｍ）
７．３５−７．４５（２Ｈ、ｍ）
７．５０−７．６０（２Ｈ、ｍ）
８．５５（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−３）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｐ−メチル安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−３）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．３５（６Ｈ、ｓ）
２．５０（３Ｈ、ｓ）
７．３０（４Ｈ、ｄ）
７．８５（４Ｈ、ｄ）
１１．１０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−４）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｐ−メトキシ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−４）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（３Ｈ、ｓ）
３．８０（６Ｈ、ｓ）
７．００（４Ｈ、ｄ）
７．９５（４Ｈ、ｄ）
１１．００（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−５）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｍ−メトキシ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−５）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（３Ｈ、ｓ）
３．８０（６Ｈ、ｓ）
７．１０−７．２０（２Ｈ、ｍ）
７．３５−７．４５（２Ｈ、ｍ）
７．５０−７．６０（４Ｈ、ｍ）
１１．２０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−６）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−６）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．３０（１８Ｈ、ｓ）
２．５０（３Ｈ、ｓ）
７．５５（４Ｈ、ｄ）
７．９５（４Ｈ、ｄ）
１１．１０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−７）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−７）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．４０（６Ｈ、ｓ）
２．６５（３Ｈ、ｓ）
７．３５−７．４５（４Ｈ、ｍ）
７．７０−７．８０（４Ｈ、ｍ）
８．８０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−８）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｐ−クロロ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−８）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．６０（３Ｈ、ｓ）
７．４０−７．５０（４Ｈ、ｍ）
７．９０−８．００（４Ｈ、ｍ）
９．１０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−９）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｏ−クロロ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−９）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（３Ｈ、ｓ）
７．３０−７．５０（６Ｈ、ｍ）
７．６０−７．７０（２Ｈ、ｍ）
８．９５（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−１０）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｍ−クロロ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−１０）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．５０（３Ｈ、ｓ）
７．５５（２Ｈ、ｍ）
７．７０（２Ｈ、ｍ）
７．９０（２Ｈ、ｍ）
８．００（２Ｈ、ｓ）
１１．３５（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−１１）の合成
出発原料を安息香酸メチルからｏ−メトキシ安息香酸メチルに変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−１１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．４０（３Ｈ、ｓ）
３．８０（６Ｈ、ｓ）
７．００−７．２０（４Ｈ、ｍ）
７．５５（２Ｈ、ｍ）
７．６５（２Ｈ、ｍ）
１０．７０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−１２）の合成
原料を変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。目的物はＭＳスペクトルで確認した。

化合物（３−１３）の合成
原料を変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。目的物はＭＳスペクトルで確認した。

化合物（３−１４）の合成
原料を変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−１４）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．４０（３Ｈ、ｓ）
４．００（４Ｈ、ｓ）
７．２０−７．３０（１０Ｈ、ｍ）
１０．９０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−１５）の合成
原料のエステルを変更した他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−１５）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．４０（３Ｈ、ｓ）
３．８０（３Ｈ、ｓ）
７．１５（１Ｈ、ｍ）
７．３５−７．５５（５Ｈ、ｍ）
７．７５（２Ｈ、ｍ）
１１．１０（１Ｈ、ｓ）
１１．２０（１Ｈ、ｓ）

化合物（３−１６）の合成
原料にベンゾグアナミンとｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸メチルを用いた他は化合物（３−１）と同様に合成を行った。
得られた化合物（３−１６）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．３５（１８Ｈ、ｓ）
７．５０−７．６０（７Ｈ、ｍ）
７．９０−８．００（４Ｈ、ｍ）
７．３０（２Ｈ、ｍ）
１１．２０（２Ｈ、ｓ）

化合物（３−１７）の合成

Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−Ａ Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ， ２００５， ｖｏｌ．１１， ＃２２ ｐ．６６１６〜６６２８の方法に従い中間体３−１７−１を合成し、化合物（３−７）と同様に合成を行った。目的物はＭＳスペクトルで確認した。

化合物（３−１８）の合成
化合物（３−１７）と同様に合成を行い、目的物はＭＳスペクトルで確認した。

塩化シアヌル７７ｇのテトラヒドロフラン３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、３，５−ジメチルピラゾール４０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン５４ｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下した（反応温度５℃以下）。室温で３０分攪拌した後、反応液を０℃に冷却し、２５％アンモニア水を９０ｍｌ滴下した。室温で３時間攪拌した後、反応液に水を加えろ過し、水で洗浄した。得られた固体を酢酸エチルで洗浄し、ろ過した後乾燥することで中間体（４−３１−１）を得た。中間体（４−３１−１）２０ｇに２５％アンモニア水２００ｍｌ、テトラヒドロフラン５０ｍｌを加え、５０℃で５時間攪拌した後、室温に冷却し、反応液に水を加え、ろ過することで目的物（４−３１）を得た。
得られた化合物（４−３１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．１０（３Ｈ、ｓ）
２．６０（３Ｈ、ｓ）
６．００（１Ｈ、ｓ）
６．８０−７．００（４Ｈ、ｍ）

化合物（４−３２）の合成
化合物（４−３１）と同様に中間体（４−３１−１）を合成した後、２５％アンモニア水を４０％メチルアミン水溶液に変更したほかは化合物（４−３１）と同様に合成を行い、目的物を得た。
得られた化合物（４−３２）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
２．１０（３Ｈ、ｍ）
２．５５（３Ｈ、ｍ）
２．８０（３Ｈ、ｍ）
６．００（１Ｈ、ｍ）
６．８０、７．００、７．２０、７．４０（３Ｈ、ｂｒ）

化合物（４−３３）の合成
化合物（４−３１）と同様に中間体（４−３１−１）を合成した後、２５％アンモニア水を７０％エチルアミン水溶液に変更したほかは化合物（４−３１）と同様に合成を行い、目的物を得た。
得られた化合物（４−３３）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
１．１０（３Ｈ、ｔ）
２．１０（３Ｈ、ｍ）
２．６０（３Ｈ、ｍ）
３．３０（２Ｈ、ｍ）
６．００（１Ｈ、ｍ）
６．８０、７．００、７．２５、７．５０（３Ｈ、ｂｒ）

化合物（４−３４）の合成
化合物（４−３１）の合成で用いる２５％アンモニア水を４０％メチルアミン水溶液に変更した他は同様に合成を行い目的物（４−３４）を得た。目的物はＭＳスペクトルで確認した。

化合物（４−１）の合成
化合物（４−３１）の合成で用いる３，５−ジメチルピラゾールをモルホリンに変更した他は同様に合成を行い、目的物（４−１）を得た。
得られた化合物（４−１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：
３．６０（８Ｈ、ｍ）
６．１５（４Ｈ、ｓ）

［実施例２１〜３９］
得られた化合物を用いた以外は実施例１と同様にして、実施例２１〜３９のセルロースアシレートフィルムを製膜した。得られた各実施例のセルロースアシレートフィルムについて、実施例１と同様に光学特性の評価を行った。その結果を下記表３に示す。

上記表３に示す結果から、本発明の湿度依存性改良剤を添加したフィルムはいずれも、前記表２に記載した比較例１〜４のフィルムと比較して、レターデーションの湿度依存性が良好であることが分かった。

１ 液晶セル上側基板
３ 液晶セル下側基板
５ 液晶層（液晶分子）
８ａ、８ｂ 偏光板の保護フィルム
９ａ、９ｂ 偏光板の保護フィルム吸収軸
１０ａ、１０ｂ 位相差膜（本発明の高分子フィルム）
１１ａ、１１ｂ 位相差膜（本発明の高分子フィルム）吸収軸
Ｐ１、Ｐ２ 偏光板
ＬＣ 液晶セル

Claims (20)

1. 下記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を含有する高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（１）中、Ｒａはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
   

   

   （一般式（２）中、ＲｂおよびＲｃはそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｘ⁵およびＸ⁶はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
2. 前記一般式（１）および（２）において、前記Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｘ⁵およびＸ⁶が、それぞれ独立に、単結合および下記一般式（３）で表される２価の連結基からなる群から選択されるいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（３）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、＊側が前記一般式（１）および（２）で表される化合物中の１，３，５−トリアジン環に置換しているＮ原子との連結部位である。）
3. 前記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
4. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（４）中、Ｒａ¹はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
5. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（５）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（５）中、Ｒａ²はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ²¹およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
6. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（６）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（６）中、Ｒａ³はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
7. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（６ｂ）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
   

   

   （一般式（６ｂ）中、Ｒａ⁴はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒｄ¹およびＲｄ²はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、置換基を有していてもよい。）
8. 前記Ｒａ³またはＲａ⁴がアルキル基であることを特徴とする請求項６または７に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
9. 前記一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
10. 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（７）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
    

    

    （式中、Ｒｂ¹およびＲｃ¹はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
11. 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（８）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
    

    

    （一般式（８）中、Ｒｂ²およびＲｃ²はそれぞれ単独にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。Ｒ²⁵は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。）
12. 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（９）で表されることを特徴とする請求項１または２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
    

    

    （一般式（９）中、Ｒｂ³およびＲｃ³はそれぞれ単独にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または複素環基を表す。）
13. 前記Ｒｂ³および前記Ｒｃ³が共にアルキル基であることを特徴とする請求項１２に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
14. 前記一般式（１）または（２）で表される化合物がＲｔｈ降下剤であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤。
15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の高分子フィルム用湿度依存性改良剤と、水酸基を含有する高分子を含むことを特徴とする高分子フィルム。
16. 前記の水酸基を含有する高分子がセルロースアシレート樹脂であることを特徴とする請求項１５に記載の高分子フィルム。
17. 前記セルロースアシレート樹脂がセルロースアセテート樹脂であることを特徴とする請求項１６に記載の高分子フィルム。
18. 請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の高分子フィルムを含むことを特徴とする位相差フィルム。
19. 請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の高分子フィルムまたは請求項１８に記載の位相差フィルムを含むことを特徴とする偏光板。
20. 請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の高分子フィルム、請求項１８に記載の位相差フィルムまたは請求項１９に記載の偏光板を含むことを特徴とする液晶表示装置。

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