JP2011065393A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. レジスト層の露光・現像を用いて、回路パターンが形成される中央部と、細線引き回し回路パターンが形成される端部とを有する積層導電性シートであって、
   透明プラスチックフィルムからなる基体シートと、
   前記中央部及び前記端部において、前記基体シートの上に形成された透明導電膜と、
   前記中央部及び前記端部において、前記透明導電膜の上に形成され、前記露光の光線を遮る、厚みが３０〜１０００ｎｍである遮光性金属膜とを備えた、導電性シート。
2. 前記遮光性金属膜は、スパッタリング法により形成された銅膜である、請求項１記載の導電性シート。
3. 前記透明プラスチックフィルムは、全光線透過率が８０％以上であり、かつ波長５４５ｎｍにおける光線透過率が８０％以上である、請求項１又は２記載の導電性シート。
4. 前記透明導電膜は、アモルファスの、インジウムスズ酸化物又は亜鉛酸化物からなり、厚みが１０〜２００ｎｍである、請求項１から３のいずれかに記載の導電性シート。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の導電性シートが、前記遮光性金属膜の各々が表裏両面に構成されるように、二枚積層された、積層導電性シート。
6. 請求項１から４のいずれかに記載の導電性シート、又は請求項５記載の積層導電性シートを用いた透明アンテナ、透明ディスプレイ又はタッチ入力シートであって、
   前記遮光性金属膜の上にレジスト層が形成され、前記基体シートの中央部にある前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜が、前記レジスト層の露光・現像の後のエッチングにより位置ずれなく積層された所望のパターンに形成され、
   前記基体シートの端部にある前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜が、前記レジスト層の露光・現像の後のエッチングにより位置ずれなく積層された前記細線引き回し回路パターンに形成され、
   前記レジスト層が除去され、前記細線引き回し回路パターンの上に保護レジストが被覆形成され、前記中央部にある前記遮光性金属膜がエッチング除去されることにより前記中央部にある前記透明導電膜が前記回路パターンに形成された、透明アンテナ、透明ディスプレイ又はタッチ入力シート。
7. 透明プラスチックフィルムからなる二枚積層された基体シートの両面の各々に、透明導電膜、厚みが３０〜１０００ｎｍである遮光性金属膜が順次形成された積層導電性シートを準備し、前記遮光性金属膜の上にレジスト層を形成した後、両面同時に前記レジスト層を露光・現像し、前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜をエッチングし、前記レジスト層を剥離することにより、前記基体シートの両面の端部に各々、前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜が積層された細線引き回し回路パターンを形成し、前記細線引き回し回路パターンの上に保護レジストを被覆形成し、前記保護レジストが形成されていない前記遮光性金属膜のみをエッチングすることにより両面の中央部の各々に前記透明導電膜の回路パターンを露出形成する、透明アンテナ、透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法。
8. 二枚の透明プラスチックフィルムからなる基体シート上に各々、透明導電膜、厚みが３０〜１０００ｎｍである遮光性金属膜、レジスト層を順次積層形成し、前記基体シート同士を対向して積層することにより、積層された前記基体シートの両面に前記透明導電膜、前記遮光性金属膜、前記レジスト層を形成した後、両面同時に前記レジスト層を露光し、現像した後、前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜をエッチングし、前記レジスト層を剥離することにより、両面の端部に前記透明導電膜及び前記遮光性金属膜が順次積層された細線引き回し回路パターンを形成した後、前記細線引き回し回路パターン上に保護レジストを被覆形成し、前記保護レジストが形成されていない前記遮光性金属膜のみをエッチングすることにより両面の中央部の各々に前記透明導電膜の回路パターンを露出形成する、透明アンテナ、透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法。
9. 前記透明導電膜は、アモルファスの、インジウムスズ酸化物又は亜鉛酸化物からなり、
   前記保護レジストが形成されていない前記遮光性金属膜のみをエッチングする前に、前記透明導電膜を結晶化させる、請求項７又は８記載の透明アンテナ、透明ディスプレイ又はタッチ入力シートの製造方法。