JP2001242475A - 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明電極の薄膜化と低抵抗化を可能とし、さ
らに基板の反りを防止してセル厚を一定とした液晶装置
及びその製造方法、並びに電子機器を提供する。 【解決手段】 一対の基板２、３２間に液晶４０を有
し、そのうち一方の基板２における他の基板３２との対
向面には透明電極４が形成され、透明電極４の表面には
部分的に金属製の補助電極６が形成されていて、補助電
極６は透明電極４と電気的に接続している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置及びその
製造方法、並びに電子機器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶装置は、互いに対向する一対の基板
間に液晶を配して成る非発光型のディスプレイであり、
液晶の配向状態に応じて液晶を通過する光を変調させて
表示を行うものである。そして、各基板の対向面には、
通常はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等から成る透明電極
がそれぞれ形成され、該電極間に印加される電圧により
液晶分子の配向状態が制御されている。

【０００３】上記したＩＴＯ等の透明電極に要求される
特性としては、低抵抗であること、及び透過率が高いこ
とが挙げられる。従って、通常は上記した特性が充分発
揮されるよう、比較的高温（ガラス基板上に成膜する場
合、約３００℃程度）下でＩＴＯを成膜することにより
透明電極の比抵抗を下げ、膜厚の低減、ひいては透過率
の向上を図っている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
装置の薄型化、軽量化等を図るためにプラスチックフィ
ルム製の基板（以下、「フィルム基板」という）が用い
られるようになっているが、かかる場合はプラスチック
フィルムの耐熱温度（１５０℃程度）の制限から、高い
温度で透明電極を成膜することはできず、その結果とし
て透明電極の比抵抗がガラス基板上に成膜した場合と比
較して著しく劣るという問題があった。又、この場合に
透明電極全体の抵抗を下げるべく膜厚を厚くしたり、成
膜温度を高くすると、透明電極とフィルム基板との熱膨
張係数の違いによるストレスが原因となって軟質なフィ
ルム基板に反りが生じたり、透明電極の透過率が低下す
るので、フィルム基板における透明電極の薄膜化と低抵
抗化の両立には限界があった。

【０００５】そして、基板に反りが生じると、セル厚
（各基板の間隔）が一定にならないので、画面上の位置
によって表示状態がばらつくという不具合が発生してい
る。

【０００６】本発明は、フィルム基板を用いた液晶装置
における上記した問題を解決し、透明電極の薄膜化と低
抵抗化をともに可能とし、さらに基板の反りを防止して
セル厚を一定とした液晶装置及びその製造方法、並びに
電子機器の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の液晶装置は、一方の基板と他方の基板
の間に液晶を有し、少なくとも前記一方の基板はプラス
チックフィルムから成る液晶装置であって、少なくとも
前記一方の基板における前記他方の基板との対向面側に
は透明電極が形成され、該透明電極の表面には部分的に
金属製の補助電極が形成されていて、前記補助電極は前
記透明電極と電気的に接続していることを特徴とする。

【０００８】このような構成によれば、プラスチックフ
ィルムから成る基板の表面に形成された透明電極の一部
に、低抵抗な金属から成る補助電極が電気的に接続され
ているので、電極全体のシート抵抗を低減させることが
でき、透明電極自体のシート抵抗が比較的高くてもよ
い。そのため、透明電極の厚みを薄くして透過率を向上
させることができ、基板の反りを生じさせずに透明電極
の薄膜化と電極全体の低抵抗化を共に実現することがで
きる。さらに、基板の反りを防止してセル厚を一定の値
に保持することができる。

【０００９】又、本発明の液晶装置は、少なくとも前記
一方の基板における他方の基板との対向面側には、透明
電極及び該透明電極に隣接する金属製の補助電極が形成
され、前記補助電極は前記透明電極と電気的に接続して
いることを特徴とする。

【００１０】前記透明電極は、それぞれ基板面方向に離
間した複数の矩形状電極からなり、前記補助電極は、前
記矩形状電極の周縁上と該矩形状電極上の短辺方向に延
びる線状の部分とに形成され、前記矩形状電極のうち前
記補助電極で囲まれた部分が画素領域になっていること
が好ましい。

【００１１】又、前記透明電極は、それぞれ基板面方向
に離間した複数の矩形状電極からなり、前記補助電極
は、前記矩形状電極の長手方向における周縁上、又は該
矩形状電極の長手方向に延びる端部に隣接して形成され
ていることが好ましい。

【００１２】前記補助電極の形成部分を除く前記透明電
極の表面には、少なくともカラーフィルタ層が形成され
ていることが好ましい。

【００１３】さらに、前記透明電極及び前記補助電極の
一部はそれぞれ延設されて引回し配線になっていて、該
引回し配線は、前記一方の基板の表面に前記透明電極と
前記補助電極とをこの順で積層してなることが好まし
い。

【００１４】前記引回し配線の一端側は駆動回路との接
続端子部になっていて、該接続端子部は、前記一方の基
板の表面に前記透明電極と前記補助電極とをこの順で積
層してなることが好ましい。

【００１５】本発明の液晶装置の製造方法は、プラスチ
ックフィルム製の基板の表面に、透明電極の前駆体層及
び金属製の補助電極の前駆体層をこの順に形成する工程
と、前記補助電極の前駆体層のみを選択的にエッチング
して所定パターンの補助電極を形成する工程と、少なく
とも画素領域及び前記補助電極の下側部分を除いた透明
電極の前駆体層をエッチングし、その際前記補助電極と
電気的に接続するようにして透明電極を形成する工程と
を備えることを特徴とする。

【００１６】又、本発明の液晶装置の製造方法は、プラ
スチックフィルム製の基板の表面に、透明電極の前駆体
層及び金属製の補助電極の前駆体層をこの順に形成する
工程と、前記補助電極の前駆体層及び前記補助電極の下
側部分を除いた透明電極の前駆体層を同時にエッチング
し、所定パターンの透明電極及び該透明電極と同一パタ
ーンを有する補助電極の第２前駆体層を形成する工程
と、前記補助電極の第２前駆体層のみを選択的にエッチ
ングし、その際前記透明電極と電気的に接続するように
して補助電極を形成する工程とを備えることを特徴とす
る。

【００１７】本発明の電子機器は、前記液晶装置を備え
たことを特徴とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶装置につ
いて、図１乃至図３に基づいて説明する。なお、本発明
における「液晶装置」とは、一対の基板間に液晶を有
し、そのうち少なくとも一方の基板はプラスチックフィ
ルムから成っていて、その表面には後述する補助電極と
透明電極を配したものをいうが、液晶表示の方式（アク
ティブマトリクス型、あるいはパッシブマトリクス型
等）については制限はなく、又、画像制御用の素子につ
いても、液晶装置の動作方式（ＴＦＴ方式、ＴＦＤ方式
等）に応じて適宜選択することができる。さらに、その
他のカラーフィルタ等を適宜備えてもよい。以下、図１
は液晶装置の概略斜視図を示す。

【００１９】図１において、液晶装置５０は、パッシブ
マトリクス型の液晶表示装置をなし、一方の基板２と他
方の基板３２が所定の間隔で対向配置され、各基板２、
３２の間には図示しない液晶が介装されている。なお、
この実施形態においては、各基板２、３２はいずれもプ
ラスチックフィルムから成っているが、いずれかの基板
にガラス等を用いてもよい。そして、一方の基板２の上
面（対向面）には縦方向に延びる短冊状のデータ電極８
が設けられ、その一端部が延設されて引回し配線８０ａ
になり、引回し配線８０ａの先端は図示しない駆動回路
の接続端子部８２ａになっている。又、他方の基板３２
の下面（対向面）には縦方向に延びる短冊状の走査電極
３８が設けられ、その一端部が延設されて引回し配線８
０ｂになり、引回し配線８０ｂの先端は駆動回路の接続
端子部８２ｂになっている。

【００２０】この液晶装置５０は、図２に示す概略平面
形状をなし、一方の基板２と他の基板３２との間にはセ
ル厚を一定に保つためのスペーサーが適宜用いられ、そ
れぞれの基板の周縁部においてシール材４４を介して各
基板２、３２が所定間隔で貼着され、その間に液晶が封
入されている。また、一方の基板２の内表面上には後述
するカラーフィルター層が設けられている。そして、シ
ール領域の内側が表示領域になっていて、走査電極３８
を介して走査信号が供給され、データ電極８を介して表
示信号がそれぞれ供給され、その差分電圧が走査電極３
８とデータ電極８との重なり部分における画素領域７０
の液晶層に印加されることにより画像が表示される。ま
た、液晶装置５０の裏表には所定の偏光板が取り付けら
れている。そして、データ電極８は透明電極４と補助電
極６から成り、走査電極３８は透明電極３４と補助電極
３６から成っているが、これらの構成について以下に述
べる。

【００２１】この液晶装置５０の断面構造は図３に示す
ようになっている。

【００２２】この図において、一方の基板２上に設けら
れたデータ電極８は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxid
e）等から成る所定幅の透明電極４を有し、該透明電極
４の周縁部に後述する形状の補助電極６が配設された構
成をなしている。この場合、補助電極６は透明電極４の
上に部分的に形成されているので、透明電極４の表出部
分（データ電極８の中央部の画素領域７０に相当）を光
が透過するようになっている。

【００２３】なお、この実施形態では、補助電極６で囲
まれた領域には、透明電極４を覆うようにしてカラーフ
ィルタ層１０、１２、１４のいずれかが形成されてい
る。つまり、一方の基板２は、全体としてカラーフィル
タ基板となっている。ここで、カラーフィルタ層１０、
１２、１４は、それぞれ、青色のカラーフィルタ層（図
示「Ｂ」）、緑色のカラーフィルタ層（図示「Ｇ」）、
赤色のカラーフィルタ層（図示「Ｒ」）からなり、各画
素に対応した位置にそれぞれ後述する配置態様でマトリ
クス状に配設されている。そして、各カラーフィルタ層
１０、１２、１４、補助電極６、及び一方の基板２の上
には平滑化層を兼ねた保護層２０と配向膜２２がこの順
に形成されている。そして液晶４０を介して一方の基板
２が他の基板３２（走査電極３８）に対向している。な
お、走査電極３８は透明電極３４と補助電極３６から成
り、走査電極３８の表面にも所定の配向膜４８が形成さ
れている。

【００２４】本発明においては、データ電極８が透明電
極４と補助電極６から成ることが第１の特徴である。こ
の補助電極６は例えばＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等の低抵
抗な金属、あるいは、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等を主成
分とする合金から成り、透明電極４の表面（又は側面）
と電気的に接続している。つまり、このようにすると、
データ電極８の全体のシート抵抗は補助電極６によって
低減されるので、透明電極４自体のシート抵抗が比較的
高くてもよいことになる。従って、透明電極４の厚みを
薄くして透過率を９０％程度に向上させることができ
る。又、耐熱温度や剛性の低いフィルム基板において、
成膜温度を高くしたり膜厚を厚くする必要がないので、
基板の反りを生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体
の低抵抗化を実現することができる。また、後述する引
廻し配線や駆動回路との接続端子部も上述の補助電極６
のパターン形成時に同時に形成しておくことで、引廻し
部分の抵抗を低く保つことができ、クロストーク等表示
の劣化を防止できる。

【００２５】上記したプラスチックフィルムとしては、
例えば厚み１００〜２００μｍ程度のポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリア
リレート（ＰＡ）等のフィルムを用いることができる。
又、データ電極８の全体のシート抵抗は、補助電極６と
透明電極４の寸法によっても変化するが、シート抵抗値
が２０Ω／□（Ω／ｃｍ²）以下となるように、補助電
極６と透明電極４の大きさを設定するとよい。例えば、
補助電極６を高さ０．０５〜０．２μｍ、幅１０μｍ以
下程度とし、透明電極４を厚み０．０５〜０．２μｍ程
度とすればよい。なお、補助電極６の幅が大きくなるほ
ど、開口率が低下するので、補助電極６の幅を５μｍ以
下とすることが好ましい。

【００２６】ところで、補助電極６の平面形状は図４に
示すようになっている。

【００２７】この図において、透明電極４は、それぞれ
基板面方向に離間した複数の矩形状電極４ａ、４ｂから
なり、補助電極６は、各矩形状電極４ａ、４ｂの周縁上
と、矩形状電極４ａ、４ｂ上の短辺方向に延びる線状の
部分とに形成され、矩形状電極４ａ、４ｂのうち補助電
極で囲まれた部分が画素領域７０になっている。つま
り、補助電極６は概略はしご状に形成されていて、隣接
するはしご段（図の横方向に延びる補助電極６）で囲ま
れた土手状の方形領域がそれぞれ画素領域７０となり、
補助電極６自体は遮光層になっている。又、この図にお
いて、引廻し配線８０ａ及び接続端子部８０ｂは、所定
パターンの透明電極４の上に補助電極６が積層された構
造になっている。

【００２８】そして、上記した方形の画素領域７０に表
出した矩形状電極４ａ、４ｂの上に、図５に示す配置状
態で各カラーフィルタ層１０、１２、１４が配設され
る。つまり、各矩形状電極４ａ、４ｂの長手方向には同
一色のカラーフィルタ層が形成され、隣接する矩形状電
極の間ではＲ、Ｇ、Ｂが交互に配設されている。各カラ
ーフィルタ層１０、１２、１４は、例えば染色法や顔料
分散法によって所定のパターニングを行うことにより形
成してもよいが、補助電極６の上面を透明電極４の上面
より高くして上記方形の領域を土手状に囲み、その内部
にインクジェット法等によりカラーフィルタ層の材料を
含む液を注入すれば、カラーフィルタ層のパターニング
工程を省略できるので好ましい。

【００２９】なお、この実施形態において、他の基板３
２側の走査電極３８は、例えば図６に示すように形成す
ることができる。

【００３０】この図において、各透明電極３４は短冊状
をなし、その長手方向の側端面に隣接して略線状の補助
電極３６が延設されている。この場合、透明電極３４の
高さと補助電極３６との高さはほぼ一致するように形成
されている。なお、走査電極３８として、補助電極のな
い通常の透明電極等を用いてもよい。

【００３１】次に、本発明の第２の実施形態に係る液晶
装置５０Ｓについて、図７及び図８に基づいて説明す
る。図７は液晶装置５０Ｓの概略斜視図を示す。

【００３２】この図において、液晶表示装置５０Ｓは、
アクティブマトリクス型のＴＦＤ（Thin Film Diode）
液晶表示装置をなし、一方の基板２Ｓと他方の基板３２
Ｓが所定の間隔で対向配置され、その間には液晶が挟持
されている。ガラス等から成る他の基板３２Ｓは素子基
板となっていて、該基板３２の下面（対向面）にマトリ
クス状にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極から
成る複数の電極（画素電極）３８Ｓ、及び該画素電極３
８Ｓを制御するＴＦＤ６６が設けられている。各画素電
極３８Ｓは、略矩形状に形成され、そのうち一の隅部に
はＴＦＤ６６が配設され、この部分が切欠部となってい
る。ＴＦＤ６６は走査線６４に接続され、走査信号と後
述するデータ線（対向電極）８Ｓとに印加された信号に
基づいて、液晶を表示状態、非表示状態またはその中間
状態に切り替えて表示動作の制御を行うことができるよ
うになっている。

【００３３】また、一方の基板２Ｓはプラスチックフィ
ルムから成り、後述する透明電極４Ｓと補助電極６Ｓと
から成る短冊状のデータ線（電極）８Ｓが表面に形成さ
れている。なお、この実施形態においては、カラーフィ
ルタ層は形成されておらず、従って、この液晶表示装置
５０Ｓは白黒表示を行なうようになっている。又、デー
タ線８Ｓにおいて、対向する画素電極３８Ｓとの重なり
部分が画素領域７４（表示部）となり、その周縁部分が
遮光部７２となる。

【００３４】この液晶装置５０Ｓの断面構造は図８に示
すようになっている。

【００３５】この図において、一方の基板２上のデータ
線（電極）８Ｓは、所定幅の透明電極４Ｓを有し、その
長手方向周縁部の上に畝状の補助電極６Ｓが形成されて
いる。さらに、一方の基板２及び補助電極６Ｓの表面に
は配向膜２２Ｓが形成されている。そして、一方の基板
２は液晶４０Ｓを介して他の基板３２Ｓ側の画素電極３
８Ｓ、ＴＦＤ６６等に対向し、領域７４にて適宜反射表
示や透過表示がなされるようになっている。

【００３６】次に、補助電極６Ｓ及び透明電極４Ｓの概
略構成について、図９に基づいて説明する。

【００３７】この図において、透明電極４Ｓは、上記し
た実施例と同様に、それぞれ基板面方向に離間した複数
の矩形状電極４Ｓａ、４Ｓｂからなり、補助電極６は、
各矩形状電極４Ｓａ、４Ｓｂの周縁上に延びて線状に形
成されている。そして、電極全体としては樋状になって
いる。この実施形態においても、低抵抗な補助電極６Ｓ
により透明電極４Ｓの薄膜化と低抵抗化が図られる。な
お、引廻し配線８０Ｓ及び接続端子部８０Ｓは上記と同
様にして形成されている。

【００３８】本発明の液晶装置５０は、例えば図１０及
び図１１に示すようにして製造することができる。な
お、図１０及び図１１は、各工程における液晶装置の各
層を、図３と同様に図２のＡ−Ａ’断面に対応させて示
す工程図である。

【００３９】まず、フィルム基板２を用意し、その表面
全体に、例えばスパッタリングによりＩＴＯ膜等の透明
導電性薄膜４Ａを形成し、その上に例えばスパッタリン
グによりＡｌ等の金属層６Ａを形成する（図１０
（１））。そして、金属層６Ａの上に所定のレジストを
塗布し、フォトリソにより所定パターンのマスク９０を
形成する（図１０（２））。

【００４０】次に、金属層６Ａの一部をエッチング除去
することにより、畝状（上面視はしご状）の補助電極６
を形成する（図１０（３））。エッチングとしては、例
えば混酸によるウェットエッチング（選択性エッチン
グ）を行なうことができる。

【００４１】そして、透明導電性薄膜４Ａの一部の領域
に例えばＹＡＧレーザを照射して、前記補助電極の下側
部分を除く透明導電性薄膜４Ａを適宜除去し、所定形状
の透明電極４をパターニング形成する（図１０
（４））。その際、透明電極４が補助電極６と電気的に
接続するようにする。なお、透明電極４をパターニング
する方法としては、通常のドライエッチングを用いても
よい。

【００４２】そして、一方の基板２の上に他の基板３２
を対向配置し、適宜液晶を注入することにより、液晶装
置５０を製造する（図１１（５））。なお、図示しない
が、適宜カラーフィルタ層や保護層を一方の基板２や他
の基板３２に形成してもよい。この場合、カラーフィル
タ層を上述の如く透明電極４の上に形成してもよく、
又、基板２と透明電極４の間にカラーフィルタ層を形成
してもよい。

【００４３】又、図１２に示すようにして、本発明の液
晶装置を製造することもできる。なお、図１２は、図１
０及び図１１と同様な工程図である。

【００４４】まず、フィルム基板２の表面全体に透明導
電性薄膜４Ａと金属層６Ａを形成し、金属層６Ａの上に
フォトリソにより所定パターンのマスク９０Ａを形成す
る（図１２（１））。なお、マスク９０Ａのパターン
は、図１０におけるマスク９０のパターンとは異なり、
データ電極８の外形に対応したものである。

【００４５】次に、金属層６Ａと透明導電性薄膜４Ａを
同時にエッチング除去して、透明電極４とその上の金属
層６Ｂをパターニング形成する（図１２（２））。この
エッチングでは、例えば塩酸と硝酸の混合溶液を用いる
とよい。

【００４６】そして、金属層６Ｂの上にフォトリソによ
り補助電極６の形状に対応したパターンのマスク９０Ｂ
を形成する（図１２（３））。さらに、上記した選択性
エッチングにより、マスク９０Ｂの非形成部分における
金属層６Ａを除去し、適宜残ったレジストを除去して補
助電極６を形成する（図１２（４））。そして、適宜図
示しない他の基板３２を対向配置して液晶装置５０を製
造する。

【００４７】なお、補助電極の形状は上記に限定される
ものではなく、図１３に示すように、基板２のほぼ全面
に透明電極４Ｕを配設し、その上に網状の補助電極６Ｕ
を形成してもよい。この場合には、網目部分が画素領域
となり、全体が電気的に接続されているので、基板２の
全面に１つの電極が形成されているのと同じことにな
る。従って、例えばＴＦＴ素子基板の対向基板に適用可
能である。

【００４８】ところで、上記した各実施形態において
は、補助電極６が透明電極４の周縁を土手状に囲ってい
るので、液晶が土手の内側の透明電極４に入り難くなる
ことがある。このようなことから、補助電極６の側面の
一部を開口させた形状にすれば、液晶装置を組み立てた
後にこの部分から液晶が入り込むので、液晶装置の製造
がより容易となる。図１４及び図１５は、かかる形状の
補助電極６を示す。

【００４９】図１４において、矩形状（短冊状）の透明
電極４Ｗ１の上には、その長手方向に沿って複数のコの
字部が連結して配設され、かつその開口部分が互い違い
になっている補助電極６Ｗ１が形成されている。この補
助電極６Ｗ１の場合、透明電極４Ｗ１の長手側の周縁部
から液晶が流入可能であるとともに、補助電極６Ｗ１が
全体として導通しているので、電極の低抵抗化を損なう
こともない。又、図１５において、矩形状（短冊状）の
透明電極４Ｗ２の上には、その長手方向の周縁の一方の
側（図示右側）に沿って線状の補助電極６Ｗ２が形成さ
れ、透明電極４Ｗ２の左側周縁には補助電極は形成され
ていない。従って、当該左側から液晶が流入可能になっ
ている。

【００５０】以上の実施形態では、透明電極の上に補助
電極が形成された場合について説明したが、これに限ら
ず、図１６及び図１７に示すように一方の基板上に透明
電極と補助電極が隣接して形成されていてもよい。

【００５１】図１６において、一方の基板２上には、図
の縦方向に延びる線状の補助電極６Ｘが複数本配設さ
れ、隣接する１対の補助電極６Ｘの間には、該補助電極
６Ｘを覆った状態でそれぞれ短冊状の透明電極４Ｘが形
成されている。そして、データ電極８Ｘは全体として樋
状をなしている。又、図１７において、一方の基板２上
には、図の縦方向に延びる短冊状の透明電極４Ｙが複数
形成され、その長辺に隣接して線状の補助電極６Ｙが配
設されている。そして、データ電極８Ｙは全体として樋
状をなしている。なお、図１６に示す態様は、補助電極
６Ｘの上にも透明電極４Ｘが形成されていることの他
は、実質的には透明電極と補助電極が隣接して配設され
ているものと同様であるので、これを図１７に示す態様
に含めることとする。そして、図１７に示す電極を備え
た基板は、例えば図１８及び図１９に示すようにして製
造することができる。なお、図１８及び図１９は、各工
程における液晶装置の各層を、図１７の左右方向に対応
させて示す工程図である。

【００５２】図１８（１）において、まず、基板２上の
全面に金属層６Ａを形成する。次に、金属層６Ａの上に
適宜フォトリソによりマスクを形成し、金属層６Ａの一
部をエッチング除去することにより、線状の補助電極６
Ｙを形成する（図１８（２））。そして、基板２、及び
補助電極６Ｙの上に透明導電性薄膜４Ａを形成し（図１
８（３））、例えばＹＡＧレーザを照射して透明導電性
薄膜４Ａを部分的に除去し、透明電極４Ｙをパターニン
グ形成することにより、樋状の電極を備えた基板２を製
造することができる（図１８（４））。この実施形態に
おいても、樋状の電極の短辺方向が開口しているので、
この部分から液晶を流入させることが可能である。

【００５３】なお、図１７に示す電極構造において、予
め補助電極６Ｙを例えばはしご状に形成しておき、次
に、該補助電極６Ｙで囲まれた土手状の領域内に透明電
極の材料を含む液状の透明電極前駆体を注入して固化さ
せ、透明電極４Ｙを形成することもできる。かかる場合
には、透明電極をフォトリソグラフィによりパターニン
グする必要がなく、製造工程やコストの低減を図ること
ができるという利点がある。

【００５４】上記透明電極前駆体としては、例えば有機
インジウムと有機スズをキシロール中に溶かしたものを
用いることができる。具体的には、有機インジウムと有
機スズを９７：３の重量比で配合した透明電極の材料
を、キシロール中に８重量％含む溶剤（アデカ塗布液Ｉ
ＴＯ（品番ＩＴＯ−１０３Ｌ、旭電化工業製））を好適
に用いることができる。又、上記透明電極前駆体を固化
させる方法としては特に制限はないが、例えばフィルム
基板の耐熱温度に応じて１００〜１５０℃程度に加熱・
焼成することで溶剤を揮発させることで、透明電極を得
ることができる。上記透明電極前駆体を注入する方法と
しては、特開平７−１４６４０６号公報等に開示されて
いるインクジェット法を用いるとよい。インクジェット
法は、印刷装置に用いられているインクジェットプリン
タを適用したものである。

【００５５】［電子機器］以下、本発明の液晶装置を備
えた電子機器の具体例について説明する。

【００５６】図１９は、携帯電話の一例を示した斜視図
である。

【００５７】この図において、符号１０００は携帯電話
本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用い
た液晶表示部を示している。

【００５８】図２０は、腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。

【００５９】この図において、符号１１００は時計本体
を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた液
晶表示部を示している。

【００６０】図２１は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。

【００６１】この図において、符号１２００は情報処理
装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１
２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気
光学装置を用いた液晶表示部を示している。

【００６２】図１９ないし図２１に示す電子機器は、上
記の液晶装置を用いた液晶表示部を備えたものであるの
で、フィルム基板を用いた液晶装置においても透過率が
高く、しかも電極の抵抗の低く、かつ、基板の反りがな
くセル厚が一定な電子機器を実現することができる。

【００６３】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、プラスチックフィルムから成る基板の表面に形
成された透明電極の一部に、低抵抗な金属から成る補助
電極が電気的に接続されているので、電極全体のシート
抵抗を低減させることができ、透明電極自体のシート抵
抗が比較的高くてもよい。そのため、透明電極の厚みを
薄くして透過率を向上させることができ、基板の反りを
生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体の低抵抗化を
共に実現することができる。

【００６４】さらに、基板の反りを防止してセル厚を一
定の値に保持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の液晶装置を示す斜視図である。

【図２】 本発明の液晶装置を示す平面図である。

【図３】 図２のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。

【図４】 補助電極を示す斜視図である。

【図５】 カラーフィルタ層の配設態様を示す上面図で
ある。

【図６】 他の基板側の走査電極を示す斜視図である。

【図７】 本発明の液晶装置の他の例を示す斜視図であ
る。

【図８】 図７のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

【図９】 図７の液晶装置における透明電極及び補助電
極の構成を示す斜視図である。

【図１０】 液晶装置の製造プロセスを示す工程断面図
である。

【図１１】 同工程断面図である。

【図１２】 液晶装置の製造プロセスの他の例を示す工
程断面図である。

【図１３】 補助電極の別の例を示す斜視図である。

【図１４】 補助電極のさらに別の例を示す斜視図であ
る。

【図１５】 補助電極の他の例を示す斜視図である。

【図１６】 一方の基板側のデータ電極の他の構成例を
示す斜視図である。

【図１７】 一方の基板側のデータ電極の別の構成例を
示す斜視図である。

【図１８】 図１７における液晶装置（一方の基板）の
製造プロセスを示す工程断面図である。

【図１９】 本発明の液晶装置を備えた電子機器の一例
を示す斜視図である。

【図２０】 同、電子機器の他の例を示す斜視図であ
る。

【図２１】 同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図
である。

【符号の説明】

２、２Ｌ、２Ｓ 一方の基板 ４、４Ｌ、４Ｓ、４Ｔ、４Ｕ、４Ｗ１、４Ｗ２、４Ｘ、
４Ｙ、３４透明電極 ４ａ、４ｂ、４Ｓａ、４Ｓｂ 矩形状電極 ４Ａ 透明電極の材料
を含む溶剤 ６、６Ｌ、６Ｓ、６Ｔ、６Ｕ、６Ｗ１、６Ｗ２、６Ｘ、
６Ｙ、３６補助電極 ８、８Ｌ、８Ｘ、８Ｙ データ電極 １０、１０Ｌ 青色のカラーフ
ィルタ層 １２、１２Ｌ 緑色のカラーフ
ィルタ層 １４、１４Ｌ 赤色のカラーフ
ィルタ層 ３２、３２Ｓ 他の基板 ３８ 走査電極 ３８Ｓ 画素電極 ４０、４０Ｓ 液晶 ５０、５０Ｓ 液晶装置 ７０、７４ 画素領域 ８０ａ、８０ｂ、８０Ｓ 引回し配線 ８２ａ、８２ｂ、８２Ｓ （駆動回路と
の）接続端子部

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の基板と他方の基板の間に液晶を有
   し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィルム
   から成る液晶装置であって、 少なくとも前記一方の基板における前記他方の基板との
   対向面には透明電極が形成され、該透明電極の表面には
   部分的に金属製の補助電極が形成されていて、 前記補助電極は前記透明電極と電気的に接続しているこ
   とを特徴とする液晶装置。
2. 【請求項２】 一方の基板と他方の基板の間に液晶を有
   し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィルム
   から成る液晶装置であって、 少なくとも前記一方の基板における前記他方の基板との
   対向面側には、透明電極及び該透明電極に隣接する金属
   製の補助電極が形成されていて、 前記補助電極は前記透明電極と電気的に接続しているこ
   とを特徴とする液晶装置。
3. 【請求項３】 前記透明電極は、それぞれ基板面方向に
   離間した複数の矩形状電極からなり、 前記補助電極は、前記矩形状電極の周縁上と該矩形状電
   極上の短辺方向に延びる線状の部分とに形成され、前記
   矩形状電極のうち前記補助電極で囲まれた部分が画素領
   域になっていることを特徴とする請求項１に記載の液晶
   装置。
4. 【請求項４】 前記透明電極は、それぞれ基板面方向に
   離間した複数の矩形状電極からなり、 前記補助電極は、前記矩形状電極の長手方向における周
   縁上、又は該矩形状電極の長手方向に延びる端部に隣接
   して形成されていることを特徴とする請求項１又は２に
   記載の液晶装置。
5. 【請求項５】 前記補助電極の形成部分を除く前記透明
   電極の表面には、カラーフィルタ層が形成されているこ
   とを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液
   晶装置。
6. 【請求項６】 前記透明電極及び前記補助電極の一部は
   それぞれ延設されて引回し配線になっていて、 該引回し配線は、前記一方の基板の表面に前記透明電極
   と前記補助電極とをこの順で積層してなることを特徴と
   する請求項１ないし５のいずれかに記載の液晶装置。
7. 【請求項７】 前記引回し配線の一端側は駆動回路との
   接続端子部になっていて、 該接続端子部は、前記一方の基板の表面に前記透明電極
   と前記補助電極とをこの順で積層してなることを特徴と
   する請求項６に記載の液晶装置。
8. 【請求項８】 一方の基板と他方の基板の間に液晶を有
   し、少なくとも一方の基板はプラスチックフィルムから
   成る液晶装置の製造方法であって、 プラスチックフィルム製の基板の表面に、透明電極の前
   駆体層及び金属製の補助電極の前駆体層をこの順に形成
   する工程と、 前記補助電極の前駆体層のみを選択的にエッチングして
   所定パターンの補助電極を形成する工程と、 少なくとも画素領域及び前記補助電極の下側部分を除い
   た透明電極の前駆体層をエッチングし、その際前記補助
   電極と電気的に接続するようにして透明電極を形成する
   工程とを備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。
9. 【請求項９】 一方の基板と他方の基板の間に液晶を有
   し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィルム
   から成る液晶装置の製造方法であって、 プラスチックフィルム製の基板の表面に、透明電極の前
   駆体層及び金属製の補助電極の前駆体層をこの順に形成
   する工程と、 前記補助電極の前駆体層及び前記補助電極の下側部分を
   除いた透明電極の前駆体層を同時にエッチングし、所定
   パターンの透明電極及び該透明電極と同一パターンを有
   する補助電極の第２前駆体層を形成する工程と、 前記補助電極の第２前駆体層のみを選択的にエッチング
   し、その際前記透明電極と電気的に接続するようにして
   補助電極を形成する工程とを備えることを特徴とする液
   晶装置の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項１ないし７のいずれかに記載の
    液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。