JP2001242468A - 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の反りを防止してセル厚を一定とし、光
抜けや点欠陥を防止し、透明電極の薄膜化と低抵抗化を
可能とした液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器
を提供する。 【解決手段】 一方の基板２と他方の基板３２との間に
液晶４０を挟持し、少なくとも一方の基板２はプラスチ
ックフィルムから成り、一方の基板２上の他方の基板３
２との対向側には透明電極４が形成され、透明電極４の
表面には部分的に金属製の補助電極６が形成されてな
り、補助電極６上の他方の基板３２との対向側には、所
定厚みの絶縁材料から成り、一方の基板２と他方の基板
３２の間隔を保持する柱状の距離規定部材７を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置及びその
製造方法、並びに電子機器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶装置は、互いに対向する一対の基板
間に液晶を配して成る非発光型のディスプレイであり、
液晶の配向状態に応じて液晶を通過する光を変調させて
表示を行うものである。そして、各基板の対向面には、
通常はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等から成る透明電極
がそれぞれ形成され、該電極間に印加される電圧により
液晶分子の配向状態が制御されている。又、各基板間に
は通常、数百個／ｍｍ²程度の球状粒子が分散されてい
て、各基板の間隔（セル厚み）を一定に保持し、液晶装
置のパネル面内全域にわたって表示の均一性を確保して
いる

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、液晶
装置の薄型化、軽量化等を図るためにプラスチックフィ
ルム製の基板（以下、「フィルム基板」という）が用い
られるようになっているが、かかるフィルム基板は従来
のガラス基板に比べて剛性に劣っている。従って、球状
粒子を基板上に従来と同様な密度で分散させたとして
も、隣接する球状粒子間でフィルム基板がたわんでセル
厚みが変動するという問題があった。

【０００４】そのため、セル厚みを一定に保持するため
には、液晶層により多数の球状粒子（ガラス基板を用い
た液晶セルの場合の２〜３倍程度の散布密度）を分散さ
せる必要があるが、かかる場合には、画素部分に球状粒
子による光抜けや点欠陥などの画質不良が生じるという
問題が生じる。このうち、光抜けは、（半）透明な球状
粒子が配置されている箇所では液晶が配向せずに光が透
過するためにその部分が抜けて見える不良をいい、点欠
陥は画素内に多数の球状粒子が凝集したために画素が部
分的に欠け、その部分が抜けて見える不良をいう。

【０００５】又、フィルム基板はガラス基板に比べて静
電気を帯びやすく、電極表面と基板表面の電位が異なる
ため、基板上に多数の球状粒子を均一に分散させること
が困難であり、セル厚均一性を確保するのが困難であ
る。

【０００６】これらに加え、フィルム基板の場合、次の
ような問題があった。つまり、従来のガラス基板におい
ては、比較的高温（ガラス基板上にＩＴＯを成膜する場
合で約３００℃）下で成膜して透明電極の結晶化を進行
させることにより、透明電極の比抵抗を下げ、膜厚の低
減、ひいては透過率の向上を実現することができる。と
ころが、耐熱温度（１５０℃程度）の制限から、フィル
ム基板では高い温度で透明電極を成膜することはでき
ず、その結果として透明電極の比抵抗がガラス基板の場
合と比較して著しく劣っている。又、この場合に透明電
極全体の抵抗を下げるべく膜厚を厚くすると、軟質なフ
ィルム基板に反りが生じたり、透明電極の透過率が低下
するので、フィルム基板における透明電極の薄膜化と低
抵抗化の両立には限界があった。

【０００７】本発明は、フィルム基板を用いた液晶装置
における上記した問題を解決し、基板の反りを防止して
セル厚を一定とし、球状粒子を不要として光抜けや点欠
陥などの画質不良を防止し、さらには透明電極の薄膜化
と低抵抗化をともに可能とした液晶装置及びその製造方
法、並びに電子機器の提供を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の液晶装置は、一方の基板と他方の基板
との間に液晶を挟持し、少なくとも前記一方の基板はプ
ラスチックフィルムから成る液晶装置であって、前記一
方の基板上の前記他方の基板との対向側には透明電極が
形成され、該透明電極の表面側には部分的に金属製の補
助電極が形成されてなり、前記補助電極上の前記他方の
基板との対向側には、所定厚みの絶縁材料から成り、前
記一方の基板と前記他方の基板の間隔を保持する柱状の
距離規定部材を備えたことを特徴とする。

【０００９】このような構成によれば、プラスチックフ
ィルムから成る基板の表面に形成された補助電極の上に
距離規定部材が配設されているので、基板の反りを防止
してセル厚を一定の値に保持することができる。又、表
示画素部分に距離規定用の球状粒子が存在しないため、
光抜けや点欠陥などの不具合は解消される。

【００１０】さらに、透明電極の一部に低抵抗な金属か
ら成る補助電極が電気的に接続されているので、電極全
体のシート抵抗を低減させることができ、透明電極自体
のシート抵抗が比較的高くてもよい。そのため、透明電
極の厚みを薄くして透過率を向上させることができ、基
板の反りを生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体の
低抵抗化を共に実現することができる。

【００１１】又、本発明の液晶装置は、前記一方の基板
上の前記他方の基板との対向側には、透明電極及び該透
明電極に隣接する金属製の補助電極が形成されていて、
前記補助電極上の前記他方の基板との対向側には、所定
厚みの絶縁材料から成り前記他方の基板との距離を保持
する柱状の距離規定部材を備えたことを特徴とする。

【００１２】前記距離規定部材は感光性樹脂から成り、
かつ前記補助電極をマスクとして前記一方の基板の外側
から光を照射することによりパターニングされて成るこ
とが好ましい。

【００１３】このような構成によれば、距離規定部材の
パターニングの際のフォトマスクが不要であるととも
に、位置ずれを生じることなく補助電極の上に距離規定
部材を形成することができる。

【００１４】又、前記透明電極は、それぞれ基板面方向
に離間した複数の矩形状電極からなり、前記補助電極
は、前記矩形状電極の周縁上と該矩形状電極上の短辺方
向に延びる線状の部分とに形成され、前記矩形状電極の
うち前記補助電極で囲まれた部分が画素領域になってい
ることが好ましい。

【００１５】前記透明電極は、それぞれ基板面方向に離
間した複数の矩形状電極からなり、前記補助電極は、前
記矩形状電極の長手方向における周縁上、又は該矩形状
電極の長手方向に延びる端部に隣接して形成されている
ことが好ましい。

【００１６】さらに、前記距離規定部材は、前記補助電
極上の他方の基板との対向側の略全面に形成されている
ことが好ましい。

【００１７】本発明の液晶装置の製造方法は、前記一方
の基板の表面に、透明電極の前駆体層及び金属製の補助
電極の前駆体層をこの順に形成する工程と、前記補助電
極の前駆体層を選択的にエッチングして所定パターンの
補助電極を形成する工程と、前記透明電極の前駆体層の
うち、前記他方の基板に配設された電極との重なり部分
で形成される画素領域及び前記補助電極の下側に位置す
る領域を除いた部分を少なくともエッチングし、その際
前記補助電極と電気的に接続するようにして透明電極を
形成する工程と、前記透明電極と前記補助電極とが形成
された一方の基板の表面に、所定厚みの感光性樹脂層か
ら成る距離規定部材の前駆体層を形成する工程と、前記
一方の基板の裏面側から光を照射することにより、前記
補助電極をマスクとして該補助電極の表面に柱状の距離
規定部材を形成する工程とを備えることを特徴とする。

【００１８】又、本発明の液晶装置の製造方法は、前記
一方の基板の表面に、透明電極の前駆体層及び金属製の
補助電極の前駆体層をこの順に形成する工程と、前記補
助電極の前駆体層及び前記補助電極の下側部分を除いた
透明電極の前駆体層を同時にエッチングし、所定パター
ンの透明電極及び該透明電極と同一パターンを有する補
助電極の第２前駆体層を形成する工程と、前記補助電極
の第２前駆体層を選択的にエッチングし、その際前記透
明電極と電気的に接続するようにして補助電極を形成す
る工程と、前記透明電極と前記補助電極とが形成された
前記一方の基板の表面に、所定厚みの感光性樹脂層から
成る距離規定部材の前駆体層を形成する工程と、前記一
方の基板の裏面側から光を照射することにより、前記補
助電極をマスクとして該補助電極の表面に柱状の距離規
定部材を形成する工程とを備えることを特徴とする。

【００１９】本発明の電子機器は、前記液晶装置を備え
たことを特徴とする。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶装置につ
いて、図１乃至図３に基づいて説明する。なお、本発明
における「液晶装置」とは、一対の基板（一方の基板と
他方の基板）間に液晶を挟持し、そのうち少なくとも一
方の基板はプラスチックフィルムから成っていて、その
表面には後述する補助電極と透明電極を配したものをい
うが、液晶表示の方式（アクティブマトリクス型、ある
いはパッシブマトリクス型等）については制限はなく、
又、画像制御用の素子についても、液晶装置の動作方式
（ＴＦＴ方式、ＴＦＤ方式等）に応じて適宜選択するこ
とができる。さらに、その他のカラーフィルタ等を適宜
備えてもよい。以下、図１は液晶装置の概略斜視図を示
す。

【００２１】図１において、液晶装置５０は、パッシブ
マトリクス型の液晶表示装置をなし、一方の基板２と他
方の基板３２が所定の間隔で対向配置され、各基板２、
３２の間には図示しない液晶が挟持されている。なお、
この実施形態においては、各基板２、３２はいずれもプ
ラスチックフィルムから成っているが、いずれかの基板
にガラス等を用いてもよい。そして、他方の基板３２の
下面（対向面）には横方向に延びる短冊状の走査電極３
８が設けられ、一方の基板２の上面（対向面）には縦方
向に延びる短冊状のデータ電極８が設けられている。

【００２２】この液晶装置５０は、図２に示す概略平面
をなし、一方の基板２と他方の基板３２とがそれぞれの
基板の周縁部においてシール材４４を介して所定間隔で
貼着され、基板２、３２間に液晶層が封入されている。
また、一方の基板２の内表面上には後述するカラーフィ
ルター層が設けられている。そして、シール領域の内側
が表示領域４９になっていて、走査電極３８とデータ電
極８との重なり部分が画素領域となっている。又、走査
電極３８を介して走査信号が供給され、データ電極８を
介して表示信号が供給され、その差分電圧が上記画素領
域の液晶層に印加されることにより画像が表示される。
また、液晶装置５０の裏表には所定の偏光板が取り付け
られている。なお、詳細は後述するが、この液晶装置５
０においては、セル厚を一定に保つための球状粒子は用
いられていない。そして、データ電極８は透明電極４と
補助電極６から成り、走査電極３８は透明電極３４と補
助電極３６から成っているが、これらの構成について以
下に述べる。

【００２３】この液晶装置５０の断面構造は図３に示す
ようになっている。

【００２４】この図において、一方の基板２上に設けら
れたデータ電極８は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxid
e）等から成る所定幅の透明電極４を有し、該透明電極
４の周縁部の上に畝状の補助電極６が配設された構成を
なしている。この場合、補助電極６は透明電極４の上に
部分的に形成されていて、透明電極４の表出部分（デー
タ電極８の中央部）を光が透過するようになっている。
そして、補助電極６の表面（他方の基板３２との対向
面）には、詳しくは後述する距離規定部材７が配設され
ている。

【００２５】なお、この実施形態では、補助電極６で囲
まれた領域には、透明電極４を覆うようにしてカラーフ
ィルタ層１０、１２、１４のいずれかが形成されてい
る。つまり、一方の基板２は、全体としてカラーフィル
タ基板となっている。ここで、カラーフィルタ層１０、
１２、１４は、それぞれ、青色のカラーフィルタ層（図
示「Ｂ」）、緑色のカラーフィルタ層（図示「Ｇ」）、
赤色のカラーフィルタ層（図示「Ｒ」）からなり、各画
素に対応した位置にそれぞれ後述する配置態様でマトリ
クス状に配設されている。

【００２６】そして、各カラーフィルタ層１０、１２、
１４、及び一方の基板２の上に平滑化層を兼ねた保護層
２０が形成され、これら及び距離規定部材７の上には配
向膜２２が形成されている。さらに、各データ電極８に
おいて、距離規定部材７及び補助電極６で囲まれた内部
空間に液晶４０が注入され、この状態で、一方の基板２
が他方の基板３２（走査電極３８）に対向している。な
お、走査電極３８は透明電極３４と補助電極３６から成
り、走査電極３８の表面にも所定の配向膜４８が形成さ
れている。

【００２７】本発明においては、データ電極８が透明電
極４と補助電極６から成ることが第１の特徴である。こ
の補助電極６は例えばＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等の低抵
抗な金属材料、あるいは、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ等を
主成分とする合金から成り、透明電極４の表面（又は側
面）と電気的に接続している。つまり、このようにする
と、データ電極８の全体のシート抵抗は補助電極６によ
って低減されるので、透明電極４自体のシート抵抗が比
較的高くてもよいことになる。従って、透明電極４の厚
みを薄くして透過率を９０％程度に向上させることがで
きる。又、耐熱温度や剛性の低いフィルム基板におい
て、成膜温度を高くしたり膜厚を厚くする必要がないの
で、基板の反りを生じさせずに透明電極の薄膜化と電極
全体の低抵抗化を実現することができる。

【００２８】上記したプラスチックフィルムとしては、
例えば厚み１００〜２００μｍ程度のポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリア
リレート（ＰＡ）等のフィルムを用いることができる。
又、データ電極８の全体のシート抵抗は、補助電極６と
透明電極４の寸法によっても変化するが、シート抵抗値
が２０Ω／□（Ω／ｃｍ²）以下程度となるように、補
助電極６と透明電極４の大きさを設定するとよい。例え
ば、補助電極６を高さ０．０５〜０．２μｍ、幅１０μ
ｍ以下程度とし、透明電極４を厚み０．０５〜０．２μ
ｍ、幅（図２のＡ−Ａ’線方向）〜２５０μｍ程度とす
ればよい。なお、補助電極６の幅が大きくなるほど、開
口率が低下するので、補助電極６の幅を５μｍ以下とす
ることが好ましい。

【００２９】さらに、本発明においては、補助電極６の
表面に距離規定部材７を設けたことが第２の特徴であ
る。この距離規定部材７は、柱状をなす所定の厚み
（ｔ）の絶縁材料から成り、距離規定部材７を介して一
方の基板２と他方の基板３２が対向配置されている。そ
して、距離規定部材７の厚みｔを、補助電極６や透明電
極４の厚みに比べて相当程度厚くすることにより（例え
ばｔ＝５μｍ程度）、一方の基板２と他方の基板３２と
の間隔（ほぼセル厚みに相当）を厚みｔと略同一に保持
することができる。なお、この実施形態においては、一
方の基板２側の補助電極６の表面にのみ距離規定部材７
を設けたが、これに限らず、他方の基板３２側にも透明
電極及び補助電極を形成し、その補助電極の表面に距離
規定部材を設けてもよい。この際には、上下基板の距離
規定部材の重合部でセル厚を所定値にしている。

【００３０】ここで、透明電極は基板の表面のほぼ全面
にわたって形成され、それと同様に補助電極も基板のほ
ぼ全面にくまなく形成されている。例えば上記した実施
形態では、最大でもデータ電極８の横幅（２５０μｍ）
に相当する間隔で補助電極６が形成されている。従っ
て、距離規定部材も基板上に広範囲に分布して配設され
ることになるため、隣接する距離規定部材の間隔が広く
なりすぎることがないので、剛性の低いフィルム基板に
おいても反りが生じることが防止され、セル厚が基板上
の位置によって不均一になることがない。

【００３１】さらに、距離規定部材７を画素領域の周縁
部に形成すると、画素領域内には従来の球状粒子のよう
に配向を妨げる部材は存在しないようになる。そのた
め、光抜けや点欠陥などの画質不良が防止される。ま
た、補助電極６が遮光層を兼ねるため、ギャップ領域か
らの光り抜けを軽減でき、コントラストの向上につなが
る等の効果を有する。なお、感光性樹脂を用い、前記補
助電極をマスクとして距離規定部材７を作製すれば、製
造工程上有利であるが、これについては後述する。

【００３２】ところで、補助電極６及びその上に配設さ
れる距離規定部材７の平面形状は図４に示すようになっ
ている。

【００３３】この図において、透明電極４は、それぞれ
基板面方向に離間した複数の矩形状電極からなり、各補
助電極６及び距離規定部材７は、上記矩形状電極の周縁
上と該矩形状電極上の短辺方向（横方向）に延びる線状
の部分とに形成され、矩形状電極のうち補助電極６で囲
まれた部分が画素領域になっている。つまり、補助電極
６及び距離規定部材７は、それぞれ一方向に延びるはし
ご状に形成されていて、隣接するはしご段で囲まれた土
手状の方形領域がそれぞれ画素領域となり、その内部に
液晶が保持され、補助電極６自体は遮光層になってい
る。

【００３４】そして、上記した方形の画素領域に表出し
た透明電極４の上に、図５に示す配置状態で各カラーフ
ィルタ層１０、１２、１４が配設される。この場合、各
補助電極６（距離規定部材７）の延設方向には同一色の
カラーフィルタ層が形成され、隣接する補助電極６同士
ではＲ、Ｇ、Ｂが交互に配設されている。各カラーフィ
ルタ層１０、１２、１４は、例えば染色法や顔料分散法
によって所定のパターニングを行うことにより形成して
もよいが、インクジェット法等によりカラーフィルタ層
の材料を含む液を土手内部に注入すれば、カラーフィル
タ層のパターニング工程を省略できるので好ましい。

【００３５】なお、液晶を注入する関係上、この実施形
態において、他方の基板３２側の走査電極３８は、図６
に示すように形成されている。

【００３６】この図において、各透明電極３４は短冊状
をなし、その長手方向の側端面に隣接して略線状の補助
電極３６が延設されている。この場合、透明電極３４と
補助電極３６との高さはほぼ一致しているので、一方の
基板２側における距離規定部材７で囲まれた内部空間に
液晶を注入した後、その上に走査電極３８を密接して対
向配置させることができる。なお、走査電極３８とし
て、補助電極のない通常の透明電極等を用いてもよい。

【００３７】次に、本発明の第２の実施形態に係る液晶
装置５０Ｓについて、図７及び図８に基づいて説明す
る。図７は液晶装置５０Ｓの概略斜視図を示す。

【００３８】この図において、液晶表示装置５０Ｓは、
アクティブマトリクス型のＴＦＤ（Thin Film Diode）
液晶表示装置をなし、一方の基板２Ｓと他方の基板３２
Ｓが所定の間隔で対向配置され、その間には液晶が介装
されている。ガラス等から成る他方の基板３２Ｓは素子
基板となっていて、該基板３２の下面（対向面）にマト
リクス状にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極か
ら成る複数の電極（画素電極）３８Ｓ、及び該画素電極
３８Ｓを制御するＴＦＤ６６が設けられている。各画素
電極３８Ｓは、略矩形状に形成され、そのうち一の隅部
にはＴＦＤ６６が配設され、この部分が切欠部となって
いる。ＴＦＤ６６は走査線６４に接続され、走査信号と
後述するデータ線（対向電極）８Ｓとに印加された信号
に基づいて、液晶を表示状態、非表示状態またはその中
間状態に切り替えて表示動作の制御を行うことができる
ようになっている。

【００３９】また、一方の基板２Ｓはプラスチックフィ
ルムから成り、後述する透明電極４Ｓと補助電極６Ｓと
から成る短冊状のデータ線（電極）８Ｓが表面に形成さ
れている。なお、この実施形態においては、カラーフィ
ルタ層は形成されておらず、従って、この液晶表示装置
５０Ｓは白黒表示を行なうようになっている。又、デー
タ線８Ｓにおいて、対向する画素電極３８Ｓに対向する
領域７４が表示部となり、その周縁部分が遮光部７２と
なる。

【００４０】この液晶装置５０Ｓの断面構造は図８に示
すようになっている。

【００４１】この図において、一方の基板２上のデータ
線（電極）８Ｓは、所定幅の透明電極４Ｓを有し、その
長手方向周縁部の上に畝状の補助電極６Ｓが形成され、
補助電極６Ｓの上には距離規定部材７Ｓが配設されてい
る。さらに、一方の基板２及び距離規定部材７Ｓの表面
には配向膜２２Ｓが形成されている。そして、一方の基
板２は液晶４０Ｓを介して他方の基板３２Ｓ側の画素電
極３８Ｓ、ＴＦＤ６６等に対向し、領域７４にて適宜反
射表示や透過表示がなされるようになっている。

【００４２】次に、補助電極６Ｓ及び透明電極４Ｓの概
略構成について、図９に基づいて説明する。

【００４３】この図において、透明電極４Ｓは、それぞ
れ基板面方向に離間した複数の矩形状電極からなり、補
助電極６Ｓは、各矩形状電極の長手方向における周縁上
に線状に延びて形成され、全体として樋状の電極が構成
されている。そして、補助電極６Ｓの上に図示しない距
離規定部材７Ｓが配設されている。従って、この実施形
態においても、補助電極６Ｓの上に所定間隔（透明電極
４Ｓ（矩形状電極）の短辺の幅以下）で距離規定部材が
配設されるため、基板の反りは防止されてセル厚は一定
となり、スペーサを用いることなく光抜けや点欠陥など
の画質不良を防止することができ、さらには透明電極の
薄膜化と低抵抗化が可能となる。

【００４４】本発明の液晶装置５０は、例えば図１０及
び図１１に示すようにして製造することができる。な
お、図１０及び図１１は、各工程における液晶装置の各
層を、図３と同様に図２のＡ−Ａ’断面に対応させて示
す工程図である。

【００４５】まず、フィルム基板２を用意し、その表面
全体に、例えばスパッタリングによりＩＴＯ膜等の透明
導電性薄膜４Ａを形成し、その上に例えばスパッタリン
グによりＡｌ等の金属層６Ａを形成する（図１０
（１））。そして、金属層６Ａの上に所定のレジストを
塗布し、フォトリソにより所定パターンのマスク９０を
形成する（図１０（２））。

【００４６】次に、金属層６Ａの一部をエッチング除去
することにより、畝状（上面視はしご状）の補助電極６
を形成する（図１０（３））。エッチングとしては、例
えば混酸溶液によるウェットエッチング（選択性エッチ
ング）を行なうことができる。

【００４７】そして、透明導電性薄膜４Ａの一部の領域
に例えばＹＡＧレーザを照射して、前記補助電極の下側
部分を除く透明導電性薄膜４Ａを適宜除去し、所定形状
の透明電極４をパターニング形成する（図１０
（４））。その際、透明電極４が補助電極６と電気的に
接続するようにする。なお、透明電極４をパターニング
する方法としては、通常のドライエッチングを用いても
よい。

【００４８】次に、図１１（５）に示すように、基板
２、透明電極４、及び補助電極６の上に距離規定部材７
の前駆体となる感光性樹脂層７Ａを形成する。この感光
性樹脂は、光が照射された部分の反応が促進され、容易
に除去できるようになり、光の無照射部分が未反応で残
るようになっていて、例えば感光性ポリイミド樹脂を用
いることができる。

【００４９】そして、基板２の裏面側からＵＶ光（感光
性樹脂層７Ａとの反応を促進させる波長の光）を照射す
る（図１１（６））。このようにすると、補助電極６の
形成領域ではＵＶ光が反射されて感光性樹脂が反応せず
に残るため、距離規定部材７として形成される。一方、
補助電極６の非形成領域では、光照射により反応が促進
され感光性樹脂が容易に除去される。つまり、補助電極
６をマスクとして距離規定部材７がパターニングされる
ので、フォトマスクが不要であるとともに、位置ずれを
生じることなく補助電極６の上に距離規定部材７を形成
することができる。なお、上述の製造方法を用いた場
合、規定部材７は補助電極６の上の全面にわたって形成
されることになる。

【００５０】さらに、透明電極４と距離規定部材７で囲
まれた土手状の領域内に、例えばインクジェット法等に
より液晶を所定量注入する（図１１（７））。

【００５１】そして、このようにして液晶が注入された
一方の基板２の上に他方の基板３２を対向配置すること
により、液晶装置５０を製造する（図１１（８））。な
お、図示しないが、適宜カラーフィルタ層や保護層を一
方の基板２や他方の基板３２に形成してもよい。この場
合、カラーフィルタ層を上述の如く透明電極４の上に形
成してもよく、又、基板２と透明電極４の間にカラーフ
ィルタ層を形成してもよい。

【００５２】又、図１２に示すようにして、本発明の液
晶装置を製造することもできる。なお、図１２は、図１
０及び図１１と同様な工程図である。

【００５３】まず、フィルム基板２の表面全体に透明導
電性薄膜４Ａと金属層６Ａを形成し、金属層６Ａの上に
フォトリソにより所定パターンのマスク９０Ａを形成す
る（図１２（１））。なお、マスク９０Ａのパターン
は、図１０におけるマスク９０のパターンとは異なり、
データ電極８の外形に対応したものである。

【００５４】次に、金属層６Ａと透明導電性薄膜４Ａを
同時にエッチング除去して、透明電極４とその上の金属
層６Ｂをパターニング形成する（図１２（２））。この
エッチングでは、例えば塩酸と硝酸の混合溶液を用いる
とよい。

【００５５】そして、金属層６Ｂの上にフォトリソによ
り補助電極６の形状に対応したパターンのマスク９０Ｂ
を形成する（図１２（３））。さらに、上記した選択性
エッチングにより、マスク９０Ｂの非形成部分における
金属層６Ａを除去し、適宜残ったレジストを除去して補
助電極６を形成する（図１２（４））。そして、図１１
と同様にして距離規定部材７を形成し、適宜図示しない
他方の基板３２を対向配置して液晶装置５０を製造す
る。

【００５６】なお、上記した各実施形態においては、感
光性樹脂を用い、補助電極をマスクとして距離規定部材
をパターニングしたが、これに限らず、通常の絶縁性の
樹脂をフォトリソ等によりパターニングして距離規定部
材を形成しても勿論よい。

【００５７】さらに、補助電極６の形状は上記に限定さ
れるものではない。例えば図１３に示すように、基板２
のほぼ全面に透明電極４Ｕを配設し、その上に網状の補
助電極６Ｕを形成してもよい。この場合には、網目部分
が画素となり、全体が電気的に接続されているので、基
板２の全面に１つの電極が形成されているのと同じこと
になる。従って、例えばＴＦＴ素子基板の対向基板に適
用可能である。なお、近年では、ガラス板等にＴＦＴ素
子の回路を形成後、転写する技術も進展しているので、
かかる技術を適用すれば、フィルム基板にＴＦＴやＴＦ
Ｄを配設することもできる。なお、図１３においては、
補助電極の形状についてのみ説明したが、この補助電極
の上に形成される距離規定部材も補助電極と同様な形状
となることはいうまでもない。

【００５８】ところで、上記した各実施形態において
は、補助電極６及び距離規定部材７が透明電極４の外側
を土手状に囲っているので、予め当該土手の内側に液晶
を注入してから液晶装置を組み立てることが必要とな
る。このようなことから、補助電極６（距離規定部材
７）の側面の一部を開口させた形状にすれば、液晶装置
を組み立てた後にこの部分から液晶が入り込むので、液
晶装置の製造が容易となる。図１４は、かかる形状の補
助電極６（及び図示しない距離規定部材７）を示す。

【００５９】図１４において、短冊状の透明電極４Ｗの
上には、該透明電極４Ｗの長辺方向に沿って複数のコの
字部が連結して配設され、かつその開口部が互い違いに
なっている補助電極６Ｗが形成されている。この補助電
極６Ｗの場合、透明電極４Ｗの長辺方向から液晶が流入
可能であるとともに、補助電極６Ｗが全体として導通し
ているので、電極の低抵抗化を損なうこともない。

【００６０】以上の実施形態では、透明電極の上に補助
電極が形成された場合について説明したが、これに限ら
ず、図１５及び図１６に示すように一方の基板上に透明
電極と補助電極が隣接して形成されていてもよい。

【００６１】図１５において、一方の基板２上には、図
の縦方向に延びる線状の補助電極６Ｘが複数本配設さ
れ、隣接する１対の補助電極６Ｘの間には、該補助電極
６Ｘを覆った状態でそれぞれ短冊状の透明電極４Ｘが形
成されている。そして、透明電極４Ｘを介して、補助電
極６Ｘの上に距離規定部材７Ｘが形成され、データ電極
８Ｘは全体として樋状をなしている。又、図１６におい
て、一方の基板２上には、図の縦方向に延びる短冊状の
透明電極４Ｙが複数形成され、その長辺に隣接して線状
の補助電極６Ｙが配設されている。そして、補助電極６
Ｙの上に距離規定部材７Ｙが形成され、データ電極８Ｙ
は全体として樋状をなしている。なお、図１５に示す態
様は、補助電極６Ｘの上にも透明電極４Ｘが形成されて
いることの他は、実質的には透明電極と補助電極が隣接
して配設されているものと同様であるので、これを図１
６に示す態様に含めることとする。そして、図１６に示
す電極を備えた基板は、例えば図１７及び図１８に示す
ようにして製造することができる。なお、図１７及び図
１８は、各工程における液晶装置の各層を、図１６の左
右方向に対応させて示す工程図である。

【００６２】まず、基板２上の全面に金属層６Ａを形成
する（図１７（１））。次に、金属層６Ａの上に適宜フ
ォトリソによりマスクを形成し、金属層６Ａの一部をエ
ッチング除去することにより、線状の補助電極６Ｙを形
成する（図１７（２））。そして、基板２、及び補助電
極６Ｙの上に透明導電性薄膜４Ａを形成し（図１７
（３））、例えばフォトリソにより透明導電性薄膜４Ａ
を部分的に除去し、透明電極４Ｙをパターニング形成す
る（図１７（４））。

【００６３】さらに、図１８（５）に示すように、基板
２、透明電極４Ｙ、及び補助電極６Ｙの上に感光性樹脂
層７Ａを形成し、基板２の裏面側からＵＶ光を照射して
距離規定部材７Ｙをパターニング形成することにより、
樋状の電極を備えた基板２を製造することができる（図
１８（６））。この実施形態においても、樋状の電極の
短辺方向が開口しているので、この部分から液晶を流入
させることが可能である。

【００６４】なお、図１６に示す電極構造において、予
め補助電極６Ｙを例えばはしご状や枡状に形成してお
き、次に、該補助電極６Ｙで囲まれた土手状の領域内に
透明電極の材料を含む液状の透明電極前駆体を注入して
固化させ、透明電極４Ｙを形成することもできる。かか
る場合には、透明電極をフォトリソグラフィによりパタ
ーニングする必要がなく、製造工程やコストの低減を図
ることができるという利点がある。

【００６５】上記液状の透明電極前駆体としては、例え
ば有機インジウムと有機スズをキシロール中に溶かした
ものを用いることができる。具体的には、有機インジウ
ムと有機スズを９７：３の重量比で配合した透明電極の
材料を、キシロール中に８重量％含む溶剤（アデカ塗布
液ＩＴＯ（品番ＩＴＯ−１０３Ｌ、旭電化工業製））を
好適に用いることができる。又、上記液状の透明電極前
駆体を固化させる方法としては特に制限はないが、例え
ばフィルム基板の耐熱温度に応じて１００〜１５０℃程
度に加熱・焼成すれすることで溶剤を揮発させることが
できる。上記液状の透明電極前駆体を注入する方法とし
ては、特開平７−１４６４０６号公報等に開示されてい
るインクジェット法を用いるとよい。インクジェット法
は、印刷装置に用いられているインクジェットプリンタ
を適用したものである。

【００６６】［電子機器］以下、本発明の液晶装置を備
えた電子機器の具体例について説明する。

【００６７】図１９は、携帯電話の一例を示した斜視図
である。

【００６８】この図において、符号１０００は携帯電話
本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用い
た液晶表示部を示している。

【００６９】図２０は、腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。

【００７０】この図において、符号１１００は時計本体
を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた液
晶表示部を示している。

【００７１】図２１は、ワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。

【００７２】この図において、符号１２００は情報処理
装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１
２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気
光学装置を用いた液晶表示部を示している。

【００７３】図１９ないし図２１に示す電子機器は、上
記の液晶装置を用いた液晶表示部を備えたものであるの
で、フィルム基板を用いた液晶装置においても基板の反
りがなくセル厚が一定で、かつ、光抜けや点欠陥などの
画質不良がなく、さらには透過率が高く、しかも電極の
抵抗の低い電子機器を実現することができる。

【００７４】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、プラスチックフィルムから成る基板の表面に形
成された補助電極の上に距離規定部材が配設されている
ので、基板の反りを防止してセル厚を一定の値に保持す
ることができる。特に、透明電極は基板の表面のほぼ全
面にわたって形成され、それと同様に補助電極も基板の
ほぼ全面にくまなく形成されるので、距離規定部材も基
板上に広範囲に分布して配設されることになる。そのた
め、隣接する距離規定部材の間隔が広くなりすぎること
がないので、剛性の低いフィルム基板においても反りが
生じることが防止され、セル厚が基板上の位置によって
不均一になることがない。

【００７５】又、一方の基板と他方の基板との間隔を、
球状粒子に代えて距離規定部材で規定しているので、画
素領域に球状粒子が存在することがなく、光抜けや点欠
陥などの画質不良を防止することができる。特に、補助
電極及び距離規定部材を透明電極における画素領域を囲
むように形成すれば、光抜けや点欠陥などの画質不良を
より効果的に防止することができる。

【００７６】さらに、透明電極の一部に低抵抗な金属か
ら成る補助電極が電気的に接続されているので、電極全
体のシート抵抗を低減させることができ、透明電極自体
のシート抵抗が比較的高くてもよい。そのため、透明電
極の厚みを薄くして透過率を向上させることができ、基
板の反りを生じさせずに透明電極の薄膜化と電極全体の
低抵抗化を共に実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の液晶装置を示す斜視図である。

【図２】 本発明の液晶装置を示す平面図である。

【図３】 図２のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。

【図４】 補助電極及び距離規定部材を示す斜視図であ
る。

【図５】 カラーフィルタ層の配設態様を示す上面図で
ある。

【図６】 他方の基板側の走査電極を示す斜視図であ
る。

【図７】 本発明の液晶装置の他の例を示す斜視図であ
る。

【図８】 図７のＢ−Ｂ’線に沿う断面図である。

【図９】 図７の液晶装置における透明電極及び補助電
極の構成を示す斜視図である。

【図１０】 液晶装置の製造プロセスを示す工程断面図
である。

【図１１】 同工程断面図である。

【図１２】 液晶装置の製造プロセスの他の例を示す工
程断面図である。

【図１３】 補助電極の別の例を示す斜視図である。

【図１４】 補助電極のさらに別の例を示す斜視図であ
る。

【図１５】 一方の基板側のデータ電極の他の構成例を
示す斜視図である。

【図１６】 一方の基板側のデータ電極の別の構成例を
示す斜視図である。

【図１７】 図１６における液晶装置の製造プロセスを
示す工程断面図である。

【図１８】 同工程断面図である。

【図１９】 本発明の液晶装置を備えた電子機器の一例
を示す斜視図である。

【図２０】 同、電子機器の他の例を示す斜視図であ
る。

【図２１】 同、電子機器のさらに他の例を示す斜視図
である。

【符号の説明】

２、２Ｌ、２Ｓ 一方の基板 ４、４Ｌ、４Ｓ、４Ｔ、４Ｕ、４Ｖ、４Ｗ、４Ｘ、４
Ｙ、３４透明電極 ４Ａ 透明電極の材料
を含む溶剤 ６、６Ｌ、６Ｓ、６Ｔ、６Ｕ、６Ｖ、６Ｗ、６Ｘ、６
Ｙ、３６補助電極 ７、７Ｓ、７Ｘ、７Ｙ 距離規定部材 ７Ａ 距離規定部材の
前駆体 ８、８Ｌ、８Ｘ、８Ｙ データ電極 １０、１０Ｌ 青色のカラーフ
ィルタ層 １２、１２Ｌ 緑色のカラーフ
ィルタ層 １４、１４Ｌ 赤色のカラーフ
ィルタ層 ３２、３２Ｓ 他方の基板 ３８ 走査電極 ３８Ｓ 画素電極 ４０、４０Ｓ 液晶 ５０、５０Ｓ 液晶装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｆターム(参考） 2H089 LA09 LA16 NA14 QA04 QA14 TA01 TA02 TA05 TA09 TA12 TA13 2H090 JB03 LA01 LA02 LA04 LA05 LA15 2H092 GA27 HA04 JA24 MA05 MA16 MA37 NA28 PA01 PA03 PA08 PA09 5C094 AA15 AA36 BA02 BA43 CA19 EA04 EA05 EB02 EC04 FB01 GB10 HA03

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の基板と他方の基板との間に液晶を
   挟持し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィ
   ルムから成る液晶装置であって、 前記一方の基板上の前記他方の基板との対向側には透明
   電極が形成され、該透明電極の表面側には部分的に金属
   製の補助電極が形成されてなり、 前記補助電極上の前記他方の基板との対向側には、所定
   厚みの絶縁材料から成り、前記一方の基板と前記他方の
   基板の間隔を保持する柱状の距離規定部材を備えたこと
   を特徴とする液晶装置。
2. 【請求項２】 一方の基板と他方の基板との間に液晶を
   挟持し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィ
   ルムから成る液晶装置であって、 前記一方の基板上の前記他方の基板との対向側には、透
   明電極及び該透明電極に隣接する金属製の補助電極が形
   成されていて、 前記補助電極上の前記他方の基板との対向側には、所定
   厚みの絶縁材料から成り前記他方の基板との距離を保持
   する柱状の距離規定部材を備えたことを特徴とする液晶
   装置。
3. 【請求項３】 前記距離規定部材は感光性樹脂から成
   り、かつ前記補助電極をマスクとして前記一方の基板の
   外側から光を照射することによりパターニングされて成
   ることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
4. 【請求項４】 前記透明電極は、それぞれ基板面方向に
   離間した複数の矩形状電極からなり、 前記補助電極は、前記矩形状電極の周縁上と該矩形状電
   極上の短辺方向に延びる線状の部分とに形成され、前記
   矩形状電極のうち前記補助電極で囲まれた部分が画素領
   域になっていることを特徴とする請求項１又は３に記載
   の液晶装置。
5. 【請求項５】 前記透明電極は、それぞれ基板面方向に
   離間した複数の矩形状電極からなり、 前記補助電極は、前記矩形状電極の長手方向における周
   縁上、又は該矩形状電極の長手方向に延びる端部に隣接
   して形成されていることを特徴とする請求項１ないし３
   のいずれかに記載の液晶装置。
6. 【請求項６】 前記距離規定部材は、前記補助電極上の
   他方の基板との対向側の略全面に形成されていることを
   特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液晶装
   置。
7. 【請求項７】 一方の基板と他方の基板との間に液晶を
   挟持し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィ
   ルムから成る液晶装置の製造方法であって、 前記一方の基板の表面に、透明電極の前駆体層及び金属
   製の補助電極の前駆体層をこの順に形成する工程と、 前記補助電極の前駆体層を選択的にエッチングして所定
   パターンの補助電極を形成する工程と、 前記透明電極の前駆体層のうち、前記他方の基板に配設
   された電極との重なり部分で形成される画素領域及び前
   記補助電極の下側に位置する領域を除いた部分を少なく
   ともエッチングし、その際前記補助電極と電気的に接続
   するようにして透明電極を形成する工程と、 前記透明電極と前記補助電極とが形成された一方の基板
   の表面に、所定厚みの感光性樹脂層から成る距離規定部
   材の前駆体層を形成する工程と、 前記一方の基板の裏面側から光を照射することにより、
   前記補助電極をマスクとして該補助電極の表面に柱状の
   距離規定部材を形成する工程とを備えることを特徴とす
   る液晶装置の製造方法。
8. 【請求項８】 一方の基板と他方の基板との間に液晶を
   挟持し、少なくとも前記一方の基板はプラスチックフィ
   ルムから成る液晶装置の製造方法であって、 前記一方の基板の表面に、透明電極の前駆体層及び金属
   製の補助電極の前駆体層をこの順に形成する工程と、 前記補助電極の前駆体層及び前記補助電極の下側部分を
   除いた透明電極の前駆体層を同時にエッチングし、所定
   パターンの透明電極及び該透明電極と同一パターンを有
   する補助電極の第２前駆体層を形成する工程と、 前記補助電極の第２前駆体層を選択的にエッチングし、
   その際前記透明電極と電気的に接続するようにして補助
   電極を形成する工程と、 前記透明電極と前記補助電極とが形成された前記一方の
   基板の表面に、所定厚みの感光性樹脂層から成る距離規
   定部材の前駆体層を形成する工程と、 前記一方の基板の裏面側から光を照射することにより、
   前記補助電極をマスクとして該補助電極の表面に柱状の
   距離規定部材を形成する工程とを備えることを特徴とす
   る液晶装置の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし６のいずれかに記載の液
   晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。