JP2011044579A - 圧電薄膜素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】圧電薄膜素子1は、基板2上に、第1の電極3、圧電薄膜4及び第2の電極5が形成されており、圧電薄膜4が、K3Li2Nb5O15のタングステンブロンズ結晶のc軸配向膜からなり、好ましくは、第1の電極3は、配向方向が(100)、(001)、(110)、または(101)のいずれかで表わされる電極膜で、好ましくは、第1の電極3は、LaNiO3、SrRuO3、Ir、Pt、Ru、IrO2及びRuO2からなる群から選択された1種または2種以上の材料からなる。
【選択図】図1
Description
基板2としてSi(100)基板を用意した。基板2上に、RFマグネトロンスパッタリング法により、厚みが0.3μmのLaNiO3膜を成膜した。このようにして、Si(100)基板上に、LaNiO3膜が積層された構造、すなわちLaNiO3/Si(100)積層体を得た。この積層体のXRD回折パターンを図2に示す。
2…基板
3…第1の電極
4…圧電薄膜
5…第2の電極
Claims (8)
- 基板と、
前記基板上に形成された第1の電極と、前記第1の電極上に形成された圧電薄膜と、
前記圧電薄膜上に形成された第2の電極とを備え、
前記圧電薄膜が、K3Li2Nb5O15のタングステンブロンズ結晶のc軸配向膜からなる、圧電薄膜素子。 - 前記第1の電極が、LaNiO3、SrRuO3、Ir、Pt、Ru、IrO2及びRuO2からなる群から選択された1種または2種以上の材料からなる、請求項1に記載の圧電薄膜素子。
- 前記第1の電極の配向方向が、(100)、(001)、(110)または(101)である、請求項2に記載の圧電薄膜素子。
- 前記第1の電極が、LaNiO3からなり、(100)方向に配向されている、請求項3に記載の圧電薄膜素子。
- 圧電薄膜素子の製造方法であって、
基板上に第1の電極を成膜する工程と、
前記第1の電極上に圧電薄膜を成膜する工程と、
前記圧電薄膜上に上部電極を形成する工程とを備え、前記圧電薄膜が、K3Li2Nb5O15のタングステンブロンズ結晶のc軸配向膜である、圧電薄膜素子の製造方法。 - 前記第1の電極の形成が、LaNiO3、SrRuO3、Ir、Pt、Ru、IrO2及びRuO2からなる群から選択された1種または2種以上の電極材料を成膜することにより行われる、請求項5に記載の圧電薄膜素子の製造方法。
- 前記第1の電極の配向方向が、(100)、(001)、(110)または(101)である、請求項6に記載の圧電薄膜素子の製造方法。
- 前記第1の電極として、LaNiO3の(100)配向膜を成膜する、請求項7に記載の圧電薄膜素子の製造方法。
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2009
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