JP2011020234A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被研磨物に圧接される研磨層を有する研磨パッドであって、
前記研磨層は、独立気泡11と連続気泡10とを有する発泡体からなり、前記独立気泡11と前記連続気泡10とを併せた気泡全体の体積に占める独立気泡11の体積の割合である独立気泡率が、0.3%以上10%以下である。
【選択図】図1
Description
10 連続気泡
11 独立気泡
Claims (4)
- 被研磨物に圧接される研磨層を有する研磨パッドであって、
前記研磨層は、独立気泡と連続気泡とを有する発泡体からなり、前記独立気泡と前記連続気泡とを併せた気泡全体の体積に占める独立気泡の体積の割合である独立気泡率が、0.3%以上10%以下であることを特徴とする研磨パッド。 - 前記独立気泡率が、X線CT装置による前記研磨層の測定結果に基づいて算出される請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記発泡体が、発泡ポリウレタンである請求項1または2に記載の研磨パッド。
- 前記発泡ポリウレタンが、イソシアネート基含有化合物と活性水素含有化合物と発泡剤としての水とを、混合攪拌して発泡硬化させてなる請求項3に記載の研磨パッド。
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