JP5426469B2 - 研磨パッドおよびガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
Y<5X−150 (1)
(式(1)中、Yは引張貯蔵弾性率E’(MPa)、Xは水に24時間浸漬後のアスカーC硬度値(60秒値))を満たすことを特徴とする。
Y<5X−150 (1)
(式(1)中、Yは引張貯蔵弾性率E’(MPa)、Xは水に24時間浸漬後のアスカーC硬度値(60秒値))を満たすことが肝要であり、引張貯蔵弾性率E’の値が100(MPa)以下であることが好ましい。研磨層を構成するポリウレタン発泡体の、周波数1.6Hzにおける引張貯蔵弾性率E’(30℃)の値が上記式(1)を満たさない場合、粗研磨後の研磨対象物の端部形状をハネ形状にすることが不可能となる。
非接触式表面形状測定機(ZYGO社製NewView6300)を使用し、レンズ倍率2.5倍、ズーム倍率0.5倍の条件でガラス基板の外周部(ガラス基板の端部から0.9mm〜4.5mmの領域)を測定した。ガラス基板の端部から0.9mm、3.5mm、および4.5mmの点を順にA点、B点、およびC点とし、B点とC点とを結ぶ延長線を基準線とする。測定領域内におけるガラス基板の厚み方向の直線と基準線までの距離が最大となる点を測定点とし、その距離をDub Off(nm)とした。端部ハネ形状の場合、この値が正となる。
研磨装置として両面研磨機(スピードファム社製 9B型両面研磨機)を用い、作製した研磨パッドの研磨速度を測定した。研磨条件は以下のとおりである。
加工圧力:100g/cm2
定盤回転数:50rpm
研磨剤:SHOROX A−10(セリア砥粒:昭和電工社製)
スラリー比重:1.06〜1.09(水と研磨剤との混合物)
スラリー供給量:4L/min
投入したガラス基板:オハラ製 TS−10SX
投入したガラス基板の枚数:25枚
研磨速度の算出方法は以下のとおりである。
研磨速度(Å/min)=〔研磨前後のガラス板の質量変化量[g]/(ガラス板密度[g/cm3]×ガラス板の研磨面積[cm2]×研磨時間[min])〕×108
非接触表面形状測定機(ZYGO社製NewView6300)を使用し、レンズ倍率2.5倍、ズーム倍率0.5倍で、バンドパスフィルターを200〜1250μmに設定して、研磨対象物の表面5点のRaを測定し、その平均値(nm)を微小うねりとした。
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡体を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
JIS K−7312に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡体を5cm×5cmの大きさに切り出したものをサンプルとした。22℃±2℃の水に24時間漬け、その後サンプルを取り出し、温度22℃±2℃、湿度65%±5%の環境で測定を行った。測定時にはサンプルを重ね合わせ、厚み10mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーC型硬度計、加圧面高さ:3mm)を用い、加圧面を接触させてから60秒後の硬度を測定した。
動的粘弾性測定装置(メトラー・トレド社製、DMA861e)を用いて測定した。測定条件は以下のとおりである。
周波数:1.6Hz
昇温速度:2.0℃/min
測定温度範囲:0℃〜90℃
サンプル形状:19.5mm(長さ)×3.0mm(幅)×1.0mm(厚み)
使用した各原料は以下のとおりである。
(i)活性水素含有化合物
ポリテトラメチレンエーテルグリコール 「PTMG1000」、官能基数:2、水酸基価:110mgKOH/g、三菱化学社製
ポリテトラメチレンエーテルグリコール 「PTMG2000」、官能基数:2、水酸基価:56mgKOH/g、三菱化学社製
ポリテトラメチレンエーテルグリコール 「PTMG3000」、官能基数:2、水酸基価:37mgKOH/g、三菱化学社製
ポリカプロラクトンポリオール 「プラクセル210N(PCL210N)」、官能基数:2、水酸基価:110mgKOH/g、ダイセル化学社製
ポリカプロラクトンポリオール 「プラクセル220(PCL220)」、官能基数:2、水酸基価:56mgKOH/g、ダイセル化学社製
ポリカプロラクトンポリオール 「プラクセル305(PCL305)」、官能基数:3、水酸基価:305mgKOH/g、ダイセル化学社製
グリセリンのプロピレンオキサイド付加体 「T400」、官能基数:3、水酸基価:405mgKOH/g、三井化学社製
トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加体 「エクセノール400MP」、官能基数:3、水酸基価:410mgKOH/g、旭硝子社製
1,4−ブタンジオール(1,4−BD) 官能基数:2、水酸基価:1247mgKOH/g、ナカライテスク社製
ジエチレングリコール(DEG) 官能基数:2、水酸基価:1057mgKOH/g、ナカライテスク社製
プロピレングリコール(PG)、官能基数2、水酸基価1472mgKOH/g、ナカライテスク社製
トリメチロールプロパン、官能基数3、水酸基価:1254mgKOH/g、ナカライテスク社製
トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加体 「エクセノール890MP」、官能基数:3、水酸基価:865mgKOH/g、旭硝子社製
(ii)整泡剤
「B8443」、ゴールドシュミット社製
「B8465」、ゴールドシュミット社製
「L−5340」、東レダウコーニング社製
(iii)イソシアネート成分
カルボジイミド変性ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、「ミリオネートMTL」、日本ポリウレタン工業社製
ポリメリックMDI、「ミリオネートMR200」、日本ポリウレタン工業社製
(iv)添加剤
ポリエチレングリコール(PEG1000)、官能基数2、水酸基価110mgKOH/g、第一工業製薬社製
ジエチレングリコールモノエチルエーテル(EtODEG) 官能基数:1、水酸基価:418mgKOH/g、ナカライテスク社製
表1〜表4上段に記載の配合比率(数値は、活性水素含有化合物全量を100質量部としたときの質量部)となるように、活性水素含有化合物と、整泡剤と、添加剤と、を容器に入れ、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、イソシアネート成分(数値は、活性水素含有化合物全量を100質量部としたときの質量部)を添加し、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。
2:研磨定盤
3:研磨剤(スラリー)
4:研磨対象物(ガラス基板)
5:支持台(ポリッシングヘッド)
6、7:回転軸
Claims (6)
- 熱硬化性ポリウレタン発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、
前記熱硬化性ポリウレタン発泡体の、水に24時間浸漬後のアスカーC硬度値が60秒値で82以下であり、かつ周波数1.6Hzにおける引張貯蔵弾性率E’(30℃)の値が下記式(1):
Y<5X−150 (1)
(式(1)中、Yは引張貯蔵弾性率E’(MPa)、Xは水に24時間浸漬後のアスカーC硬度値(60秒値))を満たすことを特徴とする研磨パッド。 - 前記熱硬化性ポリウレタン発泡体が、官能基数が2であり、かつ水酸基価が1100〜1400mgKOH/gであるポリオール化合物を5〜20質量%、および官能基数が3であり、かつ水酸基価が200〜600mgKOHであるポリオール化合物を10〜40質量%含有する活性水素含有化合物と、イソシアネート成分と、を原料成分として含有する請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記熱硬化性ポリウレタン発泡体の、水に24時間浸漬後のアスカーC硬度値が、60秒値で75以下である請求項1または2に記載の研磨パッド。
- 周波数1.6Hzにおける引張貯蔵弾性率E’(30℃)の値が、100(MPa)以下である請求項1〜3のいずれかに記載の研磨パッド。
- 前記熱硬化性ポリウレタン発泡体が、平均気泡径20〜300μmの略球状の連続気泡を有する請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッド。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の研磨パッドを用いてガラス基板の表面を研磨する工程を含むガラス基板の製造方法。
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