JP2011018506A - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011018506A JP2011018506A JP2009161532A JP2009161532A JP2011018506A JP 2011018506 A JP2011018506 A JP 2011018506A JP 2009161532 A JP2009161532 A JP 2009161532A JP 2009161532 A JP2009161532 A JP 2009161532A JP 2011018506 A JP2011018506 A JP 2011018506A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- diaphragm
- tip
- sample chamber
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/023—Means for mechanically adjusting components not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/188—Differential pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24475—Scattered electron detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2602—Details
- H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】基端側に位置する電子線源から放出された電子線5を先端側から放出する電子線鏡筒1と、電子線鏡筒1の先端側に接続された試料室2と、試料室2内において、電子線鏡筒1の先端部に着脱可能に配置される絞り部材とを備えた電子線装置において、電子線5の進行方向に沿う所定の平面に沿って絞り部材を回動動作させ、これにより電子線鏡筒1の先端部に対して絞り部材を着脱可能とするための回動機構20を設ける。
【選択図】図2
Description
絞り8の開口8aは、試料室2内の低真空雰囲気が、電子線通過路4内の高真空雰囲気に対して殆ど影響を与えることのないような微小な開口となっているが、電子線5は開口8aを通過可能である。
Claims (7)
- 基端側に位置する電子線源から放出された電子線を先端側から放出する電子線鏡筒と、電子線鏡筒の先端側に接続された試料室と、試料室内において、電子線鏡筒の先端部に着脱可能に配置される絞り部材とを備えた電子線装置であって、電子線の進行方向に沿う所定の平面に沿って絞り部材を回動動作させることにより、電子線鏡筒の先端部に対して絞り部材が着脱されることを特徴とする電子線装置。
- 基端側に位置する電子線源から放出された電子線を先端側から放出する電子線鏡筒と、電子線鏡筒の先端側に接続された試料室と、試料室内において、電子線鏡筒の先端部に着脱可能に配置される絞り部材とを備えた電子線装置であって、電子線の進行方向に沿う所定の平面に沿って絞り部材を回動動作させ、これにより電子線鏡筒の先端部に対して絞り部材を着脱可能とするための回動機構を具備することを特徴とする電子線装置。
- 回動機構は、絞り部材の回動軸に固定された歯車と、該歯車に係合するウォームギアが取り付けられたモータとを備えることを特徴とする請求項2記載の電子線装置。
- 絞り部材の基端部に回動軸が設けられ、先端部が二股構造とされた支持部材の該先端部の間隙(二股間)に絞り部材の基端部が位置するとともに、該回転軸が支持部材の先端部を貫通していることを特徴とする請求項3記載の電子線装置。
- 絞り部材は、絞りを載置するための突起部を備えることを特徴とする請求項1乃至4何れか記載の電子線装置。
- 絞り部材に備えられた突起部の側面は、テーパ面となっていることを特徴とする請求項5記載の電子線装置。
- 絞り部材における絞りが載置される側に対する反対側の面には、試料から発生する被検出電子を検出するための電子検出器が設けられていることを特徴とする請求項1乃至6何れか記載の電子線装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009161532A JP5351634B2 (ja) | 2009-07-08 | 2009-07-08 | 電子線装置 |
US12/813,064 US8148684B2 (en) | 2009-07-08 | 2010-06-10 | Electron beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009161532A JP5351634B2 (ja) | 2009-07-08 | 2009-07-08 | 電子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011018506A true JP2011018506A (ja) | 2011-01-27 |
JP5351634B2 JP5351634B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=43426775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009161532A Active JP5351634B2 (ja) | 2009-07-08 | 2009-07-08 | 電子線装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8148684B2 (ja) |
JP (1) | JP5351634B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9741528B2 (en) | 2014-05-28 | 2017-08-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module |
US10068744B2 (en) | 2015-12-01 | 2018-09-04 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus for through-the lens detection of particles |
JP2023503434A (ja) * | 2019-11-19 | 2023-01-30 | アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー | 荷電粒子結像システム |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018147764A (ja) * | 2017-03-07 | 2018-09-20 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡 |
JP6900026B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2021-07-07 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
JP6913344B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2021-08-04 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
KR102664774B1 (ko) | 2017-12-13 | 2024-05-10 | 어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드 | 하전 입자 빔 소스 및 하전 입자 빔 소스를 조립하기 위한 방법 |
IT201800007349A1 (it) | 2018-07-19 | 2020-01-19 | Apparecchio multistadio per vuoto con separazione degli stadi controllata da un attuatore in lega a memoria di forma | |
CN113707522B (zh) * | 2021-08-26 | 2022-07-08 | 北京中科科仪股份有限公司 | 固定装置、扫描电镜和电子束曝光机 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02262227A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-25 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH06208839A (ja) * | 1993-01-12 | 1994-07-26 | Topcon Corp | 電子顕微鏡付帯装置の連結装置 |
JPH0917370A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Jeol Ltd | コンタミ防止装置 |
JPH09320504A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-12 | Jeol Ltd | 低真空走査電子顕微鏡 |
JPH11185685A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-09 | Jeol Ltd | 真空チャンバーのゲートバルブ |
JP2008010177A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 環境制御型電子線装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7511279B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-03-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7229742B2 (en) * | 2004-04-14 | 2007-06-12 | Micron Technology, Inc. | Methods for improving angled line feature accuracy and throughput using electron beam lithography and electron beam lithography system |
-
2009
- 2009-07-08 JP JP2009161532A patent/JP5351634B2/ja active Active
-
2010
- 2010-06-10 US US12/813,064 patent/US8148684B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02262227A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-25 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH06208839A (ja) * | 1993-01-12 | 1994-07-26 | Topcon Corp | 電子顕微鏡付帯装置の連結装置 |
JPH0917370A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Jeol Ltd | コンタミ防止装置 |
JPH09320504A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-12 | Jeol Ltd | 低真空走査電子顕微鏡 |
JPH11185685A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-09 | Jeol Ltd | 真空チャンバーのゲートバルブ |
JP2008010177A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 環境制御型電子線装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9741528B2 (en) | 2014-05-28 | 2017-08-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus having a selectively positionable differential pressure module |
US10068744B2 (en) | 2015-12-01 | 2018-09-04 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus for through-the lens detection of particles |
US10522321B2 (en) | 2015-12-01 | 2019-12-31 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus for through-the-lens detection of particles |
US10861670B2 (en) | 2015-12-01 | 2020-12-08 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus for through-the-lens detection of particles |
US11276547B2 (en) | 2015-12-01 | 2022-03-15 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Charged particle optical apparatus for through-the-lens detection of particles |
JP2023503434A (ja) * | 2019-11-19 | 2023-01-30 | アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー | 荷電粒子結像システム |
JP7437501B2 (ja) | 2019-11-19 | 2024-02-22 | アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー | 荷電粒子結像システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5351634B2 (ja) | 2013-11-27 |
US8148684B2 (en) | 2012-04-03 |
US20110006209A1 (en) | 2011-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5351634B2 (ja) | 電子線装置 | |
US20160163508A1 (en) | Ion milling device | |
US8247785B2 (en) | Particle beam device and method for use in a particle beam device | |
KR102599645B1 (ko) | 이중 빔 하전 입자 현미경에서의 시료 준비 및 검사 | |
KR102646113B1 (ko) | 집속 이온 빔 장치 | |
US9190242B2 (en) | Particle beam device having a sample holder | |
CN108666194B (zh) | 试样保持器具、部件安装用器具以及带电粒子束装置 | |
US20150214004A1 (en) | Method for preparing and analyzing an object as well as particle beam device for performing the method | |
JP2019160575A (ja) | イオンミリング装置及び試料ホルダー | |
JP2018200815A (ja) | イオンミリング装置及び試料ホルダー | |
JP6533312B2 (ja) | 試料ホルダ、イオンミリング装置、試料加工方法、試料観察方法、及び試料加工・観察方法 | |
JP4654216B2 (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP5009126B2 (ja) | アトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置 | |
JP6140298B2 (ja) | 試料ホルダ及び真空分析装置 | |
JP2007115666A (ja) | 試料ホルダー | |
JP4865421B2 (ja) | 環境制御型電子線装置 | |
JP4581824B2 (ja) | 粒子線顕微鏡、及び真空分析装置用部材移動機構 | |
JP5677777B2 (ja) | 集光器装置 | |
JP2012155870A (ja) | 試料ホルダー及び試料ホルダー駆動装置 | |
JP2016066553A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP6427601B2 (ja) | イオンミリングのマスク位置調整方法、電子顕微鏡およびマスク調整装置 | |
JP2012146582A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP6316453B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置による観察方法 | |
JP5367628B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2013165002A (ja) | 荷電粒子線装置、試料マスクユニット、および変換部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130717 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130823 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5351634 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |