JP2011003897A - リソグラフィ装置、該装置を制御する方法及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、該装置を制御する方法及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】パターン付放射ビームをテーブルによって支持された基板上に誘導するように構成された投影システムと、投影システムとテーブル、又は基板、あるいはその両方との間に画定された空間に液浸液を供給し閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムと、移動方向転換の間の距離に基づいて液体ハンドリングに対するテーブルの移動速度を制御するコントローラとを含む液浸リソグラフィ装置が開示される。
【選択図】図7
Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (15)
- パターン付放射ビームをテーブルによって支持された基板上に誘導する投影システムと、
前記投影システムと前記テーブル、又は前記基板、あるいはその両方によって構成される対向面との間に画定された空間に液浸液を供給し閉じ込める液体ハンドリングシステムと、
前記液体ハンドリングシステムに対する前記テーブルの移動を制御するコントローラであって、移動方向転換の間の距離に基づいて移動速度を変更するように構成されたコントローラと、
を備える液浸リソグラフィ装置。 - 前記コントローラが、前記液体ハンドリングシステムに対する前記テーブルの移動方向に基づいて前記移動速度を変更する、請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記移動速度を最大許容速度まで変更する、請求項1又は2に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、液浸液が前記基板、又は前記テーブル、あるいはその両方となす接触角に基づいて前記移動速度を変更する、請求項1から3のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記基板及び/又はテーブルの所定の領域が前記液体ハンドリングシステムの下にある時の前記液体ハンドリングシステムの下の前記テーブル及び/又は前記基板の経路内の方向転換の間の前記距離に基づいて前記移動速度の制御を無効にする構成される、請求項1から4のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、さらなる条件が満たされた時に限り、移動方向転換の間の前記距離に基づいて前記移動速度を変更する、請求項1から5のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 移動方向転換の間の前記距離が、前記移動方向が特定の方向の特定の角度範囲外にある経路内の位置に端部がある経路の部分の端部の2つの地点間の距離として計算される、請求項1から6のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記特定の方向が、前記経路の直線部分の方向である、請求項7に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記距離が、直線部分の方向に前記経路に沿って測定され、又は前記距離が、直線部分の長さであり、又は前記端部間の距離である、請求項7又は8に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記特定の角度範囲が、前記移動方向が前記部分の端部で方向転換する前記角度に依存する、請求項7から9のいずれか1項に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 液浸リソグラフィ装置の液体ハンドリング構造の下のテーブルの経路を選択する方法であって、
前記液体ハンドリング構造の下を通過しなければならない前記テーブルの複数の領域を決定するステップと、
前記液体ハンドリング構造の下の前記テーブルの複数の可能な移動方向を決定するステップと、
前記可能な方向のうちの1つの方向に前記液体ハンドリング構造の下を通過しなければならない前記テーブルの1つ又は複数の領域の上の移動を含む前記領域間の複数の可能な経路を決定するステップと、
前記経路内の方向転換の間の距離に基づいて決定された最大許容移動速度に基づいて前記複数の可能な経路の各々の合計時間を計算するステップと、
前記計算された合計時間の比較に基づいて前記複数の可能な経路のうちの1つを選択するステップと、
を含む方法。 - 液浸リソグラフィ装置の液体ハンドリング構造の下のテーブルの経路を選択するコンピュータプログラムであって、プロセッサによって処理されると、前記プロセッサに、請求項11の前記方法を実行させるコンピュータプログラム。
- 請求項12の前記プログラムを内部に記録したコンピュータ可読記憶媒体。
- リソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法であって、
投影システムから液体を通してテーブルによって支持された基板上にパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記投影システムに対して請求項11の前記方法によって選択された経路に沿って前記テーブルを移動させるステップと、
を含む方法。 - リソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法であって、
投影システムとテーブル、前記テーブルによって支持される基板、又はその両方の対向面との間の空間に閉じ込め構造によって液体を閉じ込めるステップと、
投影システムから液体を通して前記基板上にパターン付放射ビームを投影するステップと、
前記投影システムに対して前記対向面を経路に沿って移動させるステップであって、前記対向面と前記閉じ込め構造との間の前記液体の液体メニスカスの未臨界速度へ向けて前記投影システムに対する前記対向面の前記移動速度を増加させることで少なくとも部分的に前記経路内の方向転換の間の距離が選択されるステップと、
を含む方法。
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