JP2011003809A - 半導体ウエハのプリアライメント方法及びプリアライメント用プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のプリアライメント方法は、ウエハ搬送機構5を用いてカセットCからプリアライメント機構6の回転体6A上へ移載した半導体ウエハWを回転させる第1の工程と、プリアライメント機構6の光学センサ6C及び制御装置3を用いて回転体6Aの軸芯と半導体ウエハWの中心との偏芯量を演算し、演算値を保存する第2の工程と、演算値が規定値を超える時には、ウエハ搬送機構5を用いて半導体ウエハWの回転体6A上での位置ズレを演算値の示す偏芯量だけ補正する第3の工程と、所定枚数以降の半導体ウエハWをプリアライメントする時には、それまでに蓄積された各半導体ウエハWの演算値に基づいて半導体ウエハWの偏芯量を予測する第4の工程と、を備えている。
【選択図】図3
Description
5 ウエハ搬送機構
6 プリアライメント機構
6A 回転体
6C 光学センサ
W 半導体ウエハ
Claims (6)
- 制御装置の制御下で、半導体ウエハの処理に先立って、搬送機構及びプリアライメント機構を用いて上記半導体ウエハのプリアライメントを行うプリアライメント方法において、
上記搬送機構を用いて収納部から上記プリアライメント機構の回転体上へ移載した上記半導体ウエハを回転させる第1の工程と、
上記プリアライメント機構のセンサを用いて検出された上記回転体の軸芯と上記半導体ウエハの中心との偏芯量を演算し、その演算値を保存する第2の工程と、
上記演算値が所定値を超える時には、上記搬送機構を用いて上記半導体ウエハの上記回転体上での位置ズレを上記演算値の示す偏芯量だけ補正する第3の工程と、
後続の半導体ウエハをプリアライメントする時には、後続の半導体ウエハまでに蓄積された上記演算値に基づいて上記偏芯量を予測する第4の工程と、を備えた
ことを特徴とするプリアライメント方法。 - 上記搬送機構を用いて上記予測値を加味して上記後続の半導体ウエハを上記収納部から上記プリアライメント機構の回転体上へ移載することを特徴とする請求項1に記載のプリアライメント方法。
- 上記後続の半導体ウエハが所定枚数以降の半導体ウエハであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプリアライメント方法。
- コンピュータを駆動させて、半導体ウエハの処理に先立って、搬送機構及びプリアライメント機構を用いて上記半導体ウエハのプリアライメントを実行するプログラムであって、
上記コンピュータを駆動させて、
上記搬送機構を用いて収納部から上記プリアライメント機構の回転体上へ移載した上記半導体ウエハを回転させる第1の工程と、
上記プリアライメント機構のセンサを用いて検出された上記回転体の軸芯と上記半導体ウエハの中心との偏芯量を演算し、その演算値を保存する第2の工程と、
上記演算値が所定値を超える時には、上記搬送機構を用いて上記半導体ウエハの上記回転体上での位置ズレを上記演算値の示す偏芯量だけ補正する第3の工程と、
後続の半導体ウエハをプリアライメントする時には、後続の半導体ウエハまでに蓄積された上記演算値に基づいて上記偏芯量を予測する第4の工程と、を実行する
ことを特徴とするプリアライメント用プログラム。 - 上記搬送機構を用いて上記予測値を加味して上記後続の半導体ウエハを上記収納部から上記プリアライメント機構の回転体上へ移載することを特徴とする請求項4に記載のプリアライメント用プログラム。
- 上記後続の半導体ウエハが所定枚数以降の半導体ウエハであることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のプリアライメント用プログラム。
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US12/817,876 US8319510B2 (en) | 2009-06-19 | 2010-06-17 | Pre-alignment method of semiconductor wafer and computer-readable recording medium having pre-alignment program recorded thereon |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016192484A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 株式会社東京精密 | プローバ |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5308948B2 (ja) * | 2009-07-23 | 2013-10-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体デバイスの検査装置及び方法 |
US9299598B2 (en) | 2013-12-23 | 2016-03-29 | Lam Research Corp. | Robot with integrated aligner |
WO2016154539A1 (en) * | 2015-03-26 | 2016-09-29 | Doug Carson & Associates, Inc. | Substrate alignment through detection of rotating tming pattern |
US9953806B1 (en) * | 2015-03-26 | 2018-04-24 | Doug Carson & Associates, Inc. | Substrate alignment detection using circumferentially extending timing pattern |
US10134624B2 (en) | 2015-03-26 | 2018-11-20 | Doug Carson & Associates, Inc. | Substrate alignment detection using circumferentially extending timing pattern |
CN109559981B (zh) * | 2018-09-26 | 2020-11-20 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 一种解决高透光率晶圆在光刻对位中无法识别的方法 |
JP7212558B2 (ja) * | 2019-03-15 | 2023-01-25 | キヤノン株式会社 | 基板処理装置、決定方法及び物品の製造方法 |
JP2022184029A (ja) * | 2021-05-31 | 2022-12-13 | 東京エレクトロン株式会社 | アライメント方法及び検査装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63260022A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-27 | Nikon Corp | アライメント装置 |
JPH1064979A (ja) * | 1996-08-19 | 1998-03-06 | Nikon Corp | 光学式プリアライメント装置および該プリアライメント装置を備えた露光装置 |
JPH10199784A (ja) * | 1997-01-06 | 1998-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント補正方法及び半導体装置 |
JPH10256350A (ja) * | 1997-03-06 | 1998-09-25 | Toshiba Corp | 半導体製造方法及びその装置 |
JPH118285A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-12 | Canon Inc | 基板処理装置およびデバイス製造方法 |
JPH11102851A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント補正方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2002151575A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-24 | Daihen Corp | ウェハアライナ装置 |
JP2005072444A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 部品実装装置及び部品実装方法 |
JP2006071395A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Nikon Corp | 較正方法及び位置合わせ方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777485A (en) * | 1995-03-20 | 1998-07-07 | Tokyo Electron Limited | Probe method and apparatus with improved probe contact |
TW315504B (ja) * | 1995-03-20 | 1997-09-11 | Tokyo Electron Co Ltd | |
KR100405398B1 (ko) * | 1995-07-14 | 2004-03-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판의위치결정방법 |
US6008636A (en) * | 1997-09-30 | 1999-12-28 | Motorola, Inc. | Test system with robot arm for delivering a device under test |
US6111421A (en) * | 1997-10-20 | 2000-08-29 | Tokyo Electron Limited | Probe method and apparatus for inspecting an object |
KR100292612B1 (ko) * | 1997-12-08 | 2001-08-07 | 윤종용 | 반도체 웨이퍼 정렬시스템 및 이를 이용하는 웨이퍼 정렬방법 |
JP2000306971A (ja) * | 1999-04-21 | 2000-11-02 | Canon Inc | 半導体製造装置、ポッド装着方法および半導体デバイス生産方法 |
JP2003188228A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-04 | Nikon Corp | 基板搬送方法 |
JP2003247808A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | ガラス基板等のアライメント方法 |
US7129694B2 (en) * | 2002-05-23 | 2006-10-31 | Applied Materials, Inc. | Large substrate test system |
JP4391744B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2009-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 移動式プローブカード搬送装置、プローブ装置及びプローブ装置へのプローブカードの搬送方法 |
JP2005101584A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-04-14 | Suss Microtec Test Systems Gmbh | 基板を検査する装置 |
JP4647197B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2011-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の搬送方法及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 |
US7221175B2 (en) * | 2005-05-11 | 2007-05-22 | Stats Chippac Ltd. | Self-aligning docking system for electronic device testing |
JP4589853B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2010-12-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送システム及び基板搬送方法 |
JP4809744B2 (ja) | 2006-09-19 | 2011-11-09 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハの中心検出方法及びその方法を記録した記録媒体 |
DE102007011700B4 (de) * | 2007-03-09 | 2009-03-26 | Hubertus Heigl | Handhabungsvorrichtung zum Positionieren eines Testkopfs, insbesondere an einer Prüfeinrichtung |
JP5120018B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
ITUD20070239A1 (it) * | 2007-12-18 | 2009-06-19 | Baccini S P A | Dispositivo di collaudo per collaudare piastre per circuiti elettronici e relativo procedimento |
-
2009
- 2009-06-19 JP JP2009147059A patent/JP5384219B2/ja active Active
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2010
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63260022A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-27 | Nikon Corp | アライメント装置 |
JPH1064979A (ja) * | 1996-08-19 | 1998-03-06 | Nikon Corp | 光学式プリアライメント装置および該プリアライメント装置を備えた露光装置 |
JPH10199784A (ja) * | 1997-01-06 | 1998-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント補正方法及び半導体装置 |
JPH10256350A (ja) * | 1997-03-06 | 1998-09-25 | Toshiba Corp | 半導体製造方法及びその装置 |
JPH118285A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-12 | Canon Inc | 基板処理装置およびデバイス製造方法 |
JPH11102851A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント補正方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2002151575A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-24 | Daihen Corp | ウェハアライナ装置 |
JP2005072444A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 部品実装装置及び部品実装方法 |
JP2006071395A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Nikon Corp | 較正方法及び位置合わせ方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016192484A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 株式会社東京精密 | プローバ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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