JP2011003369A - 電子顕微鏡及びその試料ホルダ - Google Patents
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- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 295
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 74
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 6
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005430 electron energy loss spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000619 electron energy-loss spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical compound [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/2008—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated specially adapted for studying electrical or magnetical properties of objects
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24564—Measurements of electric or magnetic variables, e.g. voltage, current, frequency
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Abstract
【解決手段】試料を保持可能な試料ホルダにおいて、試料に接触する複数の探針と、当該複数の探針を移動する微動機構と、前記微動機構と接続された駆動体を備え、前記複数の微動機構は、前記複数の探針を独立して移動し、前記駆動体は前記複数の探針を同時に移動することを特徴とする試料ホルダを提供する。
【選択図】 図2
Description
2 電子源
3 電子線
4 収束レンズ
5 試料ホルダ
6 対物レンズ
7 結像レンズ系
8 電子分光器
9 蛍光板
10 磁場セクタ
11,12 多重極子レンズ
13 二次元検出器
14 画像表示装置
15 電気測定装置
16 微動制御システム
17 試料
20 ドリフトチューブ
21 ピポット
22 試料押さえねじ
23 配線
24 探針
25 探針押さえ板
26 試料押さえ板
27 微動機構
28 探針押さえねじ
29 外部Oリング
31 探針支持体
32 試料ホルダ内部Oリング
33 コネクタ
34 試料ホルダ筒
35 粗動機構
36 ストッパー
38 駆動体
41 配線通過孔
42 圧縮スプリング
Claims (20)
- 試料を保持可能な試料ホルダにおいて、
試料に接触する複数の探針と、
当該複数の探針を移動する微動機構と、
前記微動機構と接続された駆動体を備え、
前記複数の微動機構は、前記複数の探針を独立して移動し、
前記駆動体は前記複数の探針を同時に移動すること
を特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記微動機構は、前記複数の探針ごとに設けられ、当該探針を独立に移動すること
を特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記探針は、荷電粒子線装置内で移動可能であることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記探針及び微動機構が配置される領域の真空を保持する保持機構が備えられていることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項4の試料ホルダにおいて、
前記駆動体と試料ホルダの内壁に接触するOリングを備え、前記探針及び前記微動機構が配置される領域の真空を保持することを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項2の試料ホルダにおいて、
前記微動機構は圧電素子で構成されていることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記微動機構を制御する微動制御システムを有することを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記探針は電気測定装置に接続され、前記駆動体及び微動機構の移動により電子顕微鏡試料中の任意位置箇所に接触し、電子顕微鏡用試料中の任意箇所の電気測定が可能なことを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
前記探針は、試料ホルダの挿入方向を含んだ三軸方向に前記探針を移動可能であることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項1の試料ホルダにおいて、
当該試料ホルダは、荷電粒子線装置に挿入し、当該荷電粒子線装置内で前記試料を観察可能であることを特徴とする試料ホルダ。 - 試料を保持可能な試料ホルダにおいて、
試料に接触する複数の探針と、
当該複数の探針の少なくとも1つの探針を他の探針と独立して移動する第1の微動機構と、
前記第1の微動機構と接続された駆動体と、
当該駆動部を移動する第2の微動機構を備え、
前記駆動体は前記複数の探針を同時に移動すること
を特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記複数の短針のうち、少なくとも1つの探針に第1の微動機構を備えたことを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記第1及び第2の微動機構は圧電素子で構成されていることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記探針は、荷電粒子線装置内で移動可能であることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記探針及び第1の微動機構が配置される領域の真空を保持する保持機構が備えられていることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項15の試料ホルダにおいて、
前記駆動体と試料ホルダの内壁に接触するOリングを備え、前記探針及び第1の微動機構が配置される領域の真空を保持することを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記第1及び第2の微動機構を制御する微動制御システムを有することを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記探針は電気測定装置に接続され、前記駆動体及び前記第1及び第2の微動機構の移動により電子顕微鏡試料中の任意位置箇所に接触し、電子顕微鏡用試料中の任意箇所の電気測定が可能なことを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
前記探針は、試料ホルダの挿入方向を含んだ三軸方向に前記探針を移動可能であることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項11の試料ホルダにおいて、
当該試料ホルダは、荷電粒子線装置に挿入し、当該荷電粒子線装置内で前記試料を観察可能であることを特徴とする試料ホルダ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009144874A JP5094788B2 (ja) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 電子顕微鏡及びその試料ホルダ |
US12/817,725 US8338798B2 (en) | 2009-06-18 | 2010-06-17 | Sample holder for electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009144874A JP5094788B2 (ja) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 電子顕微鏡及びその試料ホルダ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011003369A true JP2011003369A (ja) | 2011-01-06 |
JP5094788B2 JP5094788B2 (ja) | 2012-12-12 |
Family
ID=43353465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009144874A Expired - Fee Related JP5094788B2 (ja) | 2009-06-18 | 2009-06-18 | 電子顕微鏡及びその試料ホルダ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8338798B2 (ja) |
JP (1) | JP5094788B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5094788B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2012-12-12 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡及びその試料ホルダ |
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- 2009-06-18 JP JP2009144874A patent/JP5094788B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 2010-06-17 US US12/817,725 patent/US8338798B2/en not_active Expired - Fee Related
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US20100320396A1 (en) | 2010-12-23 |
JP5094788B2 (ja) | 2012-12-12 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150928 Year of fee payment: 3 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |