JP2011000865A - 保護層転写シート - Google Patents
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Abstract
【課題】印画物に確実にセミグロス感を付与するとともに耐久性に優れた保護層転写シートを提供する。
【解決手段】基材シート1と転写層11とからなる保護層転写シートであって、転写層は、基材シート側から、保護層2、凹凸層3、ヒートシール層4とがこの順で積層されてなり、凹凸層は、ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて被転写体上に転写層を転写した際に、保護層表面に微細凹凸部を発現させる。
【選択図】図1
【解決手段】基材シート1と転写層11とからなる保護層転写シートであって、転写層は、基材シート側から、保護層2、凹凸層3、ヒートシール層4とがこの順で積層されてなり、凹凸層は、ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて被転写体上に転写層を転写した際に、保護層表面に微細凹凸部を発現させる。
【選択図】図1
Description
本発明は、保護層転写シートに関し、さらに詳しくは印画物に耐久性と、優れたセミグロス感を付与することのできる保護層転写シートに関する。
従来から、昇華性染料を色材とする色材層をポリエステルフィルム等の基材シートに担持させた熱転写シートと、被転写材、例えば、紙やプラスチックフィルム等に受容層を形成した受像シートを重ね合わせ、昇華染料を受像シートに転写することで画像を得る昇華転写方式が知られている。このような昇華転写方式によれば、熱転写シートに印加するエネルギー量によってドット単位で染料の移行量を制御出来るため濃度階調が可能であることから、画像が非常に鮮明であり、且つ透明性、中間調の色再現性、階調性に優れフルカラー写真画像に匹敵する高品質の印画物を形成することができる。このような特徴を有する昇華転写方式は、上述の優れた性能とともに、今日のマルチメディアに関連したさまざまなハ−ドおよびソフトの発達により、コンピュ−タグラフィックス、衛生通信による静止画像そしてCDROMその他に代表されるデジタル画像およびビデオ等のアナログ画像のフルカラ−ハ−ドコピ−システムとして、急速にその市場を拡大している。
しかしながら感熱昇華転写方式は、上記の如く階調性画像の形成に優れるものの、形成された印画物は通常の印刷インキによるものとは異なり、色材が顔料でなく比較的低分子量の染料であり且つビヒクルが存在しないため、耐光性、耐候性、耐摩耗性等の耐久性に劣ると言う欠点を有する。そこで、近時、昇華染料の熱転写によって得られた印画物上に、熱転写性樹脂層を有する保護層熱転写シートを重ね合わせ、サーマルヘッドや加熱ロール等を用いて熱転写性樹脂層を転写させ、印画物上に保護層を形成する方法が知られている。このように画像上に保護層を形成することで画像の耐久性を向上させることができる。
また、表面に保護層を有する印画物は、その用途によっては表面が高光沢性を有するものでなく、コート紙の様な非光沢性(セミグロス感)の風合の印画物を得たいとの市場の根強い要望がある。ここで印画物にセミグロス感を付与させる方法として、例えば特許文献1には、熱転写時の加熱量を可変制御して保護層の表面光沢量を可変させることについての記載がされている。また、特許文献2には、基材上に離型層、保護層を面順次に積層した保護層熱転写シートにおいて、離型層にフィラー(粒子)を含有させることで、離型層の上に積層される保護層を凹凸にさせることについての記載がされている。また、特許文献3には、熱転写後の印画物を表面が凹凸形状を有するエンボス版を型押しすることで印画物表面にセミグロス感を付与することについて記載がされている。
しかしながら、特許文献1に記載の方法では、印画物表面に深い凹凸を形成することができず所望のセミグロス感を付与することができない。また、特許文献2に記載の方法では色材受容層表面にフィラーが存在することから、印画物にざらつきや濃度むら、白抜けが生じてしまう。また、特許文献3によれば、エンボス板の凹凸パターンによっては印画物に一定のセミグロス感を付与することができるものの、印画物形成後別途印画物表面(保護層)に凹凸を設けねばならず製造コストの点から好ましくない。特に、保護層にエンボス版を押しあてることにより保護層表面に凹凸を形成した場合には、保護層の厚さにばらつきが生じ保護層の機能である耐久性を著しく低下させる恐れがある。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、印画物に確実にセミグロス感を付与するとともに耐久性に優れた保護層転写シートを提供することを主たる課題とする。
上記課題を解決するための本発明は、基材シートと転写層とからなる保護層転写シートであって、前記転写層は、基材シート側から、保護層、凹凸層、ヒートシール層とがこの順で積層されてなり、前記凹凸層は、前記ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて当該被転写体上に前記転写層を転写した際に、前記保護層表面に微細凹凸部が発現することを特徴とする。
また、前記凹凸層が有する前記凹凸部の十点平均粗さをRzとした場合に、Rzが
2μm以上10μm以下であってもよい。また、前記凹凸層が、少なくともセルロース系樹脂とアクリル樹脂を含んでいてもよい。
2μm以上10μm以下であってもよい。また、前記凹凸層が、少なくともセルロース系樹脂とアクリル樹脂を含んでいてもよい。
また、前記転写層が前記基材シートの表面の一部に形成され、当該基材シートの表面に当該転写層と面順次に1色以上の昇華性染料層又は1色以上の熱溶融型色彩層である着色熱転写層が形成されていてもよい。
また、前記基材シートの他方の面に、耐熱潤滑層が設けられていてもよい。
本発明の保護層転写シートによれば、別途、保護層表面に凹凸を設ける工程を行うことなく印画物に確実にセミグロス感を付与することができるとともに、保護層が転写された印画物の耐久性を低下させることもない。
以下に、本発明の保護層転写シートについて図面を用いて具体的に説明する。図1に示すように本発明の保護層転写シート10は、基材シート1と、基材シート1側から、保護層2、凹凸層3、ヒートシール層4とがこの順で積層された転写層11とから形成されている。ここで、本発明の保護層転写シートは、被転写体20と保護層転写シート10とを重ね合わせて当該被転写体20上に前記転写層11を転写した際に、保護層2の表面に微細凹凸部が発現するように凹凸層3の表面に予め微細凹凸部が設けられている点に特徴を有する。
以下、保護層転写シートを構成する各層について図1を用いてさらに詳細に説明する。
(基材シート)
基材シート1は本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり、保護層2を保持するために設けられる。基材シートの材料については特に限定されないが、転写層11を被転写体20上に転写する際に加えられる熱に耐え、取り扱い上支障のない機械的特性を有することが望ましい。このような基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。また、基材シート1の厚さは、その強度及び耐熱性が適切になるように材料に応じて適宜設定することができ、2.5〜100μm程度が一般的である。
基材シート1は本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり、保護層2を保持するために設けられる。基材シートの材料については特に限定されないが、転写層11を被転写体20上に転写する際に加えられる熱に耐え、取り扱い上支障のない機械的特性を有することが望ましい。このような基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン・エチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等の各種プラスチックフィルムまたはシートを挙げることができる。また、基材シート1の厚さは、その強度及び耐熱性が適切になるように材料に応じて適宜設定することができ、2.5〜100μm程度が一般的である。
(保護層)
図1に示すように基材シート1上(図1に示す場合には基材シート1の上面)には基材シート1から剥離可能な保護層2が形成されている。保護層2は、本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり、被転写体20上に転写層11が転写されることにより形成される印画物30の耐久性を向上させるとともに、転写後に微細な凹凸部が発現することで印画物30にセミグロス感を付与するために設けられる。
図1に示すように基材シート1上(図1に示す場合には基材シート1の上面)には基材シート1から剥離可能な保護層2が形成されている。保護層2は、本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり、被転写体20上に転写層11が転写されることにより形成される印画物30の耐久性を向上させるとともに、転写後に微細な凹凸部が発現することで印画物30にセミグロス感を付与するために設けられる。
ここで、転写後の保護層2に微細な凹凸部が発現するメカニズムについて図2、図3を用いて具体的に説明する。なお、図2は、被転写体20上に保護層2を含む転写層11が転写される前の保護層転写シートの概略断面図であり、図3は被転写体20上に保護層2を含む転写層11が転写された後の印画物の概略断面図である。
図2に示すように、本発明の保護層転写シート10は、基材シート1上に保護層2、凹凸層3、ヒートシール層4とが積層されてなる転写層11が設けられることにより形成されており、凹凸層3における前記ヒートシール層4と接する面には微細凹凸部が設けられている。また、微細凹凸部が設けられた凹凸層3上に形成されるヒートシール層4の表面(ヒートシール層4における凹凸層3と接しない面)には、ヒートシール層4の形成時に凹凸層3が有する微細凹凸部がそのまま発現することから、ヒートシール層4の表面も微細凹凸部を有する。なお、図2に示すように保護層2と凹凸層3が接する面には微細凹凸部が存在しないことから、転写前の保護層2の表面は平坦であり、転写前の段階では保護層2の表面に微細な凹凸部は発現していない。
次に、後述する熱転写方法等により、保護層転写シート10と被転写体20を重ね合わせた後に所定のエネルギーをかけることで転写層11が基材シート1から剥離するとともに転写層11と被転写体20とが接着転写され印画物30が形成される。この際、図3に示すように、ヒートシール層4の表面が有する微細凹凸部が被転写体20に押し当てられることで、ヒートシール層4の表面が有する微細凹凸部は保護層2の表面に移行し、これにより保護層2の表面に(印画物30の表面)に微細凹凸部が発現する。
具体的には図3に示すように、転写層11を被転写体20上に転写する前の凹凸層3の表面に予め設けられた凸部(又はヒートシール層4の表面が有する凸部)をD1とすると転写後はD1に対応する凸部D11が保護層2の表面に発現し、凹凸層3の表面に設けられた凹部(又はヒートシール層4の表面が有する凹部)D2に対応する凹部D12が保護層2の表面に発現する。
このように、転写後の保護層3の表面には微細凹凸部が発現することから、別途、印画物の表面に凹凸部を形成する工程を行うことなく印画物の表面にセミグロス感を確実に付与することができる。更には、転写前後において保護層3自体の厚さに変化が生じないことから、印画物表面の耐久性を低下させることもない。
保護層2を形成する材料は、上記メカニズムにより、転写時に凹凸層3の表面に予め設けられた微細凹凸部に対応する微細凹凸部を、保護層2の表面に発現させることが可能な材料であれば特に限定されない。このような材料として、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、紫外線吸収性樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線吸収性樹脂等が挙げられる。
また、電離放射線硬化性樹脂を含有する保護層2は、耐可塑剤性や耐擦過性が特に優れている点で保護層2の材料として好適に用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては特に限定されることはなく、従来公知の電離放射線硬化性樹脂の中から適宜選択して用いることができ、例えば、ラジカル重合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電子線や紫外線によって重合架橋させたものを用いることができる。紫外線吸収性樹脂を含有する保護層2は、印画物に耐光性を付与することに優れている。
紫外線吸収性樹脂としては、例えば、反応性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用することができる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダートアミン系のような従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合性二重結合(例えばビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基など)、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような反応性基を導入したものが挙げられる。
また、本願発明の保護層転写シート10は、転写後の保護層2の表面に微細凹凸部を発現させ、印画物30に深いセミグロス感を付与するために、その表面に微細凹凸部を有する凹凸層3を予め設けた点に特徴を有し、転写後の保護層2の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さRzについて特に限定はない。なお、転写後の保護層2の表面に発現する微細凹凸部の凸部の十点平均粗さRzが1μm以上3μm以下である場合には、保護層2を含む転写層11が転写された印画物30に特に深いセミグロス感を付与することができる。したがって、転写後の保護層2の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さが上記範囲となるように凹凸層3の表面が予め有する微細凹凸部の十点平均粗さを適宜調整しておくことが好ましい。
保護層2の厚さについても特に限定はないが、印画物30表面の耐久性を考慮すると、保護層2の厚さは0.5μm〜2μm程度であることが好ましい。
保護層2の形成方法としては、上記樹脂の1種または2種以上を適当な溶剤により、溶解または分散させて保護層用塗工液を調製し、これを基材シート1上にグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥して形成することができる。
(離型層)
基材シート1からの保護層2の剥離性を向上させるために、基材シート1と保護層2との間にの離型層を形成することとしてもよい(図示しない)。離型層を形成する樹脂としては、従来公知の離型性樹脂であれば特に限定されることはなく、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、熱架橋性エポキシ−アミノ樹脂及び熱架橋性アルキッド−アミノ樹脂等が挙げられる。また、離型層2は、1種の樹脂からなるものであってもよく、2種以上の樹脂からなるものであってもよい。また離型層2は、離型性樹脂に加えイソシアネート化合物等の架橋剤、錫系触媒、アルミニウム系触媒等の触媒を用いて形成することとしてもよい。なお、離型層は、転写時に被転写体20側へ移行してもよく、基材シート1側に残ることとしてもよく、また離型層の厚みは0.5〜5μm程度が一般的である。離型層の形成方法としては、上記樹脂を適当な溶剤により、溶解または分散させて離型層用塗工液を調製し、これを基材シート1上にグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥して形成することができる。
基材シート1からの保護層2の剥離性を向上させるために、基材シート1と保護層2との間にの離型層を形成することとしてもよい(図示しない)。離型層を形成する樹脂としては、従来公知の離型性樹脂であれば特に限定されることはなく、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、熱架橋性エポキシ−アミノ樹脂及び熱架橋性アルキッド−アミノ樹脂等が挙げられる。また、離型層2は、1種の樹脂からなるものであってもよく、2種以上の樹脂からなるものであってもよい。また離型層2は、離型性樹脂に加えイソシアネート化合物等の架橋剤、錫系触媒、アルミニウム系触媒等の触媒を用いて形成することとしてもよい。なお、離型層は、転写時に被転写体20側へ移行してもよく、基材シート1側に残ることとしてもよく、また離型層の厚みは0.5〜5μm程度が一般的である。離型層の形成方法としては、上記樹脂を適当な溶剤により、溶解または分散させて離型層用塗工液を調製し、これを基材シート1上にグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥して形成することができる。
(凹凸層)
保護層2上(図1に示す場合にあっては保護層2の上面)にはその表面に微細凹凸部を有する凹凸層3が設けられている。凹凸層3は本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり転写後の保護層2の表面に微細凹凸を発現させるために設けられる。
保護層2上(図1に示す場合にあっては保護層2の上面)にはその表面に微細凹凸部を有する凹凸層3が設けられている。凹凸層3は本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり転写後の保護層2の表面に微細凹凸を発現させるために設けられる。
凹凸層3の表面に予め形成される微細凹凸部の形状(微細凹凸部の十点平均粗さ、微細凹凸部における凸部の配置パターン等)については、保護層2の表面に発現を所望する微細凹凸に応じて適宜選択することができ特に限定はない。なお、凹凸層3の表面に予め形成される微細凹凸部の十点平均粗さRzを2μm以上10μm以下とした場合には、保護層2の表面に発現する微細凹凸部の十点平均粗さRzを1μm以上3μm以下の範囲に設定することができ、保護層2を含む転写層11が転写された印画物30に深い特にセミグロス感を付与することができる。従って、凹凸層3の表面に予め形成される微細凹凸部の十点平均粗さRzは2μm以上10μm以下であることが好ましい。
なお、十点平均粗さはJIS 0601−1994表面粗さの規格に準拠して測定された値である。
また図4に示すように、凹凸層3の表面には、表面の形状が(i)100μm×100μmの正方形状の凸部、(ii)200μm×100μmの長方形状の凸部、(iii)100μm×200μmの長方形状の凸部、(iv)300μm×100μmの長方形状凸部、(v)100μm×300μmの長方形状の凸部がランダムに配置されることにより微細凹凸部が形成されていることが好ましく、1000μm×1000μmの単位面積あたりに(i)の凸部が5〜20個、(ii)の凸部が1〜10個、(iii)の凸部が1〜10個、(iv)の凸部が1〜7個、(v)の凸部が1〜7個ランダムに配置されることにより微細凹凸部が形成され、各凸部表面の表面積の合計が、単位面積の20%〜60%の範囲となるように配置されていることがさらに好ましい。凸部が上記のように配置されることにより形成される微細凹凸部を凹凸層3の表面に形成することで、転写後に保護層2の表面に発現する微細凹凸部により、印画物表面に深いセミグロス感を付与することが可能となる。
凹凸層3を形成する材料については、その表面に微細な凹凸を形成することができる材料であれば特に限定はなく、例えば、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80〜120℃のものが好ましく用いられる。また、上記の熱可塑性樹脂は単独で、あるいは混合して使用することができる。
(微細凹凸部の形成方法)
凹凸層3の表面へ微細凹凸部を形成する方法についても特に限定はなく、例えば、保護層2上に上記樹脂の1種または2種以上を溶液、あるいはエマルジョンなど塗布可能な形にしたものを、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の従来公知の手段により塗布した後、所望の凹凸形状を有するエンボス版を型押しすることにより形成する方法や、微細凹凸部に対応する凹凸形状を有する印刷版を用い上記樹脂を塗布可能な形にしたものをグラビア印刷することで形成する方法が挙げられる。
凹凸層3の表面へ微細凹凸部を形成する方法についても特に限定はなく、例えば、保護層2上に上記樹脂の1種または2種以上を溶液、あるいはエマルジョンなど塗布可能な形にしたものを、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等の従来公知の手段により塗布した後、所望の凹凸形状を有するエンボス版を型押しすることにより形成する方法や、微細凹凸部に対応する凹凸形状を有する印刷版を用い上記樹脂を塗布可能な形にしたものをグラビア印刷することで形成する方法が挙げられる。
なお、所定の凹凸形状を有する印刷版を用いて凹凸層3の表面に微細凹凸部を設ける場合には、凹凸層3の材料として、上記樹脂の中でもアクリル樹脂とセルロース系の樹脂が混合されてなる樹脂を好ましく用いることができる。アクリル樹脂とセルロース系の樹脂が含有された樹脂は、インク粘度の上昇を防止しつつ、インク中の固形分を高くすることができることから、印刷版の凹凸形状を確実に印刷することができ、所望の微細凹凸部を確実に凹凸層3の表面に設けることができる。また、アクリル樹脂とセルロース系樹脂の混合比は1:2程度であることが好ましい。
(ヒートシール層)
凹凸層3上(図1に示す場合にあっては凹凸層3の上面)には、ヒートシール層4が設けられている。ヒートシール層4は、本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり本発明の保護層転写シート10を良好に被転写体20上に接着せしめるために設けられる。また、微細凹凸部が設けられた凹凸層3上にヒートシール層4を形成する際に、ヒートシール層4の表面には凹凸層3の表面に設けられた微細凹凸部に対応する微細凹凸部が発現することから、図1に示すようにヒートシール層4の表面(凹凸層3と接しない面)も微細凹凸部を有している。
凹凸層3上(図1に示す場合にあっては凹凸層3の上面)には、ヒートシール層4が設けられている。ヒートシール層4は、本発明の保護層転写シート10における必須の構成であり本発明の保護層転写シート10を良好に被転写体20上に接着せしめるために設けられる。また、微細凹凸部が設けられた凹凸層3上にヒートシール層4を形成する際に、ヒートシール層4の表面には凹凸層3の表面に設けられた微細凹凸部に対応する微細凹凸部が発現することから、図1に示すようにヒートシール層4の表面(凹凸層3と接しない面)も微細凹凸部を有している。
ヒートシール層4の材料については特に限定はなく、従来公知の接着性樹脂等を適宜選択して用いることができる。このような接着性樹脂として、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル─酢酸ビニル共重合樹脂、スチレン─アクリル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂等の樹脂が挙げられる。ヒートシール層4の形成方法としては、上記樹脂の1種または2種以上を溶液、あるいはエマルジョンなど塗布可能な形にしたものを、グラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法等の従来公知の手段により塗布、乾燥することにより形成できる。なお、ヒートシール層4の厚さは、0.1μm〜5μm程度が好ましい。
また、ヒートシール層4は、上記樹脂と、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリシレート系化合物等の有機系の紫外線吸収剤や、また亜鉛、チタン、セリウム、スズ、鉄等の酸化物の如き無機系の紫外線吸収能を有する微粒子の添加剤を加えることができる。また、添加剤として、着色顔料、白色顔料、体質顔料、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、蛍光増白剤等も適宜、必要に応じて使用することができる。
(耐熱潤滑層)
基材層1の転写層11との反対面(図1に示す場合には基材層1の下面)に耐熱潤滑層5を設けることとしてもよい。耐熱潤滑層5は、本発明の転写材10における任意の層であるが、後述する熱転写方式による転写を行う場合には、サーマルヘッドの滑り性をよくし、かつスティッキングを防止することができることから、当該転写方法により転写を行う場合には耐熱潤滑層5が設けられていることが好ましい。
基材層1の転写層11との反対面(図1に示す場合には基材層1の下面)に耐熱潤滑層5を設けることとしてもよい。耐熱潤滑層5は、本発明の転写材10における任意の層であるが、後述する熱転写方式による転写を行う場合には、サーマルヘッドの滑り性をよくし、かつスティッキングを防止することができることから、当該転写方法により転写を行う場合には耐熱潤滑層5が設けられていることが好ましい。
耐熱潤滑層5は、耐熱性のある熱可塑性樹脂バインダーと、熱離型剤または滑剤のはたらきをする物質とを、基本的な構成成分とする。熱可塑性樹脂バインダーは、耐熱性を有する熱可塑性樹脂バインダーであれば特に限定はなく、このような熱可塑性樹脂バインダーとしては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、酢酸セルロース、フッ化ビニリデン樹脂、ナイロン、ポリビニルカルバゾール、塩化ゴム、環化ゴム及びポリビニルアルコールが挙げられることができる。また、これらの樹脂は、ガラス転移点が60℃以上のもの、またはOH基またはCOOH基を有する熱可塑性樹脂にアミノ基を2個以上有する化合物またはジイソシアネートもしくはトリイソシアネートを加えて若干の架橋硬化を起させたものが好ましい。
上記の熱可塑性樹脂に配合する、熱離型剤または滑剤は、ポリエチレンワックス、パラフィンワックスの様なワックス類、高級脂肪酸のアミド、エステル又は塩類、高級アルコール及びレシチン等のリン酸エステル類のような加熱により溶融してその作用をするものと、フッ素樹脂や無機物質の粉末のように、固体のままで役立つものとがある。尚、これらの滑剤又は熱離型剤に加えて、他の離型剤、例えば、フッ素含有樹脂の粉末、グアナミン樹脂の粉末及び木粉のいずれかを併用することも出来、この場合には更に高い効果が得られる。
耐熱潤滑層5を形成する組成物について得に限定はないが、前記の熱可塑性樹脂バインダー100質量部に対し、上記の滑剤又は熱離型剤の作用をする物質を10〜100質量部の割合で配合されていることが好ましい。また、耐熱潤滑層5の形成についても特に限定はないが、例えば、適宜の溶剤で練ってインキとし、ロールコーティング法、グラビアコーティング法,スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法等のコーティング法により、基材層1の転写層11との反対面に、塗布し、乾燥することによって行うことができる。耐熱潤滑層5の厚さについても特に限定はないが0.01〜1.0g/m2程度が一般的であり、好ましくは0.1〜0.2g/m2である。
また、本発明の保護層転写シート10は、上述した転写層11を基材シート1に単独で設ける構成としてよいし、図5に示すようにY(イエロー)、M(マゼンダ)、C(シアン)、又はBk(ブラック)等の各色の昇華性染料層や、Y、M、C又はBkの熱溶融型色彩層とともに面順次に設ける構成としてもよい。上記昇華性染料層は従来公知の方法で適当な昇華性染料と適当なバインダー樹脂とから形成され、上記熱溶融型色彩層は従来公知の方法で適当な顔料と適当なワックスなどの熱溶融性物質から形成される。
(被転写体)
上記保護層転写シート10の転写に使用可能な被転写体20としては、特に限定されず、例えば、従来公知の基材上に染料受容性を有する受容層を設けたもの等を挙げることができる。被転写体20おける基材としては、例えば、普通紙、上質紙、トレーシングペーパー、プラスチックフィルム等を挙げることができ、その基材について特に限定されない。上記被転写体20における受容層は、コーティング法、サーマルヘッドや熱ロール等による形成法等にて形成することができる。なお、上記被転写体20は、基材自体が染料受容性を有していれば、受容層を設ける必要がない。
上記保護層転写シート10の転写に使用可能な被転写体20としては、特に限定されず、例えば、従来公知の基材上に染料受容性を有する受容層を設けたもの等を挙げることができる。被転写体20おける基材としては、例えば、普通紙、上質紙、トレーシングペーパー、プラスチックフィルム等を挙げることができ、その基材について特に限定されない。上記被転写体20における受容層は、コーティング法、サーマルヘッドや熱ロール等による形成法等にて形成することができる。なお、上記被転写体20は、基材自体が染料受容性を有していれば、受容層を設ける必要がない。
(転写方法)
本発明の保護層転写シート10を用い熱転写法にて被転写体20上に画像形成及び保護層転写を行う場合、熱転写プリンタを、昇華転写用、熱溶融転写用、保護層転写用というように別々に転写条件を設定してもよいし、また、共通のプリンタでそれぞれ印字エネルギーを適切に調整して行ってもよい。また、加熱手段として特に限定されず、その他、熱板、ホットスタンパー、熱ロール、ラインヒーター、アイロンなどを用いて転写を行うこととしてもよい。また、保護層2は、形成された画像の全面に転写してもよいし、セミグロス感を付与したい部分のみに転写してもよい。
本発明の保護層転写シート10を用い熱転写法にて被転写体20上に画像形成及び保護層転写を行う場合、熱転写プリンタを、昇華転写用、熱溶融転写用、保護層転写用というように別々に転写条件を設定してもよいし、また、共通のプリンタでそれぞれ印字エネルギーを適切に調整して行ってもよい。また、加熱手段として特に限定されず、その他、熱板、ホットスタンパー、熱ロール、ラインヒーター、アイロンなどを用いて転写を行うこととしてもよい。また、保護層2は、形成された画像の全面に転写してもよいし、セミグロス感を付与したい部分のみに転写してもよい。
次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
(実施例1)
<保護層用組成物>
アクリル樹脂(ダイヤナールBR−83、三菱レイヨン社製)50部
メチルエチルケトン 25部
トルエン 25部
<凹凸層用組成物>
セルロース系樹脂:アクリル系樹脂=2:1 30部
メチルエチルケトン 35部
トルエン 35部
<ヒートシール層用組成物>
ポリエステル樹脂(バイロン200、東洋紡績社製) 69.6部
反応性紫外線吸収剤を反応結合したアクリル共重合体
UVA635L(BASFジャパン製) 17.4部
シリカ(サイリシア310、富士シリシア社製) 25部
メチルエチルケトン 20部
トルエン 20部
<耐熱潤滑層用組成物>
ポリアミドイミド樹脂(HR−15ET、東洋紡績社製) 50部
ポリアミドイミドシリコーン樹脂(HR−14ET、東洋紡績社製) 50部
ステアリルリン酸亜鉛(LBT−1830精製、堺化学社製) 10部
ステアリン酸亜鉛(GF−200、日本油脂社製) 10部
ポリエステル樹脂(バイロン220、東洋紡績社製) 3部
無機フィラー(タルク、平均粒径4.2μm) 10部
(実施例1)
<保護層用組成物>
アクリル樹脂(ダイヤナールBR−83、三菱レイヨン社製)50部
メチルエチルケトン 25部
トルエン 25部
<凹凸層用組成物>
セルロース系樹脂:アクリル系樹脂=2:1 30部
メチルエチルケトン 35部
トルエン 35部
<ヒートシール層用組成物>
ポリエステル樹脂(バイロン200、東洋紡績社製) 69.6部
反応性紫外線吸収剤を反応結合したアクリル共重合体
UVA635L(BASFジャパン製) 17.4部
シリカ(サイリシア310、富士シリシア社製) 25部
メチルエチルケトン 20部
トルエン 20部
<耐熱潤滑層用組成物>
ポリアミドイミド樹脂(HR−15ET、東洋紡績社製) 50部
ポリアミドイミドシリコーン樹脂(HR−14ET、東洋紡績社製) 50部
ステアリルリン酸亜鉛(LBT−1830精製、堺化学社製) 10部
ステアリン酸亜鉛(GF−200、日本油脂社製) 10部
ポリエステル樹脂(バイロン220、東洋紡績社製) 3部
無機フィラー(タルク、平均粒径4.2μm) 10部
基材シートとして厚さ4.5μmの東レ社製PETを用い、該基材シートの一方の面に上記の保護層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ1μmの保護層を形成し、該保護層上に、凹凸形状を有する印刷版を用いて、上記の凹凸層用塗工液をグラビア印刷法にて印刷することで、その表面の十点平均粗さRzが下表1の値となる微細凹凸部が形成された凹凸層を形成した。次いで、凹凸層上に上記のヒートシール層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ1.4μmのヒートシール層を形成した。また、基材シート1の他方の面には、上記の耐熱潤滑層用塗工液をグラビアコーティング法にて塗工し、厚さ0.4μmの耐熱潤滑層5を形成して、本発明の実施例1の保護層転写シートを得た。
なお、十点平均粗さはJIS 0601−1994表面粗さの規格に準拠した方法により測定を行った。(以下、実施例2〜実施例5、比較例1及び保護層転写後の印画物表面の十点平均粗さRz測定も同様)。
(実施例2〜実施例5)
凹凸層が有する微細凹凸部の十点平均粗さRzを下表1の値とした以外は実施例1と同一の条件により実施例2〜実施例5の保護層転写シートを得た。
凹凸層が有する微細凹凸部の十点平均粗さRzを下表1の値とした以外は実施例1と同一の条件により実施例2〜実施例5の保護層転写シートを得た。
(比較例1)
凹凸層を形成しない以外は実施例1と同一の条件により比較例1の保護層転写シートを得た。
凹凸層を形成しない以外は実施例1と同一の条件により比較例1の保護層転写シートを得た。
(印画物の形成)
次に、キヤノン製プリンタ(CP710)を用いて、被転写体としての同プリンタ用専用受像紙に黒ベタ印画を行った。次に、黒ベタ印画後の被転写体と実施例1〜5、比較例1の保護層転写シートと重ね合わせ保護層を転写し実施例1〜5、比較例1の保護層が転写された印画物を得た。次いで、得られた印画物の表面粗さ(十点平均粗さRz)を測定した。表面粗さの測定結果を併せて表1に示した。
次に、キヤノン製プリンタ(CP710)を用いて、被転写体としての同プリンタ用専用受像紙に黒ベタ印画を行った。次に、黒ベタ印画後の被転写体と実施例1〜5、比較例1の保護層転写シートと重ね合わせ保護層を転写し実施例1〜5、比較例1の保護層が転写された印画物を得た。次いで、得られた印画物の表面粗さ(十点平均粗さRz)を測定した。表面粗さの測定結果を併せて表1に示した。
(セミグロス感評価試験)
実施例1〜実施例5、比較例1の保護層転写シートを用いて得られた上記印画物のセミグロス感の評価試験を行った。セミグロス感評価試験は実施例1〜実施例5および比較例1の印画物表面にセミグロス感を付与することができたか否かを目視により行った。このとき、印画物の表面に深いセミグロス感を付与することができたものを◎とし、セミグロス感を付与することができたものを○、セミグロス感が付与されていないものを×とした。評価結果を併せて表1に示した。
実施例1〜実施例5、比較例1の保護層転写シートを用いて得られた上記印画物のセミグロス感の評価試験を行った。セミグロス感評価試験は実施例1〜実施例5および比較例1の印画物表面にセミグロス感を付与することができたか否かを目視により行った。このとき、印画物の表面に深いセミグロス感を付与することができたものを◎とし、セミグロス感を付与することができたものを○、セミグロス感が付与されていないものを×とした。評価結果を併せて表1に示した。
表1から明らかなように、凹凸層が設けられていない比較例1の保護層転写シートが転写された印画物にはセミグロス感を付与することができないのに対し、凹凸層が設けられた実施例1〜実施例5の保護層転写シートが転写された印画物には優れたセミグロス感を付与することが確認された。
1…基材シート
2…保護層
3…凹凸層
4…ヒートシール層
5…耐熱潤滑層
10…保護層転写シート
11…転写層
20…被転写体
30…印画物
2…保護層
3…凹凸層
4…ヒートシール層
5…耐熱潤滑層
10…保護層転写シート
11…転写層
20…被転写体
30…印画物
Claims (5)
- 基材シートと転写層とからなる保護層転写シートであって、
前記転写層は、基材シート側から、保護層、凹凸層、ヒートシール層とがこの順で積層されてなり、
前記凹凸層は、前記ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、
被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて当該被転写体上に前記転写層を転写した際に、前記保護層表面に微細凹凸部が発現することを特徴とする保護層転写シート。 - 前記凹凸層が有する前記凹凸部の十点平均粗さをRzとした場合に、Rzが2μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の保護層転写シート。
- 前記凹凸層が、少なくともセルロース系樹脂とアクリル樹脂を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の保護層転写シート。
- 前記転写層が前記基材シートの表面の一部に形成され、当該基材シートの表面に当該転写層と面順次に1色以上の昇華性染料層又は1色以上の熱溶融型色彩層である着色熱転写層が形成されてなる請求項1乃至3のいずれか1項に記載の保護層転写シート。
- 前記基材シートの他方の面に、耐熱潤滑層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の保護層転写シート。
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CN102529472A (zh) * | 2012-01-17 | 2012-07-04 | 昆山帆宏表面处理有限公司 | 转印膜以及具有纹路的外观件的制作方法 |
JP2012201105A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Toppan Printing Co Ltd | 転写箔、およびそれを用いた加飾成形品 |
WO2015118718A1 (ja) | 2014-02-07 | 2015-08-13 | 株式会社アイセロ | 凹凸模様転写材料 |
JP2017047594A (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 大日本印刷株式会社 | 加飾シート、加飾成形品、および加飾成形品の製造方法 |
JP2017070932A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-04-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 加飾物の製造方法、加飾物の補修方法、転写部材及び加飾キット |
US10391120B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-08-27 | Mallinckrodt Hospital Products IP Limited | Methods of using inhaled nitric oxide gas for treatment of acute respiratory distress syndrome in children |
-
2009
- 2009-06-22 JP JP2009147924A patent/JP2011000865A/ja active Pending
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