JP2010533980A - サイクル時間が短縮された厚膜抵抗装置の製造方法 - Google Patents

サイクル時間が短縮された厚膜抵抗装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

基板、ターゲットまたは隣接する機能層の上に誘電材層を形成するステップを含む、負荷抵抗体または加熱体などの抵抗装置を形成する方法であって、一形態では誘電材層が単一層である誘電材テープを成す方法が提供される。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て誘電材テープが基板、ターゲットまたは隣接する機能層に積層され、次に、誘電材層の上に抵抗層が形成され、抵抗層の上にさらに保護層が形成される。

Description

本願の開示は、広義の意味で、負荷抵抗体、または積層ヒーター等の厚膜抵抗装置に係わり、具体的に云うと、斯かる厚膜抵抗装置用の改善された材料および改善された構造に関するものである。
本欄における記載内容は、単に本願の開示に関する背景情報を提供するに過ぎず、従来技術であるとは云えない。
積層ヒーターまたは負荷抵抗体等の抵抗装置は、通常、熱出力を表面全体にわたって変化させる必要のある場合に、空間に制限のある用途で用いられており、あるいは、超清浄化学用または攻撃性化学用で用いられている。積層ヒーター等の積層抵抗装置は、通常、基板に被着された異なる複数の材料(すなわち、誘電材料および抵抗材料)から成る層を含む。初めに誘電材料が基板に被着され、それによって基板と抵抗材料の間に電気絶縁がなされ、また、使用中における電流の漏れが極小化される。抵抗材料は所定パターンで誘電材料に被着され、抵抗ヒーター回路となる。また、積層ヒーターは、抵抗ヒーター回路をヒーター制御器に接続するリード線、およびリード線と抵抗回路との接続部を保護する外側モールド成形材料を含む。従って、積層負荷装置は、各種用途に対して高い自由度で対応可能である。
抵抗装置の各層は、各種方法で形成することができ、そのうちの1つが、厚膜層形成法である。厚膜抵抗装置用の層は、通常、とりわけスクリーン印刷、転写被着または膜印刷ヘッド等の方法で形成される。所望の厚さを得るためには、厚膜抵抗装置内の各層毎に、厚膜材料の多重被覆または被着が必要であることが多い。これらの被覆の各々に関連する方法は、通常、多数の製造ステップを必要とし、また、高温焼成ステップおよび乾燥ステップの反復サイクルを必要とする。従って、多数層を有し、これらの個々の層が多重被覆を必要とする厚膜抵抗装置の場合、多数の焼成と乾燥のサイクルが必要である。その結果、厚膜層状抵抗装置を、その多数の処理ステップで処理することにより、冗長な製造サイクル時間および増大したコストにつながる。
一形態では、抵抗装置を形成する方法であって、基板の上に誘電材層を形成するステップと、誘電材層の上に抵抗層を形成するステップと、抵抗層の上に保護層を形成するステップとを含む方法が提供される。誘電材層は、単一層である誘電材テープを成す。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て誘電材テープが基板に重ねられる。
その他の形態では、抵抗装置で用いるためのターゲットの上に厚膜材料を形成する方法が提供される。厚膜材料は、少なくとも1つの誘電材層を含む。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て厚膜材料がターゲットに重ねられる。
さらにその他の形態では、抵抗装置を形成する方法であって、基板の上に誘電材層を形成するステップと、誘電材層の上に抵抗層を形成するステップと、抵抗層の上に保護層を形成するステップとを含む方法が提供される。誘電材層は、単一層としての誘電材テープを成す。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て誘電材テープが基板に積層される。保護層は、単一層である誘電材テープを含み、誘電材テープは、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て抵抗層に重ねられる。
適用可能なその他の領域は、本明細書における説明から明らかになるだろう。以下の説明および具体例は、単なる説明を目的にしたものであり、本発明の範囲を限定することを意図していない点に留意すべきである。
本明細書で説明されている図面は、単なる説明目的用であり、本発明の範囲を限定することは一切意図していない。
ターゲットの周囲に配置された、本開示の原理に従って構成された積層抵抗装置の側面図である。 本開示の原理に従って構成された積層抵抗装置の基板上の各種層の詳細を示す、図1の積層抵抗装置の一部の部分横断面図である。 基板の外部表面および内部表面の両方に層を有する、本開示の原理に従って構成されたその他の積層抵抗装置の一部の部分横断面図である。 本開示の原理に従って構成されたデバイスの表面に複数の抵抗エレメント層および複数の誘電材層を有する、さらにその他の積層抵抗装置の一部の部分横断面図である。 本開示の原理に従って構成された抵抗エレメント層と保護層の間に配置された機能層を有する、さらにその他の積層抵抗装置の一部の部分横断面図である。 分割スリーブ構成を有する、本開示の原理に従って構成された積層抵抗装置の斜視図である。 分割スリーブ構成を有し、かつ、本開示の原理に従って構成された保護層をさらに含む積層抵抗装置の斜視図である。 円筒状構成を有し、かつ、本開示の原理に従って構成された螺旋パターンを有する抵抗層を有する積層抵抗装置の斜視図である。 円筒状構成を有し、かつ、その内部表面に配置された、比較的正方形に近いパターンを有する抵抗層を有する、本開示の原理に従って構成されたその他の積層抵抗装置の斜視図である。 本開示の原理に従って構成された円錐形を有する積層抵抗装置の斜視図である。 本開示の原理に従って構成された平坦な円形を有する積層抵抗装置の平面図である。 本開示の原理に従って構成された円形凹陥形状を有する積層抵抗装置の斜視図である。 本開示の原理に従って構成された円形凸形状を有する積層抵抗装置の斜視図である。 本開示の原理に従って構成された平らな長方形構成を有する積層抵抗装置の平面図である。 本開示の原理に従って構成されたオープン・ボックス即ちバフェット・トレイ構成を有する積層抵抗装置の斜視図である。 積層抵抗装置を形成するための本開示の教示によるプロセスを示すブロック図である。 予め切断された一片の誘電材テープが本開示のプロセスに従ってその周囲に保持された管状基板の斜視図である。 膨張した膜の先端部に本開示のプロセスに従って挿入された図13Aの管状基板および誘電材テープの斜視図である。 膨張した膜の中に本開示のプロセスに従って降下した図13A〜13Bの管状基板および誘電材テープの斜視図である。 管状基板および誘電材テープの周囲に本開示のプロセスに従って裏返された図13B〜13Cの膨張膜の斜視図である。 管状基板の中に本開示のその他のプロセスに従って配置された、媒体が充填されたマンドレルの斜視図である。 膨張した膜の先端部に本開示のプロセスに従って挿入された図14Aの媒体充填マンドレルおよび管状基板の斜視図である。 媒体充填マンドレルおよび管状基板の周囲に本開示のプロセスに従って裏返された図14Bの膨張膜の斜視図である。 しぼんだ状態の第1袋組立体および本開示のさらにその他のプロセスに従ってその内部表面に配置された誘電材テープを有する管状基板の模式的断面図である。 本開示のプロセスに従って管状基板に挿入されたしぼんだ第1袋を示す、図15Aの第1袋組立体および管状基板の略断面図である。 本開示のプロセスに従って膨張した状態にある第1袋を示す、図15A〜15Bの第1袋組立体および管状基板の模式的断面図である。 本開示のプロセスに従って管状基板と係合し、かつ、該管状基板をしっかりとつかまえている第1袋を示し、また、その下方に本開示のプロセスに従って配置された第2袋組立体を示す、図15A〜15Cの第1袋組立体および管状基板の模式的断面図である。 第2袋が本開示のプロセスに従ってしぼんだ状態にある第2袋組立体に挿入された管状基板および第1袋を示す、図15Dの袋組立体および管状基板の模式的断面図である。 本開示のプロセスに従って膨張した状態にある両方の袋を示す、図15D〜15Eの袋組立体および管状基板の模式的断面図である。 本発明の原理による、平らな基板および該平らな基板に挿入された誘電材テープを有する、しぼんだ状態にあるその他の袋組立体の模式的断面図である。 袋組立体が膨張した状態にある、図15Gの袋組立体、基板および誘電材テープの模式的断面図である。 誘電材テープがその上に配置された平らな基板であって、基板および誘電材テープが本開示のその他のプロセスに従って真空封じされた基板の斜視図である。 ゴム・シリンダが本開示のさらにその他のプロセスに従ってその中に配置された管状基板の側面図である。 本開示のプロセスによるプレスによってゴム・シリンダに力が付与されることを示す、図17Aの管状基板およびゴム・シリンダの側面図である。 誘電材テープがその上に配置された平らな基板であって、基板および誘電材テープが本開示のその他のプロセスに従って一組のダイの近傍に配置された基板の模式的断面図である。 基板および誘電材テープが上記一組のダイを通して圧延されている、図18Aの基板、誘電材テープおよびダイの模式的断面図である。 誘電材テープがその上に配置された管状基板であって、基板が本発明のプロセスに従って一組のダイの上を滑っている管状基板の模式的側面図である。 基板および誘電材テープが上記一組のダイを通して圧延されている、図19Aの基板、誘電材テープおよびダイの模式的断面図である。
以下の説明は単に例示的なものにすぎず、本願開示の内容、用途または使用を限定する意図はない。
図1を見ると、本願開示の原理による積層抵抗装置が示されており、その全体が符号10で示されている。積層抵抗装置10は、ターゲット12の周囲に配置されており、この積層抵抗装置10によってターゲット12に負荷抵抗すなわち熱が与えられる。積層抵抗装置10は、一例として、ターゲット12の周囲に同軸配置された管状体として示されている。積層抵抗装置10は、多数の機能層がその上に配置された基板20を含む。これら機能層のうちの1つが抵抗層18である。図示されている抵抗層18は、螺旋パターンで基板20の周囲に巻きつけられているが、抵抗層18は、本願開示の範囲内で、任意の適切なパターンで形成することができ、または、連続層にすることもできる。例えば、抵抗層18は、とりわけ、正方形パターン、鋸歯パターン、正弦波パターン、または、任意のその他の適切なパターンに形成することができる。代替的に、連続シートによりパターンを全く有しない抵抗層18にすることができる。
2つの例示的形態では、基板20は、酸化アルミニウム(Al)または430ステンレス鋼で形成されるが、特殊用途の要求条件、および、各種層に用いられる材料に応じて、任意のその他の適切な材料を使用できる。限定するわけではないが、その他の適切な材料として、とりわけ、ニッケルめっき銅、アルミニウム、ステンレス鋼、軟鋼、工具鋼、耐火合金および窒化アルミニウムがある。
図1の積層抵抗装置10の場合、抵抗層18はヒーター回路を提供するが、抵抗層18は、本開示の精神および範囲内で、ヒーター回路の他に、代替的に、その他の機能を提供することもできる。例えば、抵抗層18は、ヒーターエレメントおよび温度センサの両方として機能することができ、その形態については、本願譲受人名義の米国特許第7196295号(引用により、その全記載内容を本明細書の記載として援用する)に記載されている。
或る用途では、抵抗層18は、ヒーターエレメントとしてではなく、負荷抵抗体として機能する。負荷抵抗体として設計される抵抗層18は、最小インダクタンスを有することが好ましく、また、正弦波パターンで形成されることが好ましい。このような負荷抵抗体を用いて、その他の構成部品を包み込むことができる。例えば、負荷抵抗装置16は、火器外皮用またはミサイル用に有用性を有すると考えられる。負荷抵抗体は、その他の構成部品用の電力集積体として働き、斯かるその他の構成部品によって消散される電力から火器外皮またはミサイルを離隔することによってこれら装置の保護を促進することができる。
抵抗層18は、端子線24を介して電力源(図示せず)にさらに接続されている端子パッドである一対の導体22に接続されていることが好ましい。これらの導体22は、抵抗層18がその他の適切な方法で電力源に電気接続される限り、本開示の精神および範囲を逸脱することなく、端子パッド以外の形態を取ることができる。一形態では導体22を省略することができ、また、抵抗層18の抵抗図形を端子線24に直接接続することができる。端子線24には、任意の適切な電気リード線を使用することができる。
次に図2を見ると、図1の局部を示す2−2線に沿って截断した積層抵抗装置10の断面が示されている。図示のように、積層抵抗装置10は、基板20、および基板20の外側に配置された複数層を含む。図1、図2には基板20が示されているが、基板20は、必ずしも本開示に必要な部材ではない。或る種の用途では、基板20を除くことができ、また、ターゲット12に直接前記複数層を付すことができる。
次に、基板20の上に配置された層について具体的に説明する。誘電材層26は基板20の表面に配置されており、この表面は、図示のように、外部表面であっても、或いは、基板20の任意のその他の表面であってもよい。有利には、誘電材層26は、本開示の一形態では、単一層としての誘電材テープから成る厚膜層である。誘電材層26は、基板20の上に直接配置されているが、本開示の精神および範囲内で、基板20と誘電材層26の間に別の機能層を配置してもよい。例えば、基板20と誘電材層26の間に、接合層(図示せず)を配置できる。誘電材層26は、基板20と抵抗層18の間の電気絶縁を行なう。従って、誘電材層26は、抵抗層18の電力出力に対応する厚さで基板20の上に配置されている。所望厚さを有する単一層としての誘電材テープを基板20に付すことができ、次いで、単一層としての誘電材テープの上に抵抗層18を配置することができる。
誘電材テープは、それが処理される前は、基板20またはターゲット12の幾何学形状と一致するように取り扱い、かつ、操作することができる可撓性シート材料である。誘電材テープは、通常、接着性または粘着性を有しないため、基板20またはターゲット12またはその他の機能層に対するテープの積層に先だって、必要に応じて何度も位置を変えることができる。誘電材テープであるため、この材料は誘電特性を有するが、誘電材層の形態がその最終的な形態になるまで、つまり誘電材層を焼成するまでの間は、これらの特性が明らかにならないことがある。従って、本明細書において使用されているように、「テープ」という用語は(それが誘電材層、抵抗層、保護層またはその他の機能層のいずれに対して使用されているものであれ)、抵抗装置10の基板、ターゲットまたはその他の層に一致するように操作され、かつ、これらの層に積層される可撓性シート様材料を意味するものとして解釈すべきである。
所定用途に対して、誘電材層26の両面に配置される材料間の絶縁を提供し、それらの間のアークの発生を防止するためには、誘電材層26は、場合によっては、十分な誘電性強度を有することが望ましい。同様に、熱的均一性がしばしば要求される。単一層である誘電材テープは、積層抵抗装置10に使用する場合、望ましい誘電性強度、均一な厚さおよび熱的均一性を有することが分かっている。従って、用途の要求条件に応じて、所望厚さの誘電材テープを提供することができる。選択される誘電材テープの種類は、基板20の材料および抵抗層18の電気出力によって種々ある。430ステンレス鋼基板のための好ましいテープの1つは、約50〜300μmの厚さを有する無鉛セラミック・テープである。特定の用途に応じて様々な誘電材テープ(材料および厚さ)を提供することができるため、本明細書において説明されている誘電材テープを本開示の範囲を限定するものとして解釈してはならないことを理解されたい。さらに、多くの用途に対しては誘電材テープの単一層のみで十分であるが、本開示の範囲内で複数の層の誘電材テープを使用することも可能である。
図にさらに示されているように、抵抗層18は誘電材層26の上に配置されている。通常、抵抗層18はパターンの形をしており、また、上で説明したように連続した層で提供することも可能である。導体22は、通常、誘電材層26の上に配置されており、抵抗層18と電気連絡している。別法として、導体22がない積層抵抗装置10を提供することも可能である。抵抗層18は、本開示の精神および範囲内で任意の適切なプロセスによって形成することができる。例えば、抵抗層18は、とりわけ厚膜プロセス、薄膜プロセス、溶射またはゾル−ゲル等の任意の積層プロセスによって加えることができる。本明細書において使用されているように、「積層抵抗装置」という用語は、少なくとも1つの機能層(例えば、とりわけ誘電材層26のみ、抵抗層18および誘電材層26)を含むデバイスであって、とりわけ厚膜、薄膜、溶射またはゾル−ゲルに関連するプロセスを使用して、基板、ターゲットまたはその他の層に材料を塗布し、或いは蓄積させることによって層が形成されるデバイスが包含されるものとして解釈すべきである。これらのプロセスは、「積層プロセス」または「層形成プロセス」とも呼ばれている。
厚膜プロセスには、一例として、とりわけスクリーン印刷、スプレー方式、ローリングおよび転写印刷を含むことができる。薄膜プロセスには、一例として、とりわけイオン・プレーティング、スパッタリング、化学気相成長(CVD)および物理気相成長(PVD)を含むことができる。溶射プロセスには、一例として、とりわけフレーム溶射、プラズマ溶射、ワイヤ・アーク溶射およびHVOF(高速酸素燃料)を含むことができる。
一形態では、抵抗層18は、以下でさらに詳細に説明する方法によって加えることができる単一層のテープから形成することができる。抵抗層18は、図形またはパターンを有しない単一層として加えることができ、或いは抵抗層18は、テープの形態で基板20に加えられる所定の図形またはパターンを有することができる。さらに、図形またはパターンの長さに沿って、或いは連続する層の全体にわたって抵抗層18のワット密度を変化させることができるよう、厚さが可変の単一層のテープを提供することができる。このような可変厚形態のテープは、本開示の範囲内でその他の機能層にも提供することができる。
保護層28は抵抗層18の上に配置されており、また、導体22をリード線(図1)および/または電力源(図示せず)に電気接続することができる限り、導体22を覆うことも可能である。導体22の少なくとも一部は、保護層28を貫通して露出していることが好ましい。保護層28は絶縁体であることが好ましいが、特定の用途の要求事項に応じて、本開示の精神および範囲内で、電気的または熱的に導電性の材料等のその他の材料を使用することも可能である。一形態では、保護層28は、抵抗層18を動作環境から電気絶縁し、かつ、保護するための誘電材料である。従って、保護層28は、上で説明した誘電材層26と同様、誘電材テープの単一層を含むことができる。別法として、保護層28は、それらに限定されないが、スクリーン印刷、スプレー方式、ローリングおよび転写印刷を始めとするその他の厚膜プロセスを使用して加えることも可能である。さらに、保護層28は、本開示の精神および範囲内で、とりわけゾル−ゲルまたは溶射プロセス等のその他の積層プロセスによって加えることも可能である。通常、ゾル−ゲル層は、とりわけディッピング、スピニングまたはペインティング等のプロセスを使用して形成される。
一代替形態では、厚膜誘電材テープとして提供されているのは保護層28のみであり、その他の層は、1つまたは複数の積層プロセスを使用して提供されている。例えば、誘電材層26は、厚膜、薄膜、溶射またはゾル−ゲル・プロセスによって提供することができる。また、抵抗層18も、厚膜、薄膜または溶射等の従来の方法によって提供することができる。いくつかの用途では、抵抗層18は基板20に直接加えられており、また、保護層28は、厚膜誘電材テープとして提供され、抵抗層18の上に配置されている。
図3を見ると、その他の積層抵抗装置116の断面が示されている。図2の積層抵抗装置16と同様、積層抵抗装置116は基板120を含み、基板120の外部表面に、誘電材層126、抵抗層118および保護層128を含む層が配置されている。基板120は、その外部表面にこれらの層を有するだけでなく、さらに、誘電材層226、抵抗層218および保護層228を含む同様の層をその内部表面に有する。導体122、222は、抵抗層118、218を電力源(図示せず)に接続している。導体122、222は、必要に応じて省略することができる。さらに、いくつかの用途では基部誘電材層126、226を省略することができ、また、抵抗層118、218および/または保護層128、228はテープの形態で提供することができる。
図4を見ると、さらにその他の積層抵抗装置316の断面が示されている。積層抵抗装置316は基板320を含み、誘電材テープの単一層を含む誘電材層326が基板320の上に配置されている。抵抗層318は誘電材層326の上に配置されている。積層抵抗装置316は、さらに追加機能層を含み、複数の抵抗層318が複数の対応する誘電材層326の上に形成されている。抵抗層318の各々は導体322に接続されている。導体は、1つの導体322であっても、或いは複数の導体322であってもよいが、導体322は必要に応じて省略することも可能である。複数の抵抗層318を使用して、ワット数の形態の出力を追加することができ、および/または複数の抵抗層318を使用することにより、1つの抵抗層318が故障した場合の冗長性を持たせることができる。また、複数の抵抗層318を使用して、小さい実効面積で、或いは限られたフットプリントで小さい抵抗または大きい抵抗が要求される用途の抵抗要求事項を満足することも可能である。追加または別法として、複数の回路即ち抵抗層318パターンを同じ抵抗層318内で使用することも可能である。層326、318は、図には基板320の一方の表面に示されているが、これらの層326、318は、基板のもう一方の表面にも提供することができる。
図5を見ると、その外部表面に層を有するさらにその他の積層抵抗装置416の断面が示されている。積層抵抗装置416は基板420を有しており、誘電材テープを含む誘電材層426が基板420の上に配置されている。抵抗層418は誘電材層426の上に配置されており、また、保護層428は抵抗層418の上に配置されている。別法または追加として、保護層428は誘電材層426であってもよい。追加機能層434は保護層428の上に配置されている。別法として、保護層428の代わりに追加機能層434を使用することも可能であり、それにより保護層428が除去される。追加機能層434は、本開示の精神および範囲内で多数の構成および/または機能を有することができる。例えば、追加機能層434は、とりわけ抵抗温度検出器(RTD)温度センサ等のセンサ層、接地シールド、静電シールドまたは無線周波数(RF)シールドであってもよい。追加機能層434は、任意選択で、その上に配置された外部保護層438を有することができる。
上で説明した形態の場合と同様、層426、418、428、434、438は、必要に応じて基板420の複数の表面に提供することができる。さらに、任意選択で導体422を提供し、抵抗層418を電力源(図示せず)に接続することも可能である。また、いくつかの用途では、誘電材層426または保護層428、434を省略することができ、また、残りの層426、418、428、434、438のうちの1つをテープの形態で提供することも可能である。
図6Aを見ると、積層抵抗装置516が示されている。積層抵抗装置516は基板520を含み、基板520は、その上に配置された誘電材テープを含む誘電材層526、および誘電材層526の上に配置された抵抗層518を有する。図に示されている基板520は管状の形状を有するが、基板520のこの形状は単に例示的なものにすぎず、基板520は、任意の数の様々な形状および/またはサイズを有することができる。導体522は、抵抗層518と電力源(図示せず)の間の電気連絡を提供しているが、この導電層522は、必要に応じて省略することができる。ほとんどの用途では、抵抗層518は保護層によって覆われることになる。基板520は分割スリーブ構成を有しており、スロット538が基板520の中に提供され、基板520の長さに沿って展開している。スロット538は、抵抗装置516を容易にターゲットの中に挿入し、或いはターゲットの周囲に置くことができるよう、嵌合を改善するべく抵抗装置516の若干の変形を許容している。
図6Bを見ると、抵抗層518の上に配置された保護層528を有する積層抵抗装置516が示されている。本明細書において示されているように、保護層528は、誘電材層526と同様、誘電材テープの単一層を含む。別法として、保護層528は、複数の層で形成することができ、或いはとりわけスクリーン印刷、スプレー方式、ローリング、転写印刷、ゾル−ゲルまたは溶射等のその他の積層プロセスによって形成することも可能である。
抵抗層518は保護層528によって覆われているが、導体522は保護層528によって覆われていない。導体522は、それらがリード線から抵抗層518へ電流を流すことができるよう露出している。一代替形態では導体522を省略することができ、回路内でさらに接続することができるよう、抵抗層518自体を保護層528から突出させることができる。導体522または抵抗層518は、図に示されているように保護層528の端529の近くで露出させることができ、或いは本発明の精神および範囲を逸脱することなく、保護層528内の開口(図示せず)を介して露出させることができる。
図に示されている層526、518は、基板520の外部表面に配置されているが、これらの層526、518は、基板520の内部表面に提供することも可能である。さらに、いくつかの用途では誘電材層526を省略することができ、また、基板520の上に抵抗層518および保護層528を加えることができることについても理解されたい。
図7Aを見ると、その他の積層抵抗装置616が示されている。積層抵抗装置616は円筒状構成を有しており、また、基板620、基板620の上に配置された誘電材テープを含む誘電材層626、および誘電材層626の上に配置された抵抗層618を含む。誘電材層626および抵抗層618は、図7Aに示されているように、基板620の内部表面617および外部表面619の両方に配置してよく、またはこれら表面617、619のうちのいずれか一方のみに配置してよい。導体622は、抵抗層618と電力源(図示せず)の間の導電用であるが、この導体622は、必要に応じて省略できる。大半の用途で、抵抗層618は保護層によって覆われるだろう。抵抗層618は螺旋パターンを有するが、抵抗層618は、本開示の精神および範囲内で任意の望ましいパターンを有することができる。前記のとおり、誘電材層626は省略することができ、また、抵抗層618および/または保護層(図示せず)はテープの形態で付与できる。
抵抗装置616の先端部642は、抵抗装置616が意図されている特定の用途に応じて、基端部644と同様に開放することができ、或いは閉じることも可能である。例えば、閉じた構成の場合、抵抗装置616は、先端部642および/または基端部644に取り付けられたキャップ(図示せず)を含むことができる。
図7Bを見ると、その他の積層抵抗装置716が示されている。積層抵抗装置716は基板720を含み、基板720は、その内部表面に配置された誘電材テープを含む誘電材層726を有する。比較的正方形に近いパターンを有する抵抗層718が誘電材層726の上に配置されている。この抵抗層718は、本明細書において示されている比較的正方形に近いパターンに必ずしも限定されず、本開示の精神および範囲内で任意の適切なパターンで形成することができる。
上で説明した形態と同様、層718、726は、必要に応じて基板720の複数の表面に提供することができる。さらに、任意選択で導体(図示せず)を使用して抵抗層718を電力源(図示せず)に接続することも可能である。また、いくつかの用途では誘電材層726を省略することができ、また、抵抗層718および/または保護層(図示せず)はテープの形態で提供することも可能である。
図8を見ると、その他の積層抵抗装置816が示されている。この形態では、積層抵抗装置816は円錐形を成す。積層抵抗装置816は、基板820、基板820の上に配置された誘電材テープを含む誘電材層826、および誘電材層826の上に配置された抵抗層818を含む。誘電材層826および抵抗層818は、図7Aに示されているように、基板820の内部表面817および外部表面819の両方に配置することができ、或いはこれらの表面817、819のうちのいずれか一方にのみ配置することができる。導体822は、抵抗層818と電力源(図示せず)の間の電気連絡を提供しているが、この導体822は、必要に応じて省略することができる。ほとんどの用途では、抵抗層818は保護層によって覆われることになる。抵抗層818は螺旋パターンを有するが、抵抗層818は、本開示の精神および範囲内で任意の望ましいパターンを有することができる。いくつかの用途では誘電材層826を省略することが可能であり、また、抵抗層818および/または保護層(図示せず)はテープの形態で提供することができる。
図9Aを見ると、さらにその他の積層抵抗装置916が示されている。積層デバイス抵抗916は、平らな円形構成を有する基板920を含む。基板920は、その上に配置された、誘電材テープを備えた誘電材層926を有する。抵抗層918は誘電材層926の上に配置されており、また、保護誘電材層928は、誘電材層926の場合と同様に誘電材テープであってもよい抵抗層918の上に配置されている。抵抗層918は、本開示の精神および範囲内で任意の数のパターンを有することができ、或いはパターンを全く有さないことも可能であり、また、連続した層にすることも可能である。さらに、誘電材層926を省略することも可能であり、また、抵抗層918および/または保護層928はテープの形態で提供することができる。
基板920は、切抜き930およびノッチまたはスロット932を有する。このような切抜き930およびノッチまたはスロット932を提供することにより、様々な使い方の中でも、とりわけ、基板920または層926、918、928を取り付け、或いはこれらを位置決めするための周囲の環境への基板920の嵌合を促進し、或いはセンサ等のデバイスを基板920に取り付けるための周囲の環境への基板920の嵌合を促進することができる。図1〜11に示されている形態のうちのいずれの形態も、同じく切抜き、ノッチまたはスロットを有することができる。切抜き920またはスロット932は、製造プロセスの間、必要に応じて栓をすることができる。
図9Bを見ると、さらにその他の積層抵抗装置1016が示されている。積層抵抗装置1016は、円形凹状形状を有する基板1020を含む。誘電材テープを含む誘電材層1026は、基板1020の内部凹状表面に配置されている。誘電材層1026は、同じく、或いは別法として、基板1020の外部表面に配置することも可能である。螺旋パターンを有する抵抗層1018は、誘電材層1026の上に配置されている。図に示されている抵抗層1018は螺旋パターンを有するが、抵抗層1018は、本開示の精神および範囲内で任意の適切なパターンを有することができる。多くの用途では、抵抗層1018の上に保護層が配置されることになり、また、保護層は誘電材テープを含むことができる。さらに、任意選択で導体(図示せず)を提供し、抵抗層1018を電気接続することも可能である。いくつかの用途では誘電材層1026を省略することができ、また、抵抗層1018および/または保護層はテープの形態で提供することができる。
図9Cを見ると、さらにその他の積層抵抗装置1116が示されている。積層抵抗装置1116は、円形凸状形状を有する基板1120を有する。誘電材テープを含む誘電材層1126は、基板1120の外部凸状表面に配置されている。誘電材層1126は、同じく、或いは別法として、基板1120の内部表面に配置することも可能である。螺旋パターンを有する抵抗層1118は、誘電材層1126の上に配置されている。図に示されている抵抗層1118は螺旋パターンを有するが、抵抗層1118は、本開示の精神および範囲内で任意の適切なパターンを有することができることを理解されたい。多くの用途では、抵抗層1118の上に保護層が配置されることになり、保護層は誘電材テープを含むことができる。さらに、上で説明した形態と同様、任意選択で導体(図示せず)を提供し、抵抗層1118を電気接続することも可能である。いくつかの用途では誘電材層1126を省略することができ、また、抵抗層1118および/または保護層はテープの形態で提供することができる。
図10を見ると、さらにその他の積層抵抗装置1216が示されている。積層抵抗装置1216は、平らな長方形構成を有する基板1220を有する。基板1220は、別法として、本発明の精神および範囲を逸脱することなく任意のその他の形状を有することも可能である。基板1220は、その上に配置された、誘電材テープを含む誘電材層1226を有する。抵抗層1218は誘電材層1226の上に配置されており、また、保護層1228は、同じく誘電材テープを含むことができる抵抗層1218の上に配置されている。抵抗層1218は、本開示の精神および範囲内で任意のパターンを形成することができる。抵抗層1218は、抵抗層1218を電力源に電気接続するように構成された導体1222に接続されているが、これらの導体1222は、必要に応じて省略することができる。いくつかの用途では誘電材層1226を省略することができ、また、抵抗層1218および/または保護層1228はテープの形態で提供することができる。
図11を見ると、さらにその他の積層抵抗装置1316が示されている。積層抵抗装置1316は、オープン・ボックス即ちバフェット・トレイ形状を有する基板1320を有する。誘電材テープを含む誘電材層1326は基板1320の上に配置されている。抵抗層1318は誘電材層1326の上に配置されている。抵抗層1318は、本開示の精神および範囲内で任意の適切なパターンを形成することができる。多くの用途では、抵抗層1318の上に保護層が配置されることになり、この保護層も誘電材テープを含むことができる。抵抗層1318は、任意選択で、その他の電気接続のための導体(図示せず)に接続することも可能である。
層1326、1318は、必要に応じて、オープン・ボックス形の基板1320の内側および外側への提供を含み、基板1320の複数の表面に提供することができる。上で説明した形態の場合と同様、誘電材層1326は省略することが可能であり、また、抵抗層1318および/または保護層はテープの形態で提供することができる。
次に図12を見ると、積層抵抗装置を形成するプロセス1450が示されている。プロセス1450には、基板またはターゲットの上に誘電材層を形成する第1のステップ1452であって、誘電材層が単一層である誘電材テープを成し、誘電材テープが、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て基板に積層されるステップが含まれている。方法1450には、さらに、誘電材層の上に抵抗層を形成する第2のステップ1454が含まれている。方法1450には、さらに、抵抗層の上に保護層を形成する第3のステップ1456が含まれている。
プロセス1450と共に使用するために、基板は、とりわけ、上で説明した管状形状、スロットが施されたスリーブ形状、円形形状、凹状形状、凸状形状、平形形状、長方形形状または多角形形状等の任意の適切な形状で提供することができる。また、誘電材層は、任意の適切なターゲットの上に積層することも可能であり、必ずしも基板を使用する必要はない。
本開示のプロセスと共に使用するための誘電材テープは、上で説明したように所望の厚さで提供することができる。テープは、誘電材テープを基板またはターゲットに積層する前に、所望のサイズに予め切断しなければならない。誘電材テープは、位置決めツールを使用して、或いは手動で位置決めすることによって基板またはターゲットの上に位置決めすることができる。同じく、或いは別法として、本開示の精神および範囲内で、誘電材テープを位置決めするための任意のその他の適切な方法を使用することも可能である。
誘電材テープは、本開示の精神および範囲内で、様々な方法で基板またはターゲットに積層することができる。以下、誘電材テープを積層する好ましいプロセスについて説明する。
図13A〜13Dを見ると、予め切断済みの一片の誘電材テープを円筒状基板に積層するプロセスが示されている。図に示されている基板は円筒状であるが、基板は、本開示の精神および範囲内で、一例として上で説明したようなその他の構成を有することができる。
図13Aを見ると、誘電材テープ1526の単一層が手動で基板1520の周囲に位置決めされている。言い換えると、オペレータが誘電材テープ1526を基板1520の周囲に保持している。また、本開示の精神および範囲を逸脱することなく、一例として自動化装置/ツールまたはロボット方法等の任意のその他の適切な方法を使用して基板1520の周囲に誘電材テープ1526を位置決めすることができることが企図されている。また、任意選択で、基板1520の両端1517、1519にキャップ(図示せず)を取り付け、それにより、以下でさらに詳細に説明するプロセス・サイクルの間、一様な圧力を容易に印加することができる。
図13Bを見ると、誘電材テープ1526をその周囲に保持している基板1520が膨張した膜1550の遠位外部表面1548に置かれている。図13Cを見ると、膜1550の基端部1554の開口1552から膜が収縮するにつれて、基板1520および誘電材テープ1526が膜1550の中に挿入され、それにより膜1550の遠位外部表面1548が膜1550の中へ押し込まれる。言い換えると、膜1550が収縮し、かつ、基板1520および誘電材テープ1526が同時に膜1550の中に挿入される。基板1520および誘電材テープ1526が膜1550によって完全に包まれると、膜1550を完全に収縮させることができる。
図13Dを見ると、基板1520の周囲で膜1550が裏返っている。言い換えると、膜1550が収縮した後の、かつ、膜1550が裏返しになる前に、膜1550の2つの層が基板1520の両側を取り囲み、次に、外側の層が基板1520の周囲で裏返しになり、それにより膜1550の一方の層のみが基板1520の両側を取り囲む。基端部1554で膜1550の一部を切断し、基板1520の周囲での膜1550の反転を促進することができる。この後、膜1550は、基板1520の周囲で密閉されることが好ましい。膜1550は、任意の適切な方法で密閉することができる。一例として、膜1550は、結び目を縛ることによって、またはクランプ閉めすることによって、或いは熱融着させることによって密閉することができる。
膜1550が基板1520および誘電材テープ1526の周囲で裏返しになり、かつ、密閉されると、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルが基板1520および誘電材テープ1526に適用され、それにより誘電材テープ1526が基板1520に積層される。この膜1550によって、誘電材テープ1526の外部表面に一様な圧力を容易に印加することができる。円筒状基板1520の末端1517、1519にキャップ(図示せず)が任意選択で挿入されている場合、それらによって、末端1517、1519の近傍の誘電材テープ1526の外部表面に一様な圧力を容易に印加することができる。このような一様な圧力を印加することにより、実質的に一様な厚さおよび付着力で誘電材テープ1526が基板1520に積層される。
圧力、温度および時間サイクルは、静液圧プレスを使用して適用することができ、或いはその他の適切な方法でこのサイクルを適用することができる。一例として、このサイクルを適用するためのその他の適切な方法には、静液圧プレスまたは静水圧プレスの使用がある。静液圧プレスは、高圧封じ込め容器内でコンポーネントに温度および均衡圧力の両方を印加する。圧力を印加するために使用される媒体は、アルゴン等の不活性ガスであっても、水等の液体であっても、或いは任意のその他の適切な媒体であってもよい。圧力が均衡であるため、あらゆる方向からそのコンポーネントに圧力が印加される。
一形態では、印加される圧力は、約344,800Paから約6,895×10Pa(約50psiから約10,000psi(ポンド・パー・スクエア・インチ)の範囲であり、印加される温度は、約40℃から約110℃の範囲であり、また、温度および圧力を印加するためのサイクルの時間の長さは、約5秒から約10分の範囲である。印加される特定の圧力、温度および時間は、部品のサイズおよび材料の特性で決まる。サイクルが完了すると、膜1550から基板1520を除去することができる。誘電材テープ1526が取り付けられた基板1520は、この後、炉の中で焼成されることが好ましい。本明細書において参照されているように、焼成プロセスには、一例として、個別バーン・アウトおよび焼成プロセス等の複数のステージを含むことができる。
次に図14A〜14Cを見ると、上で説明したプロセスの変形形態が開示されている。図14A〜14Cのプロセスを使用して、円筒状基板1620の内部表面に誘電材テープ層を積層することができる(図13A〜13Dのプロセスは、円筒状基板1520の外部表面に誘電材テープ層1526を積層するために使用された)。
図14A〜14Cのプロセスには、中空円筒状基板1620の内部表面に誘電材テープ層を位置決めするステップが含まれている。図14Aを見ると、流体媒体を含む膨張可能なマンドレル1660が、しぼんだ状態の円筒状基板1620の中空中心に挿入されている。次に、マンドレル1660が、自動または手動のいずれかによって膨張状態に移動し、それによりマンドレル1660が膨張状態へ移行する。膨張状態では、マンドレル1660の形状は基板1620の内部表面の形状と一致している。
マンドレル1660には流体媒体が充填されていることが好ましいが、別法として、マンドレルには本開示の精神および範囲内で任意のその他の適切な媒体を充填することができる。マンドレル1660には、ゴム、粘土、水、空気、油または米国特許第6713624号に開示されている、Play−Doh(登録商標)の商標で販売されているようなデンプン系モデリング化合物から選択される流体が充填されていることがより好ましい。
マンドレル1660は弾性的に従順であることが好ましい。本明細書において使用されているように、「弾性的に従順である」という用語は、マンドレル1660が、顕著な欠陥または実質的な欠陥がマンドレルの外部表面に出現しないよう、塑性変形することなく、処理後の誘電材料の表面からその元の形状に復帰することを意味するものとして解釈すべきである。マンドレル1660は、その外部表面として風船等の膜を含むことができ、或いはマンドレル1660は、任意の適切な材料で形成された外部表面を有することができる。図14A〜14Bに示されているように、マンドレル1660がその外部表面として膜を含む場合、マンドレル1660は、その開口の近傍の端部1664で縛られた結び目1662を有することができ、それによりマンドレル1660内に流体媒体を確実に保持することができる。マンドレル1660は、同じく、或いは別法として、任意のその他の適切な方法で密閉することも可能であり、例えばクランプ閉めすることによって、または熱融着させることによって、或いは開口のないマンドレルを提供する(言い換えると、膜を製造するプロセスの間に、媒体の周囲に膜を形成する)ことによって密閉することができる。
図14Bを見ると、その内部表面と形状が一致し、かつ、誘電材テープを保持しているマンドレル1660を有する基板1620が膨張可能な膜1650の遠位外部表面1648に置かれており、膜1650が収縮するにつれて膜1650の中に挿入されている。膜1650は、膜1650の基端部1654の開口1652から収縮する。基板1620およびマンドレル1660が膜1650によって完全に包まれると、膜1650を完全に収縮させることができる。
図14Cを見ると、基板1620の周囲で膜1650が裏返っている。言い換えると、膜1650が収縮した後の、かつ、膜1650が裏返しになる前に、膜1650の2つの層が基板1620の両側を取り囲み、次に、外側の層が基板1620の周囲で裏返しになり、それにより膜1650の一方の層のみが基板1620の両側を取り囲む。基端部1654で膜1650の一部を切断し、基板1620の周囲での膜1650の反転を促進することができる。
膜1650が基板1620、マンドレル1660および誘電材テープ(図示せず)の周囲で裏返しになると、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルが基板1620、マンドレル1660および誘電材テープに適用され、それにより、図13A〜13Cを参照して上で説明した方法と実質的に同じ方法で誘電材テープが基板1620に積層される。この膜1650によって、誘電材テープの外部表面に一様な圧力を容易に印加することができる。このような一様な圧力を印加することにより、実質的に一様な厚さおよび付着力で誘電材テープが基板1620に積層される。圧力、温度および時間サイクルは、静液圧プレスを使用して適用することができ、或いはその他の適切な方法でこのサイクルを適用することができる。サイクルが完了すると、膜1650から基板1620を除去することができる。誘電材テープが取り付けられた基板1620は、この後、炉の中で焼成されることが好ましい。
次に図15A〜15Fを見ると、袋プレス(ブラッダー・プレス)を使用して基板の表面に誘電材テープを積層するプロセスが示されている。図15Aを見ると、誘電材テープ1726の単一層が円筒状基板1720の少なくとも1つの表面に置かれている。第1組立体1770は基板1720に向かって移動する。第1組立体1770は、膨張した状態としぼんだ状態の間を移動することができる第1袋1772を有する。第1組立体1770が基板1720に向かって移動すると、第1袋1772は必ずしぼんだ状態になる。
図15Bを見ると、第1袋1772は、円筒状基板1720の中央に挿入されている。図15Cを見ると、流体媒体が第1袋1772の中に放出即ち挿入され、それにより第1袋1772が膨らんで膨張した状態になる。流体媒体は、水、空気または任意のその他の適切な媒体を含むことができる。膨張した状態になり、かつ、円筒状基板1720の中央に挿入されると、第1袋1772は、第1組立体1770が移動すると基板1720が第1組立体1770と共に移動するよう、つまり第1組立体1770によって持ち上げられるよう、基板1720の内部表面に強く押し付けられる。言い換えると、膨張した状態では、第1袋1772と基板1720が係合し、基板1720が第1袋1772にしっかりとつかまれる。
図15Dを見ると、第1組立体1770および付随する基板1720が第2組立体1776に向かって移動している。第2組立体1776は、しぼんだ状態と膨張した状態の間を移動することができる第2袋1778を有する。第1組立体1770が第2組立体1776に向かって移動すると、第2袋1778は必ずしぼんだ状態になる。
図15Eを見ると、基板1720が第2組立体1776の中に挿入されており、一方、第1組立体1770は、基板1720に取り付けられた状態を維持しており、また、第1袋1772は、膨張した状態を維持している。図15Fを見ると、空気または水等の流体媒体が第2袋1778の中に放出即ち挿入され、それにより第2袋1778が膨らんで膨張した状態になる。膨張した状態では、第2袋1778と基板1720の外部表面が係合する。基板1720の外部表面に誘電材テープが提供されている場合、膨張した状態では、第2袋1778と誘電材テープが係合し、誘電材テープが基板1720の外部表面に押し付けられることになる。
第1組立体1770、第2組立体1776および基板1720を含むアセンブリ1780全体が加圧容器の中に密閉される。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルが上で説明した範囲内で適用される。袋1772、1778は、単一の圧力、温度および時間サイクルの間、膨張した状態を維持する。アセンブリ1780から基板1720が除去されると、誘電材層が取り付けられたこの基板1720は、炉の中で焼成されることが好ましい。
図15G〜15Hを見ると、袋プレスを使用して基板に誘電材テープを積層するその他のプロセスが示されている。図15Gを見ると、誘電材テープ1727の単一層が基板1721の少なくとも1つの表面に置かれている。図15G〜15Hに示されている基板1721は平らな基板1721であるが、基板1721は、本発明の精神および範囲を逸脱することなくその他の構成を有することができる。
基板1721および誘電材テープ1727は、袋1779間の袋組立体1777内に置かれている。袋1779は、しぼんだ状態と膨張した状態の間を移動することができる。基板が袋組立体1777の中へ移動すると、袋1779は必ずしぼんだ状態になる。
図15Hを見ると、空気、水または任意のその他の適切な媒体を含んだ流体媒体が袋1779の中に放出即ち挿入され、それにより袋1779が膨らんで膨張した状態になる。膨張した状態では、袋1779と誘電材テープ1727および基板1721が係合し、誘電材テープ1727が基板1721の1つまたは複数の表面に押し付けられる。袋組立体1777、基板1721および誘電材テープ1727を含むアセンブリ1781全体が加圧容器の中に密閉される。圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルが上で説明した範囲内で適用される。袋1779は、圧力、温度および時間の単一サイクルの間、膨張した状態を維持する。アセンブリ1781から基板1721が除去されると、誘電材層が取り付けられたこの基板1721は、炉の中で焼成されることが好ましい。
図16を見ると、基板1820に誘電材テープ1826を積層するためのさらにその他のプロセスが示されている。図に示されている基板1820は平らな長方形の基板であるが、このプロセスは、円形の平らな基板等の任意の形状を有する平らな基板に適している。誘電材テープ1826は基板1820の上に位置決めされており、これらはいずれもプラスチック・バッグ1882の中に挿入されている。バッグ1882は、バッグ1882がテープ層1826および基板1820にぴったりとくっつくよう、密閉され、かつ、真空が印加されている。また、誘電材テープ1826または基板1820のいずれか一方の面または両面に受板を挿入することも可能であり、それにより容易に圧力を一様に分布させることができる。さらに、この受板により、複数の基板1820をバッグ1882に挿入することができる。この形態の場合、誘電材テープ1826がその上に配置された個々の基板1820を、それらの基板1820を互いに分離している受板を使用して積み重ねることが可能になる。この後、圧力、温度および時間サイクルをバッグ1882内の基板1820に適用して、上で説明したパラメータを印加し、それにより基板1820に誘電材テープ1826を積層することができる。必ずしもその必要はないが、静液圧プレスを使用して圧力、温度および時間サイクルを適用することができる。誘電材層が取り付けられたこの基板1820は、この後、炉の中で焼成されることが好ましい。
図17A〜17Bを見ると、基板1920の内部表面に誘電材テープ層を積層するためのその他のプロセスが示されている。このプロセスには、予め切断された一片の誘電材テープを基板1920の内部表面に位置決めするステップが含まれている。図17Aを見ると、このプロセスには、さらに、ゴム・マンドレル1960を基板1920の中に挿入するステップが含まれている。マンドレル1960は予熱することが可能であり、それにより積層プロセスを容易にすることができる。同じく、或いは別法として、基板1920および/または誘電材テープもオーブンを使用して予熱することができる。図17Bを見ると、このプロセスには、力印加表面1984と反応表面1986の間にマンドレル1960をはさむことによってゴム・マンドレル1960に力を印加するステップが含まれている。別法として、両方の表面1984、1986を使用してマンドレル1960に力を印加することも可能である。この時、適切な期間の間、温度を加え、かつ、力を印加することができる。誘電材層が取り付けられたこの基板1920は、この後、炉の中で焼成されることが好ましい。
図18A〜18Bを見ると、平らな基板2020に誘電材テープ層2026を積層するためのプロセスが示されている。誘電材テープ層2026は、サーマル・ローラまたはダイ2090を使用して基板2020に積層される。基板2020および誘電材テープ層2026は、小型バッチ・オーブン等のオーブンを使用して予熱されることが好ましい。基板2020および誘電材テープ層2026は、約40℃から約110℃の範囲の温度に加熱されることが好ましいが、好ましい温度は、材料によって様々に変化する。誘電材テープ層2026は基板2020の上に位置決めされ、一組のダイ2090を通して圧延される。誘電材テープ層2026は、基板2020の一方の面または両面に位置決めすることができる。ローラまたはダイ2090は、約40℃から110℃の範囲の温度に加熱されることが好ましく、約110℃の温度に加熱されることがより好ましい。一形態では、Mylar(登録商標)シート(図示せず)をダイ2090と基板2020の間に置くことができる。この一組のダイ2090によって積層されると、誘電材層2026が取り付けられた基板2020は、炉の中で焼成されることが好ましい。
図19A〜19Bを見ると、基板2120に誘電材テープ層2126を積層するためのその他のプロセスが示されている。この形態では、基板2120は、スロットまたはノッチを有していても、或いは有さずともよい管状形状を有する。基板2120および誘電材テープ層2126は、小型バッチ・オーブン等のオーブンを使用して、約40℃から約110℃の範囲の温度に予熱されることが好ましいが、好ましい温度は、材料によって様々に変化する。誘電材テープ層2126は基板2120の上に位置決めされ、また、基板2120はローラまたはダイ2190の上を滑っている。次に、ローラ2190がぴったりと合わされ、基板2120および誘電材テープ層2126がローラ2190を通して圧延される。ローラまたはダイ2190は、約40℃から110℃の範囲の温度に加熱されることが好ましく、約110℃の温度に加熱されることがより好ましい。一形態では、Mylar(登録商標)シート(図示せず)をダイ2190と基板2120の間に置くことができる。この一組のダイ2190によって積層されると、誘電材層2126が取り付けられた基板2120は、炉の中で焼成されることが好ましい。
上で説明した様々なプロセスでは、抵抗層は、誘電材テープ層が基板に積層された後に誘電材テープ層に加えることができる。抵抗層は、薄膜、厚膜、溶射またはゾル−ゲル等の積層プロセスを使用して誘電材層の上に形成することができ、これは、すべて、上で説明した通りである。
次に、薄膜、厚膜、溶射またはゾル−ゲル等の積層プロセスによって、この抵抗層の上に保護層を形成することができる。別法として、この保護層は、図13A〜19Bに関連して説明したプロセスによって加えることができる厚膜誘電材テープであってもよい。言い換えると、この保護層は、抵抗層に積層された誘電材テープ層であってもよい。
別法として、誘電材テープ層が基板またはターゲットに積層された後に抵抗層および保護層を加えるために、誘電材テープ層の上に予め抵抗層、保護層および/または導体を形成することも可能である。言い換えると、誘電材テープが基板またはターゲットに積層される前に、誘電材テープの上に抵抗層、保護層および/または導体を形成することができる。また、この形態の場合、ノッチ、切抜きまたはスロットは、1つまたは複数の誘電材テープ層および誘電材テープ層に取り付けられた任意のその他の機能層の中に予め切断し、或いはこれらの層を貫通して予め切断することも可能である。
本開示は、その性質が単に例示的なものにすぎず、従って本開示の骨子から逸脱しない変形形態は、本開示の範囲内であることが意図されている。このような変形形態を本開示の精神および範囲から逸脱するものと見なしてはならない。

Claims (39)

  1. 抵抗装置を形成する方法において、
    基板の上に誘電材層を形成するステップであって、前記誘電材層が単一層である誘電材テープを成し、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記誘電材テープが前記基板に積層されるステップと、
    前記誘電材層の上に抵抗層を形成するステップと、
    前記抵抗層の上に保護層を形成するステップとを含む抵抗装置を形成する方法。
  2. 前記誘電材テープが一組のダイを通した圧延によって前記基板に積層される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  3. 前記誘電材テープが静液圧プレスを使用して前記基板に積層される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  4. 前記基板を誘電材テープの前記層と共に膨張した膜の遠位外部表面に置くステップと、
    前記基板が同時に前記膜内に挿入されている間、基端部で前記膜を収縮させるステップと、
    前記基板が前記膜の中に完全に挿入されると前記膜を裏返しにするステップとによって、前記誘電材テープが前記基板に積層される請求項3に記載された抵抗装置を形成する方法。
  5. 前記誘電材テープが、袋プレスを使用して前記基板に積層される請求項3に記載された抵抗装置を形成する方法。
  6. 前記誘電材テープが、
    前記基板の少なくとも1つの表面の近傍に第1袋を置くステップと、
    前記第1袋が前記基板と係合して前記基板をしっかりとつかむよう、前記第1袋を膨張させるステップと、
    前記基板の他の表面が第2袋の近傍に配置されるよう、前記第1袋を前記基板と共に前記第2袋へ移動させるステップと、
    前記第2袋と前記基板が係合するよう、前記第2袋を膨張させるステップと、
    圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルの間、前記第1袋および前記第2袋の前記膨張を維持するステップとによって前記基板に積層される請求項5に記載された抵抗装置を形成する方法。
  7. 前記誘電材テープが膨張可能なマンドレルを使用して前記基板に積層される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  8. 前記膨張可能なマンドレルが、流体媒体が充填された従順な膜を含む請求項7に記載された抵抗装置を形成する方法。
  9. 前記流体媒体が、ゴム、粘土、水、空気、油およびデンプン系モデリング化合物からなるグループから選択される請求項8に記載された抵抗装置を形成する方法。
  10. 前記膨張可能なマンドレルが弾性的に従順である請求項7に記載された方法。
  11. 前記抵抗層が、薄膜、厚膜、溶射およびゾル−ゲルからなるグループから選択される層状プロセスによって形成される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  12. 前記抵抗層が単一層である誘電材テープを含み、前記誘電材テープが圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記誘電材層に積層される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  13. 前記保護層が単一層である誘電材テープを含み、前記誘電材テープが圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記抵抗層に積層される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  14. 前記保護層が、薄膜、厚膜、溶射およびゾル−ゲルからなるグループから選択される層状プロセスによって形成される請求項1に記載された抵抗装置を形成する方法。
  15. 抵抗装置に使用するためのターゲットの上に厚膜材料を形成する方法であって、前記厚膜材料が誘電体の少なくとも1つの層を含み、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記厚膜材料が前記ターゲットに積層される抵抗装置を形成する方法。
  16. 前記厚膜材料が単一層である誘電材テープを含む請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  17. 単一層である誘電材テープが、基板に積層される基部誘電材層を成す請求項16に記載された抵抗装置を形成する方法。
  18. 単一層である誘電材テープが、基部誘電材層および前記ターゲットのうちの一方に積層される抵抗層を成す請求項16に記載された抵抗装置を形成する方法。
  19. 単一層である誘電材テープが、抵抗層に積層される保護層を成す請求項16に記載された抵抗装置を形成する方法。
  20. 前記厚膜材料が、誘電材テープおよび前記誘電材テープの上に配置される抵抗エレメントによって作られるプリフォームを含む請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  21. 前記厚膜材料が、誘電材テープ、前記誘電材テープの上に配置された抵抗エレメント、および前記誘電材テープの上に配置され、且つ、前記抵抗エレメントと電気接触する導体によって作られるプリフォームを含む請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  22. 前記厚膜材料が、誘電材テープ、前記誘電材テープの上に配置された抵抗エレメント、前記誘電材テープの上に配置され、且つ、前記抵抗エレメントと電気接触している導体、および前記導体の上を除く前記抵抗エレメントの上に配置された誘電材テープの保護層によって作られるプリフォームを含む請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  23. 前記厚膜材料が、誘電材テープの保護層および誘電材テープの前記保護層の上に配置された抵抗エレメントによって形成されるプリフォームを含む請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  24. 前記厚膜材料が、誘電材テープの保護層、テープの前記保護層の上に配置された抵抗エレメント、および前記抵抗エレメントと電気接触する導体によって作られるプリフォームを含み、誘電材テープの前記保護層が開口を画成し、前記開口を通して前記導体が露出する請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  25. 前記厚膜材料が一組のダイを通した圧延によって前記ターゲットに積層される請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  26. 前記厚膜材料が静液圧プレスを用いて前記ターゲットに積層される請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  27. 前記厚膜材料が、
    前記ターゲットを前記厚膜材料と共に膨張した膜の遠位外部表面に置くステップと、
    前記ターゲットが同時に前記膜の中に挿入されている間、基端部で前記膜を収縮させるステップと、
    前記ターゲットが前記膜の中に完全に挿入されると前記膜を裏返しにするステップとによって前記ターゲットに積層される請求項26に記載された抵抗装置を形成する方法。
  28. 前記厚膜材料が袋プレスを使用して前記ターゲットに積層される請求項26に記載された抵抗装置を形成する方法。
  29. 前記厚膜材料が、
    前記ターゲットの少なくとも1つの表面の近傍に第1袋を置くステップと、
    前記第1袋が前記ターゲットと係合して前記ターゲットをしっかりとつかむよう、前記第1袋を膨張させるステップと、
    前記ターゲットの他の表面が第2袋の近傍に配置されるよう、前記第1袋を前記ターゲットと共に前記第2袋へ移動させるステップと、
    前記第2袋と前記ターゲットが係合するよう、前記第2袋を膨張させるステップと、
    圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルの間、前記第1袋および前記第2袋の前記膨張を維持するステップとによって前記ターゲットに積層される請求項28に記載された抵抗装置を形成する方法。
  30. 前記厚膜材料が膨張可能なマンドレルを使用して前記ターゲットに積層される請求項15に記載された抵抗装置を形成する方法。
  31. 前記膨張可能なマンドレルが、流体媒体が充填された従順な膜を含む請求項30に記載された抵抗装置を形成する方法。
  32. 前記流体媒体が、ゴム、粘土、水、空気、油およびデンプン系モデリング化合物から成る群から選択される従順な材料から成る群から選択される請求項31に記載された抵抗装置を形成する方法。
  33. 前記膨張可能なマンドレルが弾性的に従順である請求項30に記載された抵抗装置を形成する方法。
  34. 抵抗装置を形成する方法であって、
    基板の上に誘電材層を形成するステップであって、前記誘電材層が単一層である誘電材テープを成し、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記誘電材テープが前記基板に積層されるステップと、
    厚膜層形成プロセスを使用して前記誘電材層の上に抵抗層を形成するステップと、
    前記抵抗層の上に保護層を形成するステップであって、前記保護層が単一層である誘電材テープを含み、圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルを経て前記誘電材テープが前記抵抗層に積層されるステップとを含む抵抗装置を形成する方法。
  35. 前記抵抗層と電気接触している導体を形成するステップをさらに含み、前記導体が前記保護層を貫通して少なくとも部分的に露出している請求項34に記載された抵抗装置を形成する方法。
  36. 前記誘電材テープが、
    前記基板を誘電材テープの前記層と共に膨張した膜の遠位外部表面に置くステップと、
    前記基板が同時に前記膜の中に挿入されている間、基端部で前記膜を収縮させるステップと、
    前記基板が前記膜の中に完全に挿入されると前記膜を裏返しにするステップと
    によって積層される請求項34に記載された抵抗装置を形成する方法。
  37. 前記誘電材テープが、
    前記基板の少なくとも1つの表面の近傍に第1袋を置くステップと、
    前記第1袋が前記基板と係合して前記基板をしっかりとつかむよう、前記第1袋を膨張させるステップと、
    前記基板の他の表面が第2袋の近傍に配置されるよう、前記第1袋を前記基板と共に前記第2袋へ移動させるステップと、
    前記第2袋と前記基板が係合するよう、前記第2袋を膨張させるステップと、
    圧力、温度および時間の予め定められた単一サイクルの間、前記第1袋および前記第2袋の前記膨張を維持するステップと
    によって積層される請求項34に記載された抵抗装置を形成する方法。
  38. 前記誘電材テープが膨張可能なマンドレルを使用して積層される請求項34に記載された抵抗装置を形成する方法。
  39. 前記膨張可能なマンドレルが弾性的に従順である請求項38に記載された抵抗装置を形成する方法。
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