JP4341282B2 - セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば積層セラミックコンデンサなどのセラミック電子部品の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
積層セラミックコンデンサを例に従来のセラミック電子部品の製造方法について説明する。
【０００３】
まず、支持体上にシリコンなどを用いて内部電極形状の離型層を作製する。
【０００４】
次に、支持体上全体に薄膜形成法により、金属膜を作製する。
【０００５】
次いで、セラミックシート上に支持体ごと金属膜を重ね合わせて、支持体上から加熱および加圧することにより離型層上の金属膜のみを転写する。
【０００６】
次いで、支持体を剥離して内部電極付きセラミックシートを得る。
【０００７】
これを所定枚数積層して、積層体を作製する。
【０００８】
その後、積層体を焼成し、外部電極を作製することにより積層セラミックコンデンサを得る。
【０００９】
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献１が知られている。
【００１０】
【特許文献１】
特開平９−２９３６２６号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記方法によると、離型層を設けていない部分の金属膜もセラミックシート上に転写してしまうため、セラミックシートに精度良く内部電極を形成することが困難であるという問題点を有していた。
【００１２】
そこで、本発明は、所望の形状の内部電極を精度良く作製することにより、優れた特性のセラミック電子部品を提供することを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有するものである。
【００１４】
本発明の請求項１に記載の発明は、特に、内部電極形状の樹脂からなる離型層を表面に有する支持体上において前記離型層と前記離型層を設けていない部分との上に金属膜を形成した後、前記金属膜において前記樹脂外周の少なくとも一部に対応するクラックを形成することにより、内部電極となるべき金属膜のみをセラミックシートに転写して作製することができ、優れた特性のセラミック電子部品を提供することができる。
【００１５】
特に、クラックを離型層の外周全体に沿って設けることにより、精度良く内部電極を形成することができる。
【００１６】
また、内部電極となる金属膜の外周を曲線とすることにより、セラミックシートとの接触面積が増加し、両者の接着性を向上させて、デラミネーションなどの構造欠陥の発生を抑制することができる。
【００１７】
また、金属膜形成後、前記金属膜を熱処理して離型層と金属膜との間に空気を挿入することにより、セラミックシート上に精度良く内部電極を形成することができる。
【００１８】
また、内部電極となる金属膜の内側にもクラックを形成することにより、焼成時、積層体中の有機物を容易に除去することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
以下、本発明の実施の形態１を用いて、本発明の特に請求項１〜５について説明する。
【００２０】
図１、図２は本発明の実施の形態１における内部電極形成工程を説明するための上面図、図３は本発明の実施の形態１における積層体作製工程を説明するための断面図であり、１０はポリエチレンテレフタレート製のベースフィルム、１１はベースフィルム１０の上に設けた内部電極形状の離型層、１２は金属膜、１３はセラミックシート、１４は内部電極である。
【００２１】
図４は本実施の形態における積層セラミックコンデンサの一部切欠斜視図であり、２０は誘電体層、２１は外部電極である。
【００２２】
まず、図２に示すようにベースフィルム１０上に内部電極形状の離型層１１を所定の間隔を空けて複数形成する。離型層１１は熱硬化性樹脂であるアクリル系樹脂で形成する。
【００２３】
次に、ベースフィルム１０上に蒸着、スパッタなどによりＮｉの金属膜１２を作製する。
【００２４】
次いで、ベースフィルム１０ごと金属膜１２を１２０℃程度に加熱して、加圧する。
【００２５】
この加熱により、金属膜１２に離型層１１の外周形状つまり内部電極１４の外周形状のクラック１５を設けるとともに離型層１１と金属膜１２との間に空気を挿入し、離型層１１と金属膜１２との接着性を低下させる。また、内部電極１４とならない金属膜１２のベースフィルム１０への付着力も向上させる。
【００２６】
なお、クラック形成のための加熱温度は、ベースフィルム１０及び離型層１１の耐熱性を考慮した上で決定するが、上述した効果を得るためにはできるだけ高温で熱処理することが望ましい。
【００２７】
また、加熱時に加圧することにより、加熱のみの場合と比較するとクラックを形成しやすくなる。
【００２８】
次いで、セラミックシート１３の上に金属膜１２をベースフィルム１０ごと重ね合わせて、１２０℃、１５ＭＰａ加熱及び加圧する。
【００２９】
セラミックシート１３は、チタン酸バリウムを主成分とする無機粉末に、バインダ、可塑剤、溶剤を混合して作製したものである。また、内部電極１４とセラミックシート１３との接着強度を向上させるために、両者の間に接着作用のある樹脂などを設けることが望ましい。
【００３０】
その後、ベースフィルム１０を剥離し、内部電極１４を有するセラミックシート１３を得る。
【００３１】
金属膜１２にクラック１５を形成しているので、不要な金属膜１２まで転写することなく、精度良くセラミックシート１３上に内部電極１４を形成できる。
【００３２】
その後、セラミックシート１３を複数枚積層したものの上に、内部電極１４付きセラミックシート１３を所望の枚数積層し、再びセラミックシート１０のみを複数枚積層し、積層体を得る。
【００３３】
そして、積層体を所望の形状に切断後、脱脂、焼成する。
【００３４】
脱脂は、大気中３５０℃で行い、焼成は、Ｎ₂，Ｈ₂の還元雰囲気中、最高温度１２５０℃で行う。還元雰囲気は、ニッケルの酸化反応の平衡酸素分圧を上回らず、かつチタン酸バリウムの還元反応の平衡酸素分圧を下回らないようにする。
【００３５】
次に、焼結体の両端部に銅を主成分とする電極ペーストを塗布、焼付を行い、外部電極２１を形成し、図４に示す積層セラミックコンデンサを得る。
【００３６】
この積層セラミックコンデンサは、精度良く内部電極を形成できるので、所望の静電容量など優れた特性を有するものである。
【００３７】
なお、内部電極１４となる金属膜１２の外周形状は曲線である。そのため、セラミックシート１３との接触面積が増加し、接着力を有しない内部電極１４との接着性を向上させて、デラミネーションなどの構造欠陥の発生を抑制することができる。
【００３８】
また、金属膜１２の形成後、熱処理して離型層１１と金属膜１２との間に空気を挿入しているので、セラミックシート１３の上に内部電極１４となる金属膜１２を精度良く設けることができる。
【００３９】
さらに、本実施の形態においては、金属膜１２の熱処理により内部電極１４となる金属膜１２の内側にも微小なクラックを多数形成している。そのため、積層体の脱脂を行う際、この微小クラックから有機物を除去できるため、残留カーボンを低減でき、焼成時の構造欠陥の発生を抑制することができる。
【００４０】
また、上記実施の形態においては、ベースフィルム１０としてポリエチレンテレフタレート、離型層１１としてアクリル樹脂、金属膜１２としてニッケルを用いた。しかしながらこの組み合わせに限るものでなく、内部電極１４を精度良く形成するためのクラックの作製が容易にできるようにベースフィルム１０と離型層１１の材質を決定することが望ましい。
【００４１】
そして、本実施の形態においては積層セラミックコンデンサを例に説明したが、内部電極とセラミックシートとを交互に積層して形成する積層インダクタ、積層バリスタ、積層サーミスタ、積層セラミック基板などの積層セラミック電子部品においては同様の効果が得られる。
【００４２】
【発明の効果】
以上、本発明によると、薄層化した内部電極を精度良く作製できるので、優れた特性のセラミック電子部品を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１におけるセラミックコンデンサの製造方法の要部である内部電極形成工程を説明するための上面図
【図２】同要部である内部電極形成工程を説明するための上面図
【図３】同要部である積層体形成工程を説明するための断面図
【図４】同一部切欠斜視図
【符号の説明】
１０ ベースフィルム
１１ 離型層
１２ 金属膜
１３ セラミックシート
１４ 内部電極
２０ 誘電体層
２１ 外部電極

Claims (1)

1. 内部電極形状の離型層を表面に有する支持体上において前記離型層と前記離型層を設けていない部分との上に金属膜を形成した後、前記金属膜において前記離型層の外周全体に沿ってクラックを形成する第１の工程と、無機粉末と有機物を含有するセラミックシートに前記金属膜を支持体ごと重ね合わせて前記離型層上の前記金属膜を前記セラミックシートに転写して内部電極を形成する第２の工程と、前記セラミックシートと前記内部電極とを交互に積層し積層体を作製する第３の工程と、を備えるセラミック電子部品の製造方法。

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