JP2010519586A - 接着性および耐摩耗性が改善された非反射または反射コーティングで被覆された光学製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
‐少なくとも1つの主面を有する基材を含む光学製品を提供する工程と、
‐その基材の1つの主面上に、露出した表面を有する1層の副層を堆積する工程と、
‐その副層の該露出した表面上に、少なくとも1層の高屈折率層および少なくとも1層の低屈折率層を含む非反射性多層スタックを堆積する工程と、
‐該副層および該多層スタックを含む非反射コーティングで被覆された1つの主面を有する基材を含む光学製品を回収する工程と、
を少なくとも含み、該多層スタックを堆積する前に該副層の露出した表面がイオンボンバードメント処理を施されている方法によって、前述の目的を実現しようと意図する。
実施例で採用される光学製品は、−2.00ジオプターの倍率および1.2mmの厚みを有する直径65mmのORMA(R) ESSILORレンズ基材で、その両面は、GLYMOおよびDMDES、コロイダルシリカおよびアルミニウムアセチルアセトナートの加水分解物を主成分とする、欧州特許第0614957号の実施例3に開示された耐衝撃性および/または耐擦傷性コーティング(ハードコート)(屈折率1.50)、非反射コーティング、最後に防汚性コーティングで被覆されている。
(実施例1〜6)
光学製品を製造する方法は、耐摩耗性コーティングを備えた基材を真空堆積チャンバーに導入すること、高度の真空が生成されるまで排気工程を行い、続いて、気圧2.10−4mBarの下でアルゴンイオンビーム(IPC)によるボンバードメント処理を用いて基材表面活性化工程を行うこと(イオン銃は3,0A−150Vに設定)、イオン照射を止めること、必要な数の非反射コーティング層を順番に蒸発させること、しみ防止コーティング(トップコート)を0.1〜0.2nm/秒の範囲の速度で堆積すること、および最後に換気することからなる。
比較例でも同様の手順を用いた。比較例1および2(実施例C1およびC2)の製品は副層を含まなかった。比較例3〜5(実施例C3〜C5)の製品の副層は酸素雰囲気下で堆積されたが、多層スタックを堆積する前にいかなるイオンプレ洗浄工程も経なかった。
《a.耐摩耗性の特徴》
耐摩耗性の評価は、副層(例えば、実施例C1およびC2を除く)および多層スタックを備えた基材上のバイエル値を決定することによって行った。
そのようなバイエル値の決定は、ASTM規格F735.81に従って行われた。バイエルテスト値が高くなればなるほど、耐摩耗性が強くなる。
このようなバイエル値の決定を、以下の変更を加えたASTM規格F735−81に従って行った。
「n×10ブロー」テストとして知られる定性テストによって、基材上に堆積された膜の接着性、特に眼用レンズの基材に対する非反射コーティングの接着性を評価することができる。それは、国際公開第99/49097号に記載された手順に従って変形度50でレンズの凸面に対して行われる。
実施例1〜5および比較例1〜5で得られた光学製品の組成は、後続ページの表1において詳述されている。この表はまた接着性、透過性および耐摩耗性の測定結果をも含む。
(a)次の層を堆積する前のイオンボンバードメント処理
(b)堆積中の酸素の供給
(a)次の層を堆積する前のイオンボンバードメント処理
(b)堆積中の酸素の供給
Claims (25)
- 非反射性または反射性を有する光学製品の製造方法であって、
‐少なくとも一つの主面を有する基材を含む光学製品を提供する工程と、
‐該基材の一つの主面上に、露出した表面を有する1層の副層を堆積する工程と、
‐該副層の該露出した表面上に、少なくとも1層の高屈折率層および少なくとも1層の低屈折率層を含む非反射性または反射性の多層スタックを堆積する工程と、
‐該副層および該多層スタックを含む、非反射コーティングまたは反射コーティングで被覆された1つの主面を有する基材を含む光学製品を回収する工程と、
を少なくとも含み、
該多層スタックを堆積する前に、該副層の露出した表面がイオンボンバードメント処理をされていて、該副層の堆積が、該堆積中に気体が供給される真空チャンバーで行われる製造方法。 - 前記光学製品が非反射性を有する製品である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記気体が、アルゴン、クリプトン、キセノン、ネオン、酸素、窒素およびそれらの混合物から選択される、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記基材の表面が、前記副層を堆積する前に、真空下で行われる高エネルギー化学種のボンバードメント処理、コロナ放電処理、イオン破砕またはプラズマ処理から選択される、副層の接着性を増加させるための処理を施される、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記副層の接着性を増加させるための処理がイオンボンバードメント処理である、請求項4に記載の製造方法。
- 前記副層が、厚みが好ましくは75nm以上、より好ましくは80nm以上、さらに好ましくは100nm以上、いっそう好ましくは150nm以上である、SiO2を主成分とする層を含む、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記副層が前記SiO2を主成分とする層からなる、好ましくはSiO2層からなる、請求項6に記載の製造方法。
- 前記SiO2を主成分とする層がAl2O3を含まない、請求項6または7に記載の製造方法。
- 前記副層が、厚みが75nm以上でAl2O3を含まないSiO2層と、基材とこのAl2O3を含まないSiO2層との間に挿入された3層以下の層と、を含む請求項6に記載の製造方法。
- 前記副層のSiO2を主成分とする層またはSiO2層が多層スタックと直接接触する、請求項6〜9のいずれかに記載の製造方法。
- 前記副層のSiO2を主成分とする層またはSiO2層の堆積が、高エネルギー化学種による処理を付随せずに、好ましくはいかなるイオン支援も伴わずに、行われる請求項6〜10のいずれかに記載の製造方法。
- 高エネルギー化学種による処理工程が、非反射コーティングまたは反射コーティングの多様な層を1層以上堆積するのに付随して行われる請求項1〜11のいずれかに記載の製造方法。
- 多層スタックの低屈折率層の堆積が、真空チャンバー内で、該堆積中真空チャンバー内に気体を供給しないで行われる、請求項1〜12のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多層スタックのすべての低屈折率層がSiO2およびAl2O3の混合物を含む、好ましくはSiO2およびAl2O3の混合物からなる、請求項1〜13のいずれかに記載の製造方法。
- 前記SiO2およびAl2O3の混合物を含む層が、これらの層中のSiO2+Al2O3の総質量に対して、1〜10質量%の、好ましくは1〜5質量%の、Al2O3を含む、請求項14に記載の製造方法。
- すべての非反射性または反射コーティング層が真空蒸着によって堆積される、請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多層スタックの高屈折率層が、TiO2、PrTiO3、ZrO2およびその混合物から選択される少なくとも一の材料を含む、請求項1〜16のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多層スタックが少なくとも一層の導電層を含む、請求項1〜17のいずれかに記載の製造方法。
- 前記導電層が、酸化インジウム、酸化スズまたは酸化亜鉛およびその混合物から選択される金属酸化物、好ましくは酸化インジウムスズ、を含む、請求項18に記載の製造方法。
- 前記基材が有機または無機ガラスである、請求項1〜19のいずれかに記載の製造方法。
- 前記基材が架橋性材料でできた基材である、請求項1〜20のいずれかに記載の製造方法。
- 前記基材が、アリル系、(メト)アクリラート系、チオ(メト)アクリラート系またはポリ(チオ)ウレタン系の基材である、請求項21に記載の製造方法。
- 前記基材の主面が、耐衝撃性プライマー層、耐摩耗性および/もしくは耐擦傷性層で、または、耐摩耗性および/もしくは耐擦傷性層で被覆された耐衝撃性プライマー層で、被覆される、請求項1〜22のいずれかに記載の製造方法。
- 前記光学製品が光学レンズ、好ましくは眼鏡用レンズである、請求項1〜23のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多層スタックが副層に直接接触する、請求項1〜24のいずれかに記載の製造方法。
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