JP2010518341A - ピストンリング - Google Patents

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Abstract

実質的に周回する摺動面と、上側および下側の側面と、内側の円周面とを有する基体を備えたピストンリングにおいて、少なくとも下側の側面への摺動面の移行領域は、0.1mm以下のエッジを備えており、摺動面は、10μm以下の少なくとも1つのPVD被覆層を備えている。

Description

本発明は、実質的に周回する摺動面と、上側および下側の側面と、内側の円周面とを有する基体を備えたピストンリングに関する。
ドイツ特許出願公開明細書第10207148A1号には、ステンレス鋼からなる基材を含むピストンリングが記載されており、この基材は上側および下側の側面と、摺動面と、内側の円周面とを有している。これらの表面の各々は、その上に形成された窒化物層を含んでおり、各々の窒化物層は、当初は結合層と拡散層を有しており、次いで結合層の除去によって摺動面の拡散層が露出し、引き続いて、露出した拡散層の上に硬質セラミックからなるイオンプレーティング析出層が形成されるようにして構成される。
ピストンリングの下側の摺動エッジの構成は、内燃機関のオイルの経済性に関して大きな意義がある。エンジン作動時に良好な掻き落し作用を引き起こすために、できるだけ小さいエッジを作ることが、ピストンリングの製造における1つの課題である。このように小さくて鋭いエッジは、コーティングされていないリングの場合には比較的容易に作ることができる。しかし、今日では、内燃機関の第1の溝には、コーティングされたリングが基本的に必要とされる。その場合、望ましい小さな機能的なエッジと、破損や亀裂のないコーティングされたエッジとの間で、目的の齟齬が生じる。摩耗防護層を形成するために従来用いられている全ての方法では、ある領域での層の破損や亀裂を回避するために、形成される摩耗防護層の十分な厚さによって、基材におけるエッジの大きさを少なくとも0.15mmにする必要がある。
ドイツ特許出願公開明細書第10207148A1号
小さな摺動エッジを形成するための1つの公知の方法は、全面または片面にチャンバが設けられたリングを用いることである。しかし、このようなリングは摺動面のいずれかの部分が摩耗防護層を備えておらず、その領域ではいわゆる焼け跡が繰り返し形成されるという欠点をもたらす。
本発明の目的は、特に危険な下側の摺動エッジの領域で用いられる摩耗防護層を最適化することによって、摩耗防護層の破損をできるだけ回避するように、ピストンリングを改良することにある。
この目的は、実質的に周回する摺動面と、上側および下側の側面と、内側の円周面とを有する基体を備えたピストンリングであって、少なくとも下側の側面への摺動面の移行領域が0.1mm以下のエッジを備えており、摺動面は、10μm以下の少なくとも1つのPVD被覆層を少なくとも備えているピストンリングによって達成される。
本発明の好ましい発展例は、従属請求項に記載されている。
PVD(Physical Vapour Deposition:物理蒸着)コーティングとは、蒸気相からの析出によって、ピストンリングの摺動面のコーティングを行う方法である。このとき析出すべき被覆材料は、電離した粒子流として存在している。
PVD被覆層は、周期表のIVb族からVIb族までの元素の窒化物をベースとしているのが特に好ましい。Alおよび/またはSiおよび/またはCおよび/またはOの元素を選択的に添加することができる。
ねずみ鋳鉄または鋳鋼からなる基体の場合には、機械加工によってエッジを形成できるという利点がある。特に、引っ張り加工された鋼からなる鋼製リングでは常に丸みを帯びたエッジが生じており、このようなエッジは、後で、各側面への摺動面の移行領域で所望の効果を引き起こすために初めて機械加工が施される。
実質的に同じことが鋳造リングにも当てはまる。好ましいPVD被覆層は、CrNおよび/またはCrONをベースとして構成されている。同じくPVD法で形成される、いわゆるDLC(diamond like carbon:ダイヤモンド ライク カーボン)被覆層が特に好ましい。
本発明により、鋳造材料または鋼材からなるピストンリングに、比較的薄い摩耗防護層を備えた、0.1mmより小さい下側のエッジが設けられる。この摩耗防護層は、ピストンリングの全面的な窒化処理からなるのが好ましいが、それ以外の公知の方法(電気めっきや熱によるコーティング)も考えられる。
それから、この摩耗防護層の上に、10μm以下の厚さの本来のPVD被覆層を形成することができる。多層のPVD層も同様に考えられる。
従来技術とは異なり、具体的に作られる、摺動面から少なくとも下側の側面への移行領域では、少なくともPVD被覆層に関連して、破損や亀裂のないコーティングされたエッジを形成することができる。このような方策により、コーティングされていないリングと同様に、内燃機関のオイルの経済性に肯定的な影響を与えることができる。
全面的な摩耗防護層と摺動面の領域のPVD被覆層とを備えているピストンリングの断面図である。 摺動面の領域にPVD被覆層を備えているピストンリングの断面図である。 図2の下側のエッジ領域を示す図である。
本発明について、図示されている実施形態に基づいて説明する。
図1は、ピストンリング1を断面図で示している。鋼、鋳鋼、またはねずみ鋳鉄からなる基体を有するピストンリング1は、摺動面2と、上側の側面3および下側の側面4と、内側の円周面5とを含んでいる。本例では、ピストンリング1は、その面2,3,4,5の領域に、窒化によって生成された摩耗防護層6を備えているものとする。この摩耗防護層6は、本例では10μmの厚さを有しているものとする。摺動面2の領域では、この摩耗防護層6の上に、本例では8μmの層厚を有する、CrNをベースとして構成されたPVD被覆層7が析出している。他の摩耗防護層6として、熱または電気めっきにより生成された層を用いることもでき、その場合、熱による層は摺動面2だけに形成されるのが好ましいのに対して、電気めっきによる層は摺動層2だけでなく側面3および4にも形成されていてよい。同様に、PVD被覆層7も他の材料、たとえばCrONなどでできていてもよい。当業者は、用途に応じて適切な材料の組み合わせと、必要な層厚とを設定することができる。摺動面2から下側の側面4への移行領域8は、ほぼ鋭いエッジ状に構成されている。
図2は、図1と同様に摺動面2’と、上側の側面3’と、下側の側面4’と、内側の円周面5’とを有するピストンリング1’を示している。本例では、10μmの厚さを有する、CrONをベースとするPVD被覆層7’が摺動面2’上に直接析出している。ピストンリング1’は本例では鋼からなり、摺動面2’から下側の側面4’への移行領域8’は最大0.1mmのエッジを備えている。上に説明したとおり、PVD被覆層7’を生成するために、他の材料を使用することもできる。
図3は、図2の部分図を示している。摺動面2’と、下側の側面4’と、移行領域8’とを見ることができる。ここで形成されているエッジは、図示されているように、摺動面側と側面側で最大0.1mmになっている。少なくともPVD被覆層7’(図2参照)に関連して選択される移行領域8’のエッジ形状によって、内燃機関のオイルの経済性を最適化しながら、この移行領域8’内でできる限り亀裂や破損のないPVD被覆層7’を実現することができる。

Claims (9)

  1. 実質的に周回する摺動面(2,2’)と、上側の側面(3,3’)および下側の側面(4,4’)と、内側の円周面(5,5’)とを有する基体を備えたピストンリングであって、
    少なくとも前記下側の側面(4,4’)への前記摺動面(2,2’)の移行領域(8,8’)は、0.1mm以下のエッジを備えており、前記摺動面(2,2’)は、10μm以下の少なくとも1つのPVD被覆層(7,7’)を備えている、ピストンリング。
  2. 前記基体は、引っ張り加工された鋼、ねずみ鋳鉄、または鋳鋼からなり、前記移行領域(8,8’)は特に機械加工によって作られていることを特徴とする、請求項1に記載のピストンリング。
  3. 前記PVD被覆層(7,7’)はCrNまたはCrONをベースとして構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載のピストンリング。
  4. 前記PVD被覆層(7,7’)は周期表のIVb族からVIb族までの元素の窒化物をベースとし、Alおよび/またはSiおよび/またはCおよび/またはOを添加して、もしくは添加しないで構成されていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のピストンリング。
  5. 前記PVD被覆層(7,7’)は、摩擦と磨耗の少ないPVD−DLC(ダイヤモンド ライク カーボン)層として構成されていることを特徴とする、請求項1から4のいずれか1項に記載のピストンリング。
  6. 前記PVD被覆層(7,7’)は0.5μmから8μmの層厚を有していることを特徴とする、請求項1から5のいずれか1項に記載のピストンリング。
  7. 前記基体は、前記PVD被覆層(7)が上に析出した少なくとも1つの磨耗防止層(6)を有していることを特徴とする、請求項1から6のいずれか1項に記載のピストンリング。
  8. 前記摩耗防止層(6)は、電気めっき、熱、または窒化によって前記基体(2)に形成されていることを特徴とする、請求項1から7のいずれか1項に記載のピストンリング。
  9. 前記摩耗防止層(6)は、30μm以下の厚さ、特に10μmから15μmの厚さを有していることを特徴とする、請求項1から8のいずれか1項に記載のピストンリング。
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