JP2010503170A - コンベアベルトターゲットを備えたeuvプラズマ放電ランプ - Google Patents
コンベアベルトターゲットを備えたeuvプラズマ放電ランプ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010503170A JP2010503170A JP2009527245A JP2009527245A JP2010503170A JP 2010503170 A JP2010503170 A JP 2010503170A JP 2009527245 A JP2009527245 A JP 2009527245A JP 2009527245 A JP2009527245 A JP 2009527245A JP 2010503170 A JP2010503170 A JP 2010503170A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge lamp
- plasma discharge
- electrode
- plasma
- conveyor belt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/62—Lamps with gaseous cathode, e.g. plasma cathode
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
- H05G2/005—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state containing a metal as principal radiation generating component
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【選択図】図2
Description
2…錫浴
3…回転軸線
4…パルスレーザ
5…コンデンサバンク
6…絶縁フィードスルー
7…錫層
8…真空容器
9…ワイパー
10…金属シールド
11…破片緩和ユニット
12…加熱/冷却ユニット
13…整形要素
14…プラズマ
15…コンベアベルト
16…錫浴中の偏向ホイール
17…カバー
18…錫浴外の偏向ホイール
19…容器
20…冷却ローラ
21…キャリアローラ
Claims (15)
- 電気的に動作する放電によって、EUV放射及び/又は軟X線を発生させるプラズマ放電ランプであって、このプラズマ放電ランプが、
− 放電空間内にギャップを形成するように互いに間隔を隔てて配置された、少なくとも2つの電極であって、前記電極の間のガス媒体中に、プラズマのイグニションを生じさせる、上記電極と、
− 前記電極の表面に金属を適用するための金属適用装置と、
− 前記電極は、コンベアベルトから形成され、金属を前記ギャップに搬送するように駆動され、
− それぞれの電極のための整形要素であって、これに接してコンベアベルトが移動するような整形要素がギャップに設けられ、ギャップにおける電極の適切な形状及び距離を確保し、
− エネルギービーム装置であって、ギャップにおける少なくとも1つの前記表面へエネルギービームを導くように適合し、少なくとも部分的に前記適用された金属を蒸発させ、それにより、前記ガス媒体を生成することを特徴とするプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
前記金属適用装置は、溶融金属を収めた2つの容器を備え、それぞれの前記電極は、1つの前記容器に浸されて、前記電極の表面に溶融金属を適用することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
電極は、溶融金属を介して、容器から電源に電気的に接続されていることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
電極は、整形要素を介して、電源に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
整形要素は、ギャップに屈曲面を提供するように形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
整形要素は、円の一部分をなす輪郭を有していることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
容器の外部に、コンベアベルトのための偏向要素がコンベアと共に設けられ、偏向中に溶融金属が離れるのを回避することを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
コンベアベルトは、容器内の溶融金属を通して、数回の巻きに案内されていることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
容器は間隔を隔てられ、容器の間にプラズマが発生させたEUV放射及び/又は軟X線を通過させることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
電極は、整形要素を介して、電源に電気的に接続されていることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
コンベアベルトの移動面は、垂直面に対して傾斜しており、容器を除いて、プラズマが発生させたEUV放射及び/又は軟X線を通過させることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
一対の冷却ローラが設けられ、一対のローラをギャップに向けて通過するコンベアベルト上の溶融金属を冷却し、溶融金属の融点よりも低温にすることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
整形要素は回転ローラであることを特徴とする請求項12に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
コンベアベルトは、閉じたベルトであることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ放電ランプ。 - 前記プラズマ放電ランプにおいて、
コンベアベルトは、開いたベルトであって、2つの巻取キャリアローラの間を行き来してそれぞれ移動することを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ放電ランプ。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06120170 | 2006-09-06 | ||
EP06120170.3 | 2006-09-06 | ||
EP06120419.4 | 2006-09-11 | ||
EP06120419 | 2006-09-11 | ||
PCT/IB2007/053480 WO2008029327A2 (en) | 2006-09-06 | 2007-08-29 | Euv plasma discharge lamp with conveyor belt electrodes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010503170A true JP2010503170A (ja) | 2010-01-28 |
JP5216772B2 JP5216772B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=39022694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009527245A Active JP5216772B2 (ja) | 2006-09-06 | 2007-08-29 | コンベアベルトターゲットを備えたeuvプラズマ放電ランプ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7897948B2 (ja) |
EP (1) | EP2064929B1 (ja) |
JP (1) | JP5216772B2 (ja) |
KR (1) | KR101340901B1 (ja) |
CN (1) | CN101513135B (ja) |
AT (1) | ATE486488T1 (ja) |
DE (1) | DE602007010169D1 (ja) |
WO (1) | WO2008029327A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010080362A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法 |
WO2016163108A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | ウシオ電機株式会社 | 放電電極及び光源装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006027856B3 (de) * | 2006-06-13 | 2007-11-22 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden |
US7696492B2 (en) * | 2006-12-13 | 2010-04-13 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
US7615767B2 (en) | 2007-05-09 | 2009-11-10 | Asml Netherlands B.V. | Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
JP4949516B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2012-06-13 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ガス放電光源用の電極デバイス、及びこの電極デバイスをもつガス放電光源を作動させる方法 |
JP5709251B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2015-04-30 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 高パワー動作のためのホイールカバーを有するガス放電光源のための回転ホイール電極 |
JP4952513B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2012-06-13 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置 |
WO2010013167A1 (en) * | 2008-07-28 | 2010-02-04 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Method and device for generating euv radiation or soft x-rays |
JP5608173B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2014-10-15 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 向上された効率によってeuv放射又は軟x線を生成する方法及び装置 |
EP2555598A1 (en) * | 2011-08-05 | 2013-02-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method and device for generating optical radiation by means of electrically operated pulsed discharges |
CN102647844B (zh) * | 2012-04-28 | 2015-02-25 | 河北大学 | 低电压下产生大间隙大气压均匀放电的装置及方法 |
EP2816876B1 (en) * | 2013-06-21 | 2016-02-03 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | EUV discharge lamp with moving protective component |
KR101770183B1 (ko) | 2014-12-11 | 2017-09-05 | 김형석 | 동축 케이블형 플라즈마 램프 장치 |
KR20190128757A (ko) | 2018-05-08 | 2019-11-19 | 정이교 | 플라즈마 램프 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001357997A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Teikoku Electric Mfg Co Ltd | レーザプラズマx線発生装置 |
JP2004037324A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Japan Science & Technology Corp | レーザプラズマx線発生装置 |
WO2005025280A2 (en) * | 2003-09-11 | 2005-03-17 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU518822A1 (ru) * | 1974-11-27 | 1976-06-25 | Московский Ордена Трудового Красного Знамени Научно-Исследовательский Рентгено-Радиологический Институт | Рентгеновска трубка |
US4896341A (en) | 1984-11-08 | 1990-01-23 | Hampshire Instruments, Inc. | Long life X-ray source target |
DE4243210A1 (de) * | 1992-12-19 | 1994-06-30 | Heraeus Noblelight Gmbh | Hochleistungsstrahler |
JPH1164598A (ja) | 1997-08-26 | 1999-03-05 | Shimadzu Corp | レーザプラズマx線源 |
JP2002214400A (ja) | 2001-01-12 | 2002-07-31 | Toyota Macs Inc | レーザープラズマeuv光源装置及びそれに用いられるターゲット |
DE10219173A1 (de) * | 2002-04-30 | 2003-11-20 | Philips Intellectual Property | Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett-Strahlung |
JP2005032510A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Nikon Corp | Euv光源、露光装置及び露光方法 |
DE102006027856B3 (de) * | 2006-06-13 | 2007-11-22 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden |
JP4159584B2 (ja) | 2006-06-20 | 2008-10-01 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN100565781C (zh) * | 2007-03-14 | 2009-12-02 | 北京真美视听技术有限责任公司 | 等离子体无极放电灯和组合光源 |
US7615767B2 (en) * | 2007-05-09 | 2009-11-10 | Asml Netherlands B.V. | Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
-
2007
- 2007-08-29 US US12/439,696 patent/US7897948B2/en active Active
- 2007-08-29 CN CN2007800331341A patent/CN101513135B/zh active Active
- 2007-08-29 AT AT07826197T patent/ATE486488T1/de not_active IP Right Cessation
- 2007-08-29 DE DE602007010169T patent/DE602007010169D1/de active Active
- 2007-08-29 KR KR1020097006925A patent/KR101340901B1/ko active IP Right Grant
- 2007-08-29 EP EP07826197A patent/EP2064929B1/en active Active
- 2007-08-29 JP JP2009527245A patent/JP5216772B2/ja active Active
- 2007-08-29 WO PCT/IB2007/053480 patent/WO2008029327A2/en active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001357997A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Teikoku Electric Mfg Co Ltd | レーザプラズマx線発生装置 |
JP2004037324A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Japan Science & Technology Corp | レーザプラズマx線発生装置 |
WO2005025280A2 (en) * | 2003-09-11 | 2005-03-17 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010080362A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法 |
JP4623192B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2011-02-02 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法 |
WO2016163108A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | ウシオ電機株式会社 | 放電電極及び光源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101513135A (zh) | 2009-08-19 |
WO2008029327A2 (en) | 2008-03-13 |
CN101513135B (zh) | 2013-03-06 |
US20090250638A1 (en) | 2009-10-08 |
JP5216772B2 (ja) | 2013-06-19 |
EP2064929B1 (en) | 2010-10-27 |
ATE486488T1 (de) | 2010-11-15 |
US7897948B2 (en) | 2011-03-01 |
WO2008029327A3 (en) | 2008-05-15 |
DE602007010169D1 (de) | 2010-12-09 |
KR20090052382A (ko) | 2009-05-25 |
KR101340901B1 (ko) | 2013-12-13 |
EP2064929A2 (en) | 2009-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5216772B2 (ja) | コンベアベルトターゲットを備えたeuvプラズマ放電ランプ | |
JP4667378B2 (ja) | 極紫外放射又は軟x線放射を生成する方法及び装置 | |
JP4879974B2 (ja) | 特にeuv放射のための、ガス放電源 | |
EP2020165B1 (en) | A method of increasing the conversion efficiency of an euv and/or soft x-ray lamp and a corresponding apparatus | |
JP4949516B2 (ja) | ガス放電光源用の電極デバイス、及びこの電極デバイスをもつガス放電光源を作動させる方法 | |
JP5379953B2 (ja) | 電気的に作動するガス放電による極紫外線発生装置 | |
JP5566302B2 (ja) | 特にeuv放射のためのガス放電光源 | |
JP2008235754A (ja) | ホイルトラップ及びこのホイルトラップを用いた極端紫外光光源装置 | |
JP2010232150A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
JP2009224182A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
EP4152097A1 (en) | Extreme ultraviolet light source device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120625 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120925 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130304 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5216772 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |