JP5379953B2 - 電気的に作動するガス放電による極紫外線発生装置 - Google Patents
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Description
2 回転軸
3 受容領域
4 液体供給ノズル
5 液体ジェット
6 飛沫保護
7 プリイオン化ビーム
8 放電領域
9 電極
10 受容領域
11 液体供給ノズル
12 液体ジェット
13 ディスク型絶縁ボディ
14 カソード電極
15 アノード電極
16 切欠
17 軸
18 出力開口
19 開口
20 液体供給ノズル
21 環状溝
22 出口チャネル
23 リザーバ
24,25 真空ポンプ
26 放電チャンバ
27,28 溶融浴
29,30 接触要素
31 開口
32,33 外壁
34,35,36,37 電気真空フィードスルー
38,39 コンデンサ要素
40 プラズマ
41 デブリ保護装置
42 コレクタ光学系
43 ビーム出力開口
44 ボリューム
45 注入装置
46 エネルギービーム源
Claims (18)
- 極紫外線を放出するプラズマを形成するためにガス放電のための放電領域を有する放電チャンバ、
ディスク型の第1電極(1,14)及びディスク型の第2電極(9,15)、これら電極の少なくとも1つが回転可能に設けられ且つガス放電により生じる電極材料のロスを補償するための溶融金属で濡らされるべきエッジ領域を有し、
極紫外線を生成するのに使用されるエミッタ材料を蒸発させるためのプリイオン化ビームを供するエネルギービーム源、及び
エミッタ材料に極紫外線を放出させるためにガス放電を開始させる高電圧パルスを生成するために電極に接続した放電回路を有する、電気的に作動するガス放電による極紫外線発生装置であって、
保護層として機能する溶融金属で濡らされるべきエッジ領域が、電極のエッジに沿う閉じた周囲トラックとして電極表面上に広がる少なくとも1つの受容領域(3)を有し、受容領域が溶融金属で濡れるように構成され、
第1電極(1,14)又は第2電極(9,15)の回転の間溶融金属を液体ジェット(5,12)として受容領域(3)に適用するために、溶融金属を連続的に適用するための液体供給ノズル(4,11,20)が受容領域(3)にガイドされていることを特徴とする装置。 - 溶融金属を適用するための液体供給ノズル(4,11,20)が、回転軸(R−R,R’−R’)に対して放電領域(8)の反対側に位置する領域において電極表面にガイドされることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 第1電極(1)及び第2電極(9)が円形ディスクの形状をし、互いから距離を置いて回転軸(R−R)に固定連結され、第1電極(1)及び第2電極(9)の対称軸と一致する共通の回転軸(R−R)周りに回転するように設置され、第1電極(1)及び第2電極(9)が互いに面する電極の表面上に少なくとも1つの受容領域(3)を有し、受容領域(3)が溶融金属のために濡れるように構成され、受容領域(3)を保護層として機能する溶融金属で濡らすための液体供給ノズル(4,11)が受容領域(3)にガイドされていることを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 溶融金属が塗布される電極領域のショートを防ぐために、ディスク型絶縁ボディ(13)が2つの第1電極(1)と第2電極(9)の間の中間スペースに入っていることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 2つの第1電極(1)及び第2電極(9)の互いに面する電極表面にガイドされた液体供給ノズル(4,11)が、ディスク型絶縁ボディ(13)の反対側の側面からディスク型絶縁ボディ(13)を通ってガイドされることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 第1電極(1)及び第2電極(9)が、溶融金属のリング形状浴(27,28)に浸された、回転軸(R−R)と同軸に指向した接触要素(32,33)と電気接触し、浴は互いから電気的に分離し、高電圧電源の放電回路と連絡していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 第1電極(1)及び第2電極(9)の電気接触が、液体供給ノズル(4,11)及び液体供給ノズル(4,11)で供給される液体ジェット(5,12)によって実現されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 第1電極(14)が中央の対称軸に一致する回転軸(R’−R’)周りに回転するように設けられ、第2電極(15)が固定され、
回転可能に設置された第1電極(14)は、固定した第2電極(15)より小さい直径を有し、第2電極(15)の切欠(16)に偏心して埋設され、
液体供給ノズル(20)は、第2電極(15)の切欠(16)の開口(19)を介して第1電極(14)の電極表面上の少なくとも1つの受容領域(3)にガイドされ、受容領域(3)は、プリイオン化ビームが向けられるエミッタ材料としての溶融金属で濡れるように構成されることを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 環状溝(21)が切欠(16)に導入され、回転可能に設置された第1電極(14)の周囲を囲み、環状溝から出口チャネル(22)が溶融金属のためのリザーバに通じていることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 銅、クロム、ニッケル又は金が受容領域(3)を濡らすためのウェット手段として供給されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の装置。
- 受容領域(3)に隣接する電極表面の少なくとも一部が溶融金属で濡れないことを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 受容領域(3)に隣接する電極表面の一部が、PTFE(テフロン)、ステンレス鋼、ガラス又はセラミックを有することを特徴とする請求項11に記載の装置。
- ガス放電の周波数に対応する繰り返し率で、第1電極(1,14)及び第2電極(9,15)から距離を置いて放電領域(8)にエミッタ材料を注入するために、極紫外線を生成する働きをする一連の個々のボリューム(44)のエミッタ材料を供給するための注入装置(45)が放電領域(8)にガイドされ、個々のボリューム(44)で放電領域(8)に注入されるエミッタ材料が放電後に完全に気体位相になるように、個々のボリューム(44)は量を制限されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置。
- エネルギービーム源(46)で供給されるプリイオン化ビーム(7)が、ガス放電の周波数に時間的に同期して、第1電極(1,14)及び第2電極(9,15)から距離を置いて放電領域に設けられたプラズマ生成位置に適用され、プラズマ生成位置に個々のボリューム(44)のエミッタ材料が到達し、プリイオン化ビーム(7)により連続的にイオン化されることを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 連続的に適用される溶融金属が極紫外線を生成するためのエミッタ材料であり、エミッタ材料にエネルギービーム源(46)で供給されるプリイオン化ビーム(7)が放電領域(8)のガス放電の周波数に時間的に同期して適用されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置。
- エミッタ材料としての溶融金属が連続的に適用される第1電極(1,14)及び第2電極(9,15)に、プリイオン化ビーム(7)が交互に適用されることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- エミッタ材料としての溶融金属が連続的に適用される第1電極(1,14)及び第2電極(9,15)に、プリイオン化ビーム(7)が同時に適用されることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- キセノン、スズ、スズ合金、スズ溶液又はリチウムがエミッタ材料として供給されることを特徴とする請求項1〜7,9〜14のいずれか一項に記載の装置。
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