JP2007273454A - 電気的に作動するガス放電による極紫外線発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗られるべきエッジ領域が、電極表面上の電極のエッジに沿って閉じて周囲に延びる少なくとも1つの受容領域を有し、受容領域が溶融金属で濡れるように構成され、溶融金属の再生可能な適用のために、液体供給ノズルが受容領域に誘導されていることで達成される。
【選択図】図2
Description
2 回転軸
3 受容領域
4 液体供給ノズル
5 液体ジェット
6 飛沫保護
7 プリイオン化ビーム
8 放電領域
9 電極
10 受容領域
11 液体供給ノズル
12 液体ジェット
13 ディスク型絶縁ボディ
14 カソード電極
15 アノード電極
16 切欠
17 軸
18 出力開口
19 開口
20 液体供給ノズル
21 環状溝
22 出口チャネル
23 リザーバ
24,25 真空ポンプ
26 放電チャンバ
27,28 溶融浴
29,30 接触要素
31 開口
32,33 外壁
34,35,36,37 電気真空フィードスルー
38,39 コンデンサ要素
40 プラズマ
41 デブリ保護装置
42 コレクタ光学系
43 ビーム出力開口
44 ボリューム
45 注入装置
46 エネルギービーム源
Claims (18)
- 放射線を放出するプラズマを形成するためにガス放電のための放電領域を有する放電チャンバ、
第1ディスク型電極及び第2ディスク型電極、これら電極の少なくとも1つが回転可能に設けられ、
プリイオン化ビームを供するエネルギービーム源、及び
高電圧パルスを生成するために電極に接続した放電回路を有する、電気的に作動するガス放電による極紫外線発生装置であって、
塗られるべきエッジ領域が、電極表面上の電極のエッジに沿って閉じるように周囲に延びる少なくとも1つの受容領域(3)を有し、受容領域が溶融金属で濡れるように構成され、溶融金属の再生可能な適用のために、液体供給ノズル(4,11,20)が受容領域に誘導されていることを特徴とする装置。 - 液体供給ノズル(4,11)が電極の領域の電極表面に誘導され、液体供給ノズルは溶融金属を適用するために設けられ、放電領域(8)の向かいに位置することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 電極(1,9)が円形ディスクの形状をし、互いから距離を置いて互いに固定連結され、対称重心軸と一致する共通の回転軸(R−R)周りに回転するように設置され、それぞれの電極(1,9)が互いに面する電極の表面上に少なくとも1つの受容領域(3)を有し、受容領域(3)が溶融金属のために濡れるように構成され、受容領域に液体供給ノズル(4,11)が誘導されていることを特徴とする請求項2に記載の装置。
- ショートを防ぐために、ディスク型絶縁ボディ(13)が溶融金属を塗布するために設けられる電極領域に設けられ、絶縁ボディ(13)が2つの電極(1,9)間の中間スペースに入っていることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 2つの電極(1,9)の電極表面に誘導された液体供給ノズル(4,11)が、反対側の側面からディスク型絶縁ボディ(13)を介してガイドされることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 電極(1,9)が、溶融金属のリング形状浴(27,28)に浸された、回転軸(R−R)と同軸に指向した接触要素(32,33)と電気接触し、浴は互いから電気的に分離し、高電圧電源の放電回路と連絡していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 電極(1,9)の電気接触が、液体供給ノズル(4,11)及び液体供給ノズル(4,11)で供給される液体ジェット(5,12)を介して実現されことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
- 第1電極が対称中央軸に一致する回転軸(R’−R’)周りに回転するように設けられ、第2電極が固定され、
回転可能に設置された第1電極(14)は、固定した第2電極(15)より小さい直径を有し、第2電極(15)の切欠(16)に偏心して埋設され、
液体供給ノズル(20)は、切欠の開口(19)を介して第1電極(14)の電極表面上の少なくとも1つの受容領域(3)に誘導され、受容領域(3)はエミッタ材料で濡れるように構成されることを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 環状溝(21)が切欠(16)に導入され、回転可能に設置された第1電極(14)の周囲を囲み、環状溝から出口チャネル(22)が溶融金属のためのリザーバに通じていることを特徴とする請求項8に記載の装置。
- 銅、クロム、ニッケル又は金が受容領域(3)のためのウェット手段として供給されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の装置。
- 受容領域(3)に隣接する電極表面の少なくとも一部が溶融金属で濡れないことを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 受容領域(3)に隣接する電極表面の一部が、PTFE(テフロン:登録商標)、ステンレス鋼、ガラス又はセラミックを有することを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 注入装置(45)が放電領域(8)に誘導され、ガス放電の周波数に対応する繰り返し率で、量を制限された、放射線を生成する働きをするエミッタ材料の一連のボリューム(44)を供給し、それで電極(1,9,14,15)から距離を置いて放電領域(8)に注入されるエミッタ材料が放電後に完全に気体位相になることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置。
- エネルギービーム源(45)で供給されるプリイオン化ビーム(7)が、ガス放電の周波数に時間的に同期して、電極(1,9,14,15)から距離を置いて放電領域に設けられたプラズマ生成位置に誘導され、プラズマ生成位置に個々のボリューム(44)が到達し、プリイオン化ビーム(7)により連続的にイオン化されることを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 再生可能に適用される溶融金属が放射線を生成するためのエミッタであり、エミッタにエネルギービーム源(45)で供給されるプリイオン化ビーム(7)が放電領域(8)のガス放電の周波数に時間的に同期して誘導されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の装置。
- プリイオン化ビーム(7)が、第1及び第2電極(1,9,14,15)の再生可能に適用されるエミッタ材料に交互に誘導されることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- プリイオン化ビーム(7)が、第1及び第2電極(1,9,14,15)の再生可能に適用されるエミッタ材料に同時に誘導されることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- キセノン、スズ、スズ合金、スズ溶液又はリチウムがエミッタ材料として供給されることを特徴とする請求項1〜17のいずれか一項に記載の装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010263210A (ja) * | 2009-05-08 | 2010-11-18 | Xtreme Technologies Gmbh | Euv光源におけるエミッタ材料として溶融錫を連続生成するための装置 |
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JP2011082473A (ja) * | 2008-12-16 | 2011-04-21 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2011527503A (ja) * | 2008-07-07 | 2011-10-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 腐食耐性材料を含む極紫外線放射生成装置 |
JP2014089880A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Ushio Inc | 放電電極 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005030304B4 (de) * | 2005-06-27 | 2008-06-26 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung |
TW201212726A (en) * | 2010-07-15 | 2012-03-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Method of improving the operation efficiency of a EUV plasma discharge lamp |
JP2023148403A (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-13 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
US20230403778A1 (en) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | Kla Corporation | Rotating target for extreme ultraviolet source with liquid metal |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005025280A2 (en) * | 2003-09-11 | 2005-03-17 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
JP2006032340A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Asml Netherlands Bv | 放射線生成デバイス、リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス |
JP2006074005A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-03-16 | Xtreme Technologies Gmbh | 短波長電磁放射線を生成するためにターゲット材料を供給する装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2536154B1 (de) * | 1975-08-13 | 1976-11-11 | Siemens Ag | Unipolarmaschine |
US5763930A (en) * | 1997-05-12 | 1998-06-09 | Cymer, Inc. | Plasma focus high energy photon source |
US6815700B2 (en) * | 1997-05-12 | 2004-11-09 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
DE102004005241B4 (de) * | 2004-01-30 | 2006-03-02 | Xtreme Technologies Gmbh | Verfahren und Einrichtung zur plasmabasierten Erzeugung weicher Röntgenstrahlung |
RU2278483C2 (ru) * | 2004-04-14 | 2006-06-20 | Владимир Михайлович Борисов | Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы |
DE102006015640B3 (de) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung auf Basis einer elektrisch betriebenen Gasentladung |
DE102007004440B4 (de) * | 2007-01-25 | 2011-05-12 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005025280A2 (en) * | 2003-09-11 | 2005-03-17 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation |
JP2006032340A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Asml Netherlands Bv | 放射線生成デバイス、リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス |
JP2006074005A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-03-16 | Xtreme Technologies Gmbh | 短波長電磁放射線を生成するためにターゲット材料を供給する装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6010070176; Vladimir M Borisov, Aleksander V Eltsov, Aleksander S Ivanov, Yuriy B Kiryukhin, Oleg B Khristoforov: 'EUV sources using Xe and Sn discharge plasmas' Journal of Physics D: Applied Physic Volume 37, Number 23, 20041119, 3254-3265, IOP Publishing * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011507206A (ja) * | 2007-12-18 | 2011-03-03 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 特にeuv放射のためのガス放電光源 |
JP2011527503A (ja) * | 2008-07-07 | 2011-10-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 腐食耐性材料を含む極紫外線放射生成装置 |
JP2011082473A (ja) * | 2008-12-16 | 2011-04-21 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
JP2010263210A (ja) * | 2009-05-08 | 2010-11-18 | Xtreme Technologies Gmbh | Euv光源におけるエミッタ材料として溶融錫を連続生成するための装置 |
JP2014089880A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Ushio Inc | 放電電極 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070230531A1 (en) | 2007-10-04 |
NL1033568A1 (nl) | 2007-10-03 |
DE102006015641B4 (de) | 2017-02-23 |
NL1033568C2 (nl) | 2010-05-12 |
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