JP2006032340A - 放射線生成デバイス、リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放電に基づいて放射線ソースを生成するデバイスは、陰極および陽極を含む。陰極および陽極の材料を流体の状態で供給する。材料は、デバイスの使用中にプラズマのピンチを形成する。任意選択で、ノズルを使用して材料を供給することができる。陰極および/または陽極は平坦な表面を形成してよい。材料の軌道は細長くてよい。レーザを使用して、放電をさらに容易に引き起こすことができる。レーザは、陰極または陽極へ、または陽極と陰極の間に配置された別個の材料へと誘導することができる。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている。そして、ビームに与えたパターン全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (20)
- 放射線を生成するデバイスであって、
第一材料の第一ジェットを提供するように構成された第一ノズルを有し、第一材料の第一ジェットは、第一電極として機能するように構成され、さらに、
第二電極と、
第一電極と第二電極との間で放電をトリガするように構成された点火ソースとを有するデバイス。 - 点火ソースが、第一材料の気化によって放電をトリガするように構成される、請求項1に記載のデバイス。
- さらに、
第二材料の第二ジェットを提供するように構成された第二ノズルを有し、第二ジェットは、第二電極として機能するように構成され、点火ソースが、第一材料と第二材料のうち少なくとも一方の気化によって放電をトリガするように構成される、請求項1に記載のデバイス。 - さらに、
第二材料の第二ジェットを提供するように構成された第二ノズルを有し、第二ジェットが第二電極として機能するように構成され、さらに、
第三材料の物質を有し、点火ソースが、第三材料の気化によって放電をトリガするように配置構成される、請求項1に記載のデバイス。 - 第一ジェットが約3cmから30cmの長さ、および約0.1mmから1mmの厚さを有する、請求項1に記載のデバイス。
- 点火ソースが、放射線ビーム、粒子ビーム、およびその任意の組み合わせのうち少なくとも1つを有するビームを生成するように構成される、請求項1に記載のデバイス。
- 第一ノズルが、直線軌道に沿った方向で第一材料を提供するように構成される、請求項1に記載のデバイス。
- さらに、
少なくとも1つのさらなるジェットを提供するように構成された少なくとも1つのさらなるノズルを有し、第一ジェットおよび少なくとも1つのさらなるジェットが、ほぼ平坦な形状の電極を提供するように配置構成される、請求項7に記載のデバイス。 - 第一材料が、錫、インジウム、リチウム、水銀、ビスマス、アンチモン、鉛およびその任意の組み合わせのうち少なくとも1つを有する、請求項1に記載のデバイス。
- リソグラフィ装置であって、
第一材料の第一ジェットを提供するように構成された第一ノズルを有する放射線生成装置を有し、第一材料の第一ジェットが第一電極として機能するように構成され、さらに第二電極、および第一電極と第二電極との間で放電をトリガするように構成された点火ソースを有し、さらに、
放射線生成装置からの放射線ビームを調整するように構成された証明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体とを有し、パターニングデバイスが、放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成され、さらに、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを有する装置。 - 点火ソースが、第一材料の気化によって放電をトリガするように構成される、請求項10に記載の装置。
- さらに、
第二材料の第二ジェットを提供するように構成された第二ノズルを有し、第二ジェットが第二電極として機能するように構成され、点火ソースが、第一材料と第二材料のうち少なくとも一方の気化によって放電をトリガするように構成される、請求項10に記載の装置。 - さらに、
第二材料の第二ジェットを提供するように構成された第二ノズルを有し、第二ジェットが第二電極として機能するように構成され、さらに、
第三材料の物質を有し、点火ソースが、第三材料の気化によって放電をトリガするように配置構成される、請求項10に記載の装置。 - 第一ジェットが約3cmから30cmの長さ、および約0.1mmから1mmの厚さを有する、請求項10に記載の装置。
- 点火ソースが、放射線ビーム、粒子ビーム、およびその任意の組み合わせのうち少なくとも1つを有するビームを生成するように構成される、請求項10に記載の装置。
- 第一ノズルが、直線軌道に沿った方向で第一材料を提供するように構成される、請求項10に記載の装置。
- さらに、
少なくとも1つのさらなるジェットを提供するように構成された少なくとも1つのさらなるノズルを有し、第一ジェットおよび少なくとも1つのさらなるジェットが、ほぼ平坦な形状の電極を提供するように配置構成される、請求項16に記載の装置。 - 第一材料が、錫、インジウム、リチウム、水銀、ビスマス、アンチモン、鉛およびその任意の組み合わせのうち少なくとも1つを有する、請求項10に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
第一材料の第一ジェットを提供することを含み、第一材料の第一ジェットが、第一電極として機能するように構成され、さらに、
放射線のビームを生成するために、第一電極と第二電極との間で放電をトリガすることと、
放射線ビームの断面にパターンを形成することと、
パターン形成した放射線のビームを基板の目標部分に投影することとを含む方法。 - 請求項19の方法で製造したデバイス。
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