JP2010287862A - プリント配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内層樹脂11上面の内層導体回路12上に絶縁樹脂13を積層し、絶縁樹脂13上に撥水性を有するコーティング樹脂14を被覆形成する。或いは、内層樹脂11上面の内層導体回路12上に、撥水性を有するコーティング樹脂14を表面に被覆形成した絶縁樹脂13を積層する。そして、コーティング樹脂14を被覆した絶縁樹脂13に、コーティング樹脂14を貫通する貫通孔(15V,15T)を形成し、絶縁樹脂13に触媒16を付与して貫通孔15内にめっき金属17を埋め込む。コーティング樹脂14は絶縁樹脂13の全表面を被覆し、形成された貫通孔15内にのみ触媒16が付着するようにする。
【選択図】図1
Description
一般的な絶縁樹脂(味の素ファインテクノ株式会社製 ABF-GX13)を用いて形成した基板に、ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製ユーピレックス)を積層し、ビア形成に用いるレーザ加工機(日立ビアメカニクス株式会社製)を使用して幅20μm、深さ20μmのトレンチ(回路)を形成した。
硫酸銅:0.04mol/L
EDTA:0.1mol/L
水酸化ナトリウム:4g/L
ホルムアルデヒド:4g/L
2,2’−ビピリジル:2mg/L
ポリエチレングリコール(分子量1000):1000mg/L
2,2’−ジピリジルジスルフィド:5mg/L
触媒付与プロセス(上村工業株式会社製アルカッププロセス:クリーナーコンディショナー ACL-009,キャタリスト MAT,レデューサー MAB)により触媒(シード層)を付与した後の無電解めっき処理として、下地めっきとしての無電解銅めっき(上村工業株式会社製 SP2)を15分間行い、実施例1と同様の無電解銅めっき液にて無電解銅めっき皮膜を2時間形成させたこと以外は、実施例1と同様にして配線基板を形成し、表面へのめっき析出観察及び断面観察にてトレンチの埋まり性を測定した。
一般的な絶縁樹脂(味の素ファインテクノ株式会社製 ABF-GX13)を用いて形成した基板に、フッ素樹脂フィルム(デュポン株式会社製テフロン(登録商標))を積層したこと以外は、実施例2と同様にして配線基板を形成し、表面へのめっき析出観察及び断面観察にてトレンチの埋まり性を測定した。
一般的な絶縁樹脂(味の素ファインテクノ株式会社製 ABF-GX13)を用いて形成した基板に、コーティング樹脂層を積層させることなく、ビア形成に用いるレーザ加工機(日立ビアメカニクス株式会社製)を使用して幅20μm、深さ20μmのトレンチを形成したこと以外は、実施例1と同様にして配線基板を形成し、表面へのめっき析出観察及び断面観察にてトレンチの埋まり性を測定した。
一般的な絶縁樹脂(味の素ファインテクノ株式会社製 ABF-GX13)を用いて形成した基板に、コーティング樹脂層を積層させることなく、ビア形成に用いるレーザ加工機(日立ビアメカニクス株式会社製)を使用して幅20μm、深さ20μmのトレンチを形成したこと以外は、実施例2と同様にして配線基板を形成し、表面へのめっき析出及びトレンチの埋まり性について断面観察により測定した。
Claims (6)
- 内層樹脂の上面に形成された導体回路上に絶縁樹脂を積層し、該絶縁樹脂上に撥水性を有するコーティング樹脂を被覆形成するコーティング樹脂形成工程、あるいは内層樹脂の上面に形成された導体回路上に、撥水性を有するコーティング樹脂を表面に被覆形成した絶縁樹脂を積層するコーティング付き絶縁樹脂積層工程と、
上記絶縁樹脂に、上記コーティング樹脂を貫通する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
上記絶縁樹脂に触媒を付与し、無電解めっきによって上記貫通孔内に金属を埋め込むめっき処理工程とを有し、
上記コーティング樹脂形成工程あるいは上記コーティング付き絶縁樹脂積層工程においては、上記コーティング樹脂を上記絶縁樹脂の全表面に被覆し、上記めっき処理工程において、上記絶縁樹脂の、上記貫通孔形成工程にて形成された貫通孔内にのみ触媒が付着するようにしたことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。 - 上記コーティング樹脂は、さらに耐薬品性を有する樹脂であることを特徴とする請求項1記載のプリント配線基板の製造方法。
- 上記コーティング樹脂は、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー、シアネート樹脂、ポリエステル樹脂、アリル樹脂、COPNA樹脂、ケイ素樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、ポリビニルベンジルエーテル樹脂、アセナフチレン樹脂、オレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、及びエポキシ樹脂からなる群から選択されることを特徴とする請求項2記載のプリント配線基板の製造方法。
- 上記貫通孔は、レーザを用いて形成することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載のプリント配線基板の製造方法。
- 上記金属は、銅であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のプリント配線基板の製造方法。
- 請求項1乃至5の何れか1項記載のプリント配線基板の製造方法によって製造されたプリント配線基板。
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