JP2010262338A - 電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラム - Google Patents
電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラム Download PDFInfo
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Abstract
電磁流分布の時間変化量の累積値を計算することにより、少ないデータ容量で正確に信号の伝送経路を表す解析結果を計算することのできる電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラムを提供することを課題とする。
【解決手段】
空間的に離散化された複数の領域内の電磁流分布を求める処理を行う電磁流分布処理装置であって、電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める電磁流処理部と、前記電磁流計算部によって計算される電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める電磁流変化量処理部と、前記電磁流変化量計算部によって計算された電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める累積変化量処理部とを含む。
【選択図】図8
Description
ΔJx,y,z(t)=|Jx,y,z(t)−Jx,y,z(t−Δt)| ・・・(2)
式(1)により、電流密度の変化量ΔIx,y,z(t)が絶対値で計算され、式(2)により、磁流密度の変化量ΔJx,y,z(t)が絶対値で計算される。
なお、セル毎の電流密度の変化量の累積値は、電流分布を表す。
なお、セル毎の磁流密度の変化量の累積値は、磁流分布を表す。
ただし、aは、すべてのセルについての累積値SumΔIx,y,zのうち、所定の標準偏差±σI以内の累積値の数を表す。
ただし、bは、すべてのセルについての累積値SumΔJx,y,zのうち、所定の標準偏差±σJ以内の累積値の数を表す。
(付記1)
空間的に離散化された複数の領域内の電磁流分布を求める処理を行う電磁流分布処理装置であって、
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める電磁流処理部と、
前記電磁流計算部によって計算される電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める電磁流変化量処理部と、
前記電磁流変化量計算部によって計算された電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める累積変化量処理部と
を含む、電磁流分布処理装置。
(付記2)
前記累積値の計算に必要なデータを保存するデータベースと、
前記データベースへのデータの保存を管理するデータ管理部と
をさらに含み、
前記データ管理部は、前記電磁流処理部が前記電磁流の物理量を計算した領域について、前記電磁流変化量処理部が前記電磁流の物理量の時間変化量を求め、当該計電磁流の物理量の時間変化量を前記累積変化量処理部が累積した場合に、前記累積値を前記データベースに保存する、付記1に記載の電磁流分布処理装置。
(付記3)
前記累積変化量処理部は、前記電磁流の時間変化量の絶対値の累積値を計算する、付記1又は2に記載の電磁流分布処理装置。
(付記4)
所定空間に含まれる前記領域毎に前記累積変化量処理部によって求められる累積値の平均値を求める平均値計算部をさらに含む、付記1乃至3のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
(付記5)
前記平均値処理部は、前記領域毎に前記累積変化量処理部によって計算される前記累積値のうち、所定の標準偏差以内の累積値を用いて、又は所定の下限閾値と上限閾値の間にある累積値を用いて、前記平均値を求める、付記4に記載の電磁流分布処理装置。
(付記6)
前記累積変化量処理部によって求められる処理結果を表示する表示部をさらに含む、付記1乃至5のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
(付記7)前記表示部は、前記累積値の値に応じて、前記領域の表示を変える、付記6に記載の電磁流分布処理装置。
(付記8)前記電磁流変化量計算部は、任意の時間間隔で電磁流の物理量の時間変化量を計算する、付記1乃至7のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
(付記9)前記累積変化量計算部は、前記複数の領域のうち、任意の複数の領域について、前記電磁流の物理量の時間変化量を累積して前記累積値を得る、付記1乃至8のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
(付記10)前記累積変化量計算部は、任意の時間帯における前記電磁流の物理量の時間変化量について、前記電磁流の物理量の時間変化量を累積して前記累積値を得る、付記1乃至9のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
(付記11)
コンピュータが空間的に離散化された複数の領域内における電磁流分布求める処理を実行する電磁流分布計算方法であって、
前記コンピュータは、
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める処理を実行する電磁流処理工程と、
前記電磁流処理工程によって求められる電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める処理を実行する電磁流変化量処理工程と、
前記電磁流変化量処理工程によって求められた電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める処理を実行する累積変化量処理工程と
を実行することを特徴とする電磁流分布処理方法。
(付記12)
電磁界分布を計算するコンピュータに、前記電磁界分布に基づき、空間的に離散化された複数の領域内における電磁流分布を求める処理を実行させるための電磁流分布処理プログラムであって、
前記コンピュータを
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める電磁流処理部、
前記電磁流処理部によって求められた電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める電磁流変化量処理部、及び
前記電磁流変化量処理部によって計算された電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める累積変化量処理部
として機能させる電磁流分布処理プログラム。
2 筐体
3 表示部
4 操作部
5 プリント基板
6 導電パターン
10 コンピュータシステム
11 本体部
12 ディスプレイ
13 キーボード
14 マウス
15 モデム
16 記録媒体
17 ディスク
21 CPU
22 メモリ部
23 ディスクドライブ
20 バス
24 HDD
211 設計データ読出部
212 条件作成部
213 解析モデル作成部
214 電磁界計算部
215 電磁流密度計算部
216 電磁流密度変化量計算部
217 電流密度累積値計算部
218 平均値計算部
219 計算結果表示部
220 管理部
Claims (8)
- 空間的に離散化された複数の領域内の電磁流分布を求める処理を行う電磁流分布処理装置であって、
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める電磁流処理部と、
前記電磁流計算部によって計算される電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める電磁流変化量処理部と、
前記電磁流変化量計算部によって計算された電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める累積変化量処理部と
を含む、電磁流分布処理装置。 - 前記累積値の計算に必要なデータを保存するデータベースと、
前記データベースへのデータの保存を管理するデータ管理部と
をさらに含み、
前記データ管理部は、前記電磁流処理部が前記電磁流の物理量を計算した領域について、前記電磁流変化量処理部が前記電磁流の物理量の時間変化量を求め、当該計電磁流の物理量の時間変化量を前記累積変化量処理部が累積した場合に、前記累積値を前記データベースに保存する、請求項1に記載の電磁流分布処理装置。 - 前記累積変化量処理部は、前記電磁流の時間変化量の絶対値の累積値を計算する、請求項1又は2に記載の電磁流分布処理装置。
- 所定空間に含まれる前記領域毎に前記累積変化量処理部によって求められる累積値の平均値を求める平均値計算部をさらに含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
- 前記平均値処理部は、前記領域毎に前記累積変化量処理部によって計算される前記累積値のうち、所定の標準偏差以内の累積値を用いて、又は所定の下限閾値と上限閾値の間にある累積値を用いて、前記平均値を求める、請求項4に記載の電磁流分布処理装置。
- 前記累積変化量処理部によって求められる処理結果を表示する表示部をさらに含む、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電磁流分布処理装置。
- コンピュータが空間的に離散化された複数の領域内における電磁流分布求める処理を実行する電磁流分布計算方法であって、
前記コンピュータは、
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める処理を実行する電磁流処理工程と、
前記電磁流処理工程によって求められる電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める処理を実行する電磁流変化量処理工程と、
前記電磁流変化量処理工程によって求められた電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める処理を実行する累積変化量処理工程と
を実行することを特徴とする電磁流分布処理方法。 - 電磁界分布を計算するコンピュータに、前記電磁界分布に基づき、空間的に離散化された複数の領域内における電磁流分布を求める処理を実行させるための電磁流分布処理プログラムであって、
前記コンピュータを
電磁界強度に基づいて前記領域毎に電磁流の物理量を求める電磁流処理部、
前記電磁流処理部によって求められた電磁流の物理量の時間変化量を前記領域毎に求める電磁流変化量処理部、及び
前記電磁流変化量処理部によって計算された電磁流の物理量の時間変化量を累積して得る累積値を前記領域毎に求める累積変化量処理部
として機能させる電磁流分布処理プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009110515A JP2010262338A (ja) | 2009-04-30 | 2009-04-30 | 電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラム |
US12/759,953 US20100280778A1 (en) | 2009-04-30 | 2010-04-14 | Electromagnetic distribution processing device and method |
DE102010016518A DE102010016518A1 (de) | 2009-04-30 | 2010-04-19 | Vorrichtung zur Verwaltung von elektromagnetischen Strömen und Verfahren hierfür |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009110515A JP2010262338A (ja) | 2009-04-30 | 2009-04-30 | 電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010262338A true JP2010262338A (ja) | 2010-11-18 |
Family
ID=43031044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009110515A Pending JP2010262338A (ja) | 2009-04-30 | 2009-04-30 | 電磁流分布処理装置、電磁流分布処理方法、及び電磁流分布処理プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100280778A1 (ja) |
JP (1) | JP2010262338A (ja) |
DE (1) | DE102010016518A1 (ja) |
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