JP2010246188A - リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁石を含む第1部材と前記磁石の側から順に断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第1冷却手段とが配置された第2部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第1部材と前記第2部材とが相対的に移動するリニアモータであって、前記第2部材は、前記磁石と前記断熱部材との間に第2冷却手段を有する。
【選択図】 図1
Description
以下に本発明の好適な実施の形態を説明する。
続いて、本発明の別な好適な実施の形態を説明する。
以下、本発明の実施例に係るリニアモータが適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置本体505は図13に示すように、照明装置501、レチクル(原版)を搭載したレチクルステージ502、投影光学系503、ウエハ(基板)を搭載したウエハステージ504とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップ・アンド・リピート投影露光方式またはステップ・アンド・スキャン投影露光方式であってもよい。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述の実施形態の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板(ウエハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
100B 第2部材
101 磁石
103 コイル
105 第1冷却手段
106 断熱材
118 第2冷却手段
Claims (14)
- 磁石を含む第1部材と、前記磁石の側から順に配列された断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第1冷却手段とを含む第2部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第1部材と前記第2部材とが相対的に移動するリニアモータであって、
前記磁石と前記断熱部材との間に第2冷却手段を有することを特徴とするリニアモータ。 - 前記第2冷却手段は、熱伝導部材と前記熱伝導部材を冷却する手段とを有し、
前記熱伝導部材は、前記磁石と前記コイルとが対向する領域に配置されることを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ。 - 前記熱伝導部材を冷却する手段は、前記磁石と前記コイルとが対向する領域外に配置されることを特徴とする請求項2に記載のリニアモータ。
- 前記コイルに対して前記第1冷却手段の反対側に配置された前記コイルを冷却する第3冷却手段をさらに有することを特徴とする請求項2または3に記載のリニアモータ。
- 前記熱伝導部材を冷却する手段は、前記第3冷却手段を兼ねることを特徴とする請求項4に記載のリニアモータ。
- 前記第1部材は可動子であり、
前記第2部材は固定子であり、
前記コイルは、角筒環状コイルであり、
前記第1冷却手段は、前記コイルの内側の空間に設けられ前記コイルを支持し、
前記断熱部材と前記熱伝導部材とは、前記磁石と前記コイルの平面部とが対向する領域に設けられることを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載のリニアモータ。 - 前記第1部材は可動子であり、
前記第2部材は固定子であり、
前記コイルは、長円形のコイルであり、
前記第1冷却手段は、前記磁石とは反対の側で前記コイルを支持し、
前記断熱部材と前記熱伝導部材とは、前記磁石と前記コイルとが対向する領域に設けられることを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載のリニアモータ。 - 前記熱伝導部材を冷却する手段は冷媒を流す流路を有し、
周囲空間の温度よりも低い温度の冷媒を前記流路に流すことを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載のリニアモータ。 - 前記第1冷却手段と前記熱伝導部材を冷却する手段とは冷媒を流す流路を有し、
さらに前記冷媒の温度を調節する温度調節器を有し、
前記温度調節器、前記熱伝導部材を冷却する手段の流路、前記第1冷却手段の流路の順で前記冷媒が流れることを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載のリニアモータ。 - 前記温度調節器は、前記リニアモータの駆動状態に基づいて前記冷媒の温度を調節することを特徴とする請求項9に記載のリニアモータ。
- 前記リニアモータの駆動状態を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果から前記冷媒の温度を演算する演算部とを有することを特徴とする請求項10に記載のリニアモータ。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載のリニアモータを用いることを特徴とするステージ装置。
- 原版のパターンを基板に投影して露光する露光装置において、
前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、
前記基板または原版のうち一方を保持する請求項12に記載のステージ装置とを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項13に記載の露光装置を用いて原版のパターンを基板に投影して露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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