JP2010246188A - リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 磁石とコイルとの間のギャップが従来と同等であっても、リニアモータから周囲空間への漏れ熱量をより抑制することが可能なリニアモータを提供することを目的とする。言い換えれば、リニアモータからの周囲空間への漏れ熱量を従来と同程度抑制できながら、磁石とコイルとの間のギャップをより小さくでき、駆動効率を従来よりも向上させることが可能なリニアモータを提供することを目的とする。
【解決手段】 磁石を含む第1部材と前記磁石の側から順に断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第1冷却手段とが配置された第2部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第1部材と前記第2部材とが相対的に移動するリニアモータであって、前記第2部材は、前記磁石と前記断熱部材との間に第2冷却手段を有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、リニアモータに関する。さらにはこれらを具備するステージ装置に関する。さらにはこれらを具備する露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法に関する。
半導体素子、液晶表示素子等を製造するために用いられる半導体露光装置は、ウエハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ装置(ウエハステージ、レチクルステージ)を有している。このステージ駆動方法としては一般にローレンツ力によるリニアモータを使用している。リニアモータを用いることにより、ステージ可動部が固定部に対して非接触で高速駆動し、しかも高精度な位置決めが可能となっている。
昨今、半導体露光装置の生産性(スループット)向上のために、ステージ加速度はより一層の向上が求められている。さらにレチクルや基板の大型化に伴ってステージの質量も増大している。このため、<移動体の質量>×<加速度>で定義される駆動力は非常に大きなものとなり、ステージ駆動用リニアモータコイルに大電流を流すことに伴い発熱量が増大している。
リニアモータの発熱が周囲空間に漏れると、ステージの位置計測センサであるレーザ干渉計の光軸空間の温度変化による計測誤差や、周囲空間に配置されている反射ミラーなどの光学部品の熱変形による計測誤差が引き起こされる。また、リニアモータ周囲の構造体やレンズなどの熱変形を引き起こし、露光転写精度を劣化させる要因となる。
そこで、特許文献1には、コイルを真空室内に収納し、いわゆる真空断熱によりコイルの発熱を周囲空間に漏れ出さないようにした構成が開示されている。また、コイルの磁石側の面に冷媒流路を設けてコイルに通電したときに発生する発熱のうち周囲空間(磁石側)に漏れ出す熱量の一部を冷媒によって回収する構成が開示されている(図11)。
特許文献2には、リニアモータのコイルと永久磁石の間に断熱材を設ける構成が開示されている(図12)。この断熱材によりコイルに電流を通電したときの発熱が周囲空間(磁石側)に漏れないようになされている。
特許第4088728号公報 特開平10−323012号公報
しかしながら、特許文献1の真空断熱の構成では、真空領域の厚みと、真空と大気圧との差圧によって破損しないための真空室蓋の厚みと、差圧による蓋の変形に対して真空領域の厚みを確保するだけのスペースが必要となる。そのため、コイルと磁石間のギャップを大きくとらなければならない。また、図11に示す冷媒流路99を設ける構成では、コイル38に接して設けられる薄板82を通じて、コイルの発熱の多くが冷媒流路99の冷媒に入ることになる。冷媒に入る熱量が大きいため、相応の冷媒流量が必要となり、冷媒流路99のための大きなスペースが必要となる。また、冷媒圧力によって蓋36が破損しないだけの蓋厚みおよび蓋の圧力変形分のためのスペースも必要となる。よって、この構成でもコイルと磁石間のギャップを大きくとらなければならない。
したがって、特許文献1の構成では、コイルと磁石間のギャップ(いわゆる磁気ギャップ)が大きくなることで、リニアモータの効率が悪化し、必要な推力を発生させるために必要な電流が増加し、更なる発熱の増加につながる。
続いて、特許文献2の断熱材を用いた構成では、断熱材の厚みd(単位はm)を熱伝導率λ(単位はW/mK)で除した値d/λ(ここでは熱抵抗率Rと呼ぶこととする)が大きいほど、周囲空間に漏れる熱量を小さくすることができる。つまり、断熱材は熱伝導率λが小さく、厚みdが大きいほど周囲に漏れる熱量を抑制することができる。
しかしながら、断熱材厚みを大きくとると、磁気ギャップが大きくなってリニアモータの効率が下がり、発熱量が大きくなってしまう。
逆に、断熱材厚みを小さくするためには熱伝導率が小さい断熱材を選定する必要がある。しかしながら、断熱材の熱伝導率には限界がある。市販の断熱材量(例えば硬質ウレタン)は10−2、真空断熱材(包材内部を真空にすることで熱伝導率を低くしたもの)が10−3の熱伝導率(単位はW/mK)であるのが一般的である。
漏れ熱量をある値以下にするために熱低効率Rを必要とするときに、入手可能な最小の熱伝導率λminを持つ断熱材を用いたとしても、厚みdmin(=R×λmin)が必要となる。断熱材だけの構成では、dmin以下の厚みでより高い漏れ熱量抑制効果を得ることは難しい。つまり、入手可能な断熱材の熱伝導率で断熱材に必要な厚みが決まってしまい、漏れ熱量抑制効果を保ったまま厚みを薄くすることはできない。
そこで本発明は、磁石とコイルとの間のギャップが従来と同等であっても、リニアモータから周囲空間への漏れ熱量をより抑制することが可能なリニアモータを提供することを目的とする。言い換えれば、リニアモータからの周囲空間への漏れ熱量を従来と同程度抑制できながら、磁石とコイルとの間のギャップをより小さくでき、駆動効率を従来よりも向上させることが可能なリニアモータを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のリニアモータは、磁石を含む第1部材と前記磁石の側から順に配列された断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第1冷却手段とを含む第2部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第1部材と前記第2部材とが相対的に移動するリニアモータであって、前記磁石と前記断熱部材との間に第2冷却手段を有する。
本発明によれば、磁石とコイルとの間のギャップが従来と同等であっても、リニアモータから周囲空間への漏れ熱量をより抑制することが可能となる。言い換えれば、リニアモータからの周囲空間への漏れ熱量を従来と同程度抑制できながら、磁石とコイルとの間のギャップをより小さくでき、駆動効率を従来よりも向上させることが可能となる。
本発明の第一の実施形態のリニアモータ断面図の一例を示した図 漏れ熱量抑制手段の厚みと効果との関係例を示した図 本発明の別の第一の実施形態のリニアモータ断面図の一例を示した図 本発明の別の第一の実施形態のリニアモータ断面図の一例を示した図 本発明の別の第一の実施形態のリニアモータ断面図の一例を示した図 熱伝導部材のスリットまたは分割の方法の一例を示した図 冷媒の温調循環系の一例を示した図 熱伝導部材の温度分布例を示した図 本発明の第一の実施形態のステージ装置の一例を示した図 本発明の第二の実施形態のステージ装置の一例を示した図 従来例のリニアモータを示した図 従来例のリニアモータを示した図 本発明の露光装置の一例を示した図
(第1実施形態)
以下に本発明の好適な実施の形態を説明する。
図9は、ステージ装置201を示す図である。ステージ装置201は、定盤203上にリニアモータ100を2つ備えている。可動天板202は、リニアモータ100と連結され、定盤203上をY軸方向に駆動される。可動天板202と定盤203との間には、不図示の静圧軸受を備えており、静圧軸受によりX方向およびZ方向に非接触でガイドされた状態でY方向に移動できる。また、可動天板202は、その側面に不図示のミラーを備え、不図示のレーザ干渉計によってその位置を計測可能になっている。電流ドライバ204によってリニアモータ100に電流を通電することにより駆動力が発生し、可動天板202は、図中Y方向に移動することができる。
図1は、本発明の第一の実施形態の一例であり、図9におけるリニアモータ100のA−A断面図を示している。リニアモータ100は、主に可動子100A(第1部材)と固定子100B(第2部材)で構成される。
リニアモータ100の固定子100Bは、略四辺形形状の角筒環状コイル103とヨーク104と、コイルを冷却する第1冷却手段105とを含む。ここで、略四辺形形状とは、断面形状が4つの直線を含み、例えば図1のように、2つの直線が曲線を介して繋がっているものを含む。また、ここでは四辺形形状としているが、例えば、三角形形状や六角形形状、円形形状であってもよい。その場合は、可動子100Aの形状を三角形形状や六角形形状、円形形状にして、固定子100Bの形状に合せればよい。第1冷却手段105は、コイル冷却用の冷媒流路117aを備えており、コイル103の内側の空間に設けられ固定子全体を支持する構造体でもある。冷媒流路117aは、一つであっても良いし、複数の流路を持っていても良い。また、冷媒との熱伝達を利用する冷却系でなくても良く、熱伝導や輻射を利用したどのような冷却系であっても良い。なお、コイル103とヨーク104とが電気的にショートすることを防ぐために、コイル103とヨーク104との間に不図示の絶縁部材が設けられている。
リニアモータ100の可動子100Aは、駆動軸(図中のY軸)に平行なコイルの平面4面にそれぞれ対向するように設けられた複数の永久磁石101を備える。永久磁石101は、さらに紙面と垂直方向(図1中のY軸方向)にいわゆるハルバッハ配列で整列させ、ハウジング102によって4面の複数の永久磁石が連結されている。
永久磁石101とヨーク104によって生成される磁場中で、コイル103に不図示の電流ドライバから電流を流すことによって駆動力が発生し、可動子100Aは固定子100Bに対してY軸方向に移動する。ちなみに、本実施例では、第1部材を可動子、第2部材を固定子としたが、第1部材と第2部材とが相対的に移動すればよいため、第1部材を固定子、第2部材を可動子としても良い。
ヨーク104は、永久磁石101の相対移動に伴う渦電流の発生を防止するために、積層された保磁力の低い軟鉄系部材、例えばパーマロイ鋼板や、ケイ素鋼板等を用いている。
リニアモータ100において、コイル103に電流を通電すると、コイル103は発熱を生じる。コイル103から第1冷却手段105の冷媒までの熱抵抗が、コイル103とコイル103の周囲空間の空気との熱抵抗よりも十分に小さければ、コイルの発熱はそのほとんどが冷媒によって回収される。しかしながら、コイル103自身の第1冷却手段方向への熱伝導率が小さいことや、コイル103−ヨーク104間、ヨーク104−第1冷却手段105間等の層間の熱抵抗によって、コイルから冷媒までの熱抵抗を十分に小さくすることは難しい。これによって、コイル103の発熱は第1冷却手段105の冷媒で完全には回収されず、周囲空間側に漏れることになる。なお、コイル103の周囲空間とはコイル103を内包する空間を表しているものであり、例えば図1において磁石101、ハウジング102はコイル103の周囲空間中に存在する物体の1つである。
そこで、コイル103と磁石101の間に断熱材106(断熱部材)と、断熱材106と永久磁石101との間に第2冷却手段118とを設ける。本実施例のように、コイルの形状が角筒である場合は、磁石と対向するコイルの平面部に、断熱材106と第2冷却手段118とを設ける。図1では、第2冷却手段118は、熱伝導部材107と、熱伝導部材107の端部であって、永久磁石とコイル対向面領域外で熱伝導部材107を冷却する冷却部材108とで構成される。
断熱材106は、硬質ウレタンやグラスウール、または真空断熱材等の熱伝導率の低い物質を用いるのが好ましい。市販の硬質ウレタンは10−2、真空断熱材が10−3の熱伝導率(単位はW/mK)であるのが一般的である。一方、熱伝導部材107は、銅、炭素繊維または炭素繊維強化樹脂、グラファイトなどの熱伝導率の高い物質を用いるのが好ましい。または、ヒートパイプのような作動液の相変化を用いた高熱伝導素子を用いても良い。
冷却部材108を磁石とコイルとの対向面領域外に配置することで、コイルと磁石とのギャップを小さくし、リニアモータの効率を向上させることができる。
熱伝導部材107の冷却部材108は、例えばその内部に冷媒流路117bを備えている。冷却部材108と熱伝導部材107とは、接着剤等で接着しても良いが、溶接などの手段で熱抵抗を小さく接合することが望ましい。また、第2の冷却部材と熱伝導部材とを一体で成形しても良い。
上記構成のように、断熱材106をコイル103の表面に備えることにより、コイルから周囲空間側への熱抵抗が大きくなり、コイルの発熱のより多くが第1冷却手段105の冷媒方向に導かれる。そして、断熱材によって小さくされた周囲空間側に向かう熱量は、第2冷却手段118(図1では熱伝導部材107を通り、熱伝導部材107を冷却する冷却手段108の冷媒)にその多くが回収される。このように、コイルから周囲空間に漏れ出す熱量を断熱材でまず大きく絞り、かつ断熱材を通過して漏れ出そうとする熱量を熱伝導部材で回収することで、漏れ熱量を抑制することが可能となる。
次に、本発明構成と従来構成との漏れ熱量および厚みの比較を行い、本構成の有利な点について説明する。
図2は、(1)従来構成であるコイル表面に断熱材のみを設置したときと、(2)本発明構成であるコイル表面に断熱材および冷却された熱伝導部材を設置したときの、漏れ熱量比(Qa’/Qa)と漏れ熱量抑制手段の総厚みtとの関係を示すグラフである。漏れ熱量比とはコイルをむき出しにした場合の漏れ熱量Qaに対して、従来構成または本発明構成を適用した場合の漏れ熱量Qa’の比(Qa’/Qa)である。また、総厚みtとは従来構成では断熱材の厚みを示し、本発明の構成では断熱材と熱伝導部材の厚みの和を示すものである。
なお、計算モデルは、一定温度のコイルが空気(熱伝達率10W/m2K)に晒されているとし、コイルと空気間に(1)断熱材を備えた時、(2)断熱材(材質は(1)と同じ)と端部が冷却された熱伝導部材を備えた時の漏れ熱量を算出した。断熱材の熱伝導率は、真空断熱材相当の0.006W/mK、熱伝導部材は、銅相当の380W/mKとした。さらに簡単に、空気の温度と熱伝導部材端部の温度とは等しいとした。なお、(2)の本発明構成を示すグラフ曲線は、ある漏れ熱量比(Qa’/Qa)を達成するときの断熱材と熱伝導部材の厚み和が最小になる最適値を算出して表示している。
図2において、例えば漏れ熱量比を0.1程度にする場合(漏れ熱量をコイルをむき出しにした時の0.1倍に抑制する場合)に、従来の断熱材のみの構成では5.4mmの厚さが必要なのに対し、本発明の構成では1.1mmの厚みで達成できる。ちなみに、この時の厚み1.1mmの内約は断熱材0.6mm、熱伝導部材0.5mmである。
特に漏れ熱量比が0.1以下(漏れ熱量を大幅に抑制したい場合)では、図2の本発明構成と従来構成でのグラフ曲線が大きく離間している。このことから、本発明構成は、従来構成に対して大きな効果があることが分かる。
なお、熱伝導部材は上記計算では銅としているが、熱伝導率のより高い物質を用いることでその効果が高まり、さらに薄く構成できるようになる。
上記計算仮定のパラメータの値(例えば空気の熱伝達率等)が異なると漏れ熱量比、厚みの値は変わるが、従来の断熱材のみの構成よりも本発明の断熱材と冷却された熱伝導部材の構成の方が、漏れ熱量抑制効果をより薄い厚みで達成できることに変わりは無い。
ところで、第2冷却手段118で回収する熱量はコイルから断熱材を通過してくる熱量であるので、図10のように断熱材が無い場合と比較してその量は微量である。そのため、図3のように第2冷却手段118として冷媒流路117cを設ける構成としても厚みを薄く構成できる場合がある。図3は、断熱材106と蓋112との間の冷媒流路117cに冷媒を流す構成を示している。冷媒流路117cの冷媒で回収する熱量が小さいので、冷媒流量も微量で良く、冷媒流路のための厚みも薄くて良く、また大きな冷媒圧力も不要になるために蓋112も薄く構成できる。よって、図3の断熱材106上と蓋112との間に冷媒流路117cを設けた構成の方が、図10の構成よりも厚みを薄く構成でき、リニアモータの効率を向上させることができる。なお、蓋112の熱伝導率は高くなくて良く、ヤング率および強度の高い材質等を用いることで、厚みと変形量を抑制することができる。
また図4のように、第2冷却手段118を熱伝導部材107と、熱伝導部材107内部に熱伝導部材107を冷却する冷却手段(冷媒流路117d)とで構成しても良い。冷媒流路117dの冷媒で回収する熱量が小さいので、冷媒流量も微量で良いため、厚みの薄い熱伝導部材107内部に微小の流路117dを設けて冷媒を流すことで漏れ熱量を抑制可能となる。なお、図4における熱伝導部材107はヤング率、強度の高い材料を用いることで、厚みと変形量を抑制することができる。また、熱伝導率の高い材料を用いる事が望ましく、冷媒流路117dでより多くの熱量を回収できる。
続いて、漏れ熱量を抑制するための付属の手段について説明する。以降、簡便化のため図1の構成を基本構成として説明するが、図3、図4の構成においても適応可能である。
図5(A)では、コイル103を、永久磁石101との対向面側であって磁石との対向面領域外で冷却する第3冷却手段116を備える構成を表している。第3冷却手段116は例えばその内部にコイル103冷却用の冷媒流路117eを備えており、コイル103の曲面部に接着剤等で貼り付けても良い。
第3冷却手段116によってコイルを冷却する冷却パスが増えて、コイル発熱の内、断熱材側に向かう熱量の割合を下げられる。よって漏れ熱量を図1の構成よりも小さく抑制することが可能となる。
図5(B)では、熱伝導部材107を冷却する冷却部材108がコイル103を冷却する第3冷却手段を兼ねる構成を示している。コイル103の磁石対向面側の磁石101と対面しない領域のスペースが限られている場合、熱伝導部材107を冷却する冷却手段とコイルを冷却する第3冷却手段を兼ねることでスペースの有効利用が図れる。
なお、第3冷却手段は、発熱するコイルに直接取り付けられるため、冷媒流量を十分大きく設定しないと冷媒の温度が上昇して熱を回収できなくなってしまう。第3冷却手段を第二の冷却部材と兼ねる場合にも、コイルからの回収熱量によって冷媒が大きく温度上昇すると熱伝導部材での回収熱量が減ってしまうため、冷媒流量を十分にとるように注意する必要がある。
続いて、漏れ熱量を抑制するための他の付属の手段について説明する。
図6のように、熱伝導部材107は熱伝導部材を冷却する冷却部材108に向かう方向にスリット115を設けるかまたは分割構造にしても良い。図6(A)はスリットを、(B)は分割構造を表している。
熱伝導部材108が導電性材料の場合、永久磁石101とコイル103とが図5のY方向に相対移動するとき、熱伝導部材108の表面に渦電流が発生する。渦電流が発生すると相対移動抵抗力となったり、熱伝導部材での発熱が引き起こされる恐れがある。この相対移動抵抗力を補償する力をリニアモータで発生させるためにコイルへの通電量を増やすと、コイル発熱がさらに増大する。これらにより、漏れ熱量が大きくなる恐れがある。
そこで、図6のように熱伝導部材107にスリットを設けたり、分割構成にすることにより、銅等の導電性材料を用いた場合でも渦電流を抑制することができる。また、熱伝導部材107は、冷却部材108側へ熱を輸送することが目的であるので、スリット115または分割する方向は冷却部材108に向かう方向に設定する必要がある。図5中のY方向にスリットまたは分割してしまうと、熱伝導部材107の一部が冷却部材108から熱絶縁されてしまうため、漏れ熱量を回収する効果が得られなくなってしまう。
続いて、漏れ熱量を抑制するための、他の付属の手段について説明する。
図7(A)は、本構成におけるリニアモータの冷媒循環系の一例を示すものである。ポンプ110によってエネルギが付与された冷媒は温度調節器111によってその温度が調節され、熱伝導部材107を冷却する冷却部材108の入口継ぎ手109aに供給される。冷媒流路117bを通り出口継ぎ手109bから出た冷媒はコイル103を冷却する第1冷却手段105の入口継ぎ手109Aに導かれる。第1冷却手段105を通って出口継ぎ手109Bから出た冷媒は再度ポンプ110に入り、再びエネルギを付与される。このようにして、冷媒が循環する循環系システムが構成されている。
図8は、図1における熱伝導部材107のX方向またはZ方向の温度分布の一例を表したものである。熱伝導部材107には断熱材106を通過する熱量が入熱し、熱伝導部材107を通じて冷却部材108の冷媒によって回収される。熱伝導部材107の温度分布は、断熱材106を通過して入熱する熱量が熱伝導部材の各位置(x)でほぼ均等な分布とすると、図8のようになる。両端の冷却部材108から最も離れた位置である中央部が最も高く、冷却部材108の位置である両端部でほぼ冷却部材の冷媒温度と等しくなる。
熱伝導部材107を冷却する冷却部材108の冷媒温度Tcを周囲空間の空気の温度Taと等しくなるように設定した場合、熱伝導部材107の温度Tは、図8(A)のように周囲空気温度Tcよりも高くなり、熱伝導部材107から周囲空気に漏れ熱量が発生する。
ここで、熱伝導部材107を冷却する冷却手段108の冷媒温度Tcを周囲空気温度Taよりも低くなるように設定すると、熱伝導部材107の温度Tは、図8(B)のように周囲空気温度Taより高い領域と低い領域に分かれる。この状態では、熱伝導部材107の一部では周囲空気に熱を与え、一部では周囲空気から熱を奪うことになる。周囲空気に与える熱量の方が大きければ漏れ熱量は正の値になり、周囲空間の部品の熱膨張を引き起こす恐れがある。逆に周囲空気から奪う熱量が大きければ漏れ熱量は負の値となり、周囲空間の部品の熱収縮を引き起こす恐れがある。周囲空気に与える熱量と周囲空気から奪う熱量が等しくなるように冷媒温度Tcを設定できれば、周囲への漏れ熱量をほぼゼロにすることができる。なお、周囲空気温度Taはコイル103周囲の任意の箇所にて温度計を設置することで知ることができる。
ところで、図1に示すような構成で任意に設計した時の熱伝導部材107の最大温度は、コイル103の発熱によってその大きさが決まる。コイル103に大きな電流を通電して発熱量が大きい時は温度が高く、逆に小さな電流を通電して発熱量が小さい時は温度が低い。よって、漏れ熱量を抑制するためには、リニアモータの駆動状態によって適宜冷媒温度Tcを調節することが望ましい。駆動状態が一定で予め分かっている場合には冷媒温度Tcを一度適切に決めてしまえばよい。駆動状態が刻時変化するような場合には、図7に示すようにリニアモータの駆動状態を計測する計測部113と、その計測結果に基づいて適切な冷媒温度を演算する演算部114とを備え、温度調節器111によって冷媒温度を決定するようにしても良い。リニアモータの駆動状態を計測する計測部は例えばコイル通電量を測る電流計や、コイル端の電圧計などでも良い。
なお、図7(A)は、温度調節器111によって温調された冷媒を先ず熱伝導部材107を冷却する冷却部材108に導き、その後第1冷却手段105を流す冷媒循環系構成にしている。順序を逆にして第1冷却手段105から先に冷媒を流すと、回収熱量が大きいため冷媒の温度が大きく上昇して、熱伝導部材107を冷却する冷却部材108の位置で所望の冷媒温度とならなくなる恐れがある。以上のことから図7(A)のように第1冷却手段105と熱伝導部材107を冷却する冷却部材108に流す冷媒を1つの冷媒流路で構成する場合には、冷媒は熱伝導部材107を冷却する冷却部材108から流す経路にした方が好ましい。
また、図7(B)は、第1冷却手段105と熱伝導部材107を冷却する冷却部材108に個別に冷媒を流す冷媒循環系の一例を示す図である。それぞれ個別のポンプ110a、110b、温度調節器111a、111bを有する冷媒循環系を備えている。熱伝導部材107を冷却する冷却部材108用の冷媒温度調節器111aでは、上述のように、リニアモータの駆動状態に基づいて温度を決定した冷媒を流し、漏れ熱量を抑制すれば良い。
一方、第1冷却手段105用の冷媒温度調節器111bでは冷媒温度を熱伝導部材107を冷却する冷却部材108の冷媒温度よりも低く設定しても良い。第1冷却手段105の冷媒温度を下げた分、リニアモータ駆動時のコイル103の温度は低下するので、周囲空間に漏れる熱量を抑制することができる。リニアモータを駆動しない場合は、コイルの温度が外気温度以下になり、逆に周囲空間から熱を奪う様態になるので、リニアモータ駆動状態を計測する計測部113および冷媒温度演算部114によって、適宜適切な冷媒温度に決定するようにすると良い。
以上説明したように、本発明によれば、リニアモータのコイル発熱の周囲空間への漏れ熱量を抑制可能となる。これによって、例えば図9において、コイルの周囲空間に存在する可動天板202などの構造物の温度変動による熱変形を抑制することができる。また、図9に不図示のコイルの周囲空間に存在するレーザ干渉計の光路の温度が変動しにくくなるので、干渉計の計測誤差を減らすことができる。
また、漏れ熱量抑制手段を従来の断熱材のみの構成よりも厚みを薄く構成することができるので、コイルと磁石との磁気ギャップを小さくすることができ、リニアモータの効率を向上させることができる。
(第2実施形態)
続いて、本発明の別な好適な実施の形態を説明する。
図10は、いわゆる平面型リニアモータに、第1実施形態に説明したような漏れ熱量抑制手段を備えたものである。
図10は、略長円形のコイル303をX方向に並べた第1層目のコイル群とY方向に並べた第2層目のコイル群と、コイルに対向して配置された磁石群301と、磁石を保持して並進3軸および回転3軸に自由度を持つ可動天板302を備える。ここで、略長円形とは、図中のXまたはY方向に長手を有する形状であり、例えば、2本の直線の両端部同士を曲線で結んだ形状のことをいう。また、コイル303の形状は略長円形でなく、略長方形であってもよい。コイル303を冷却するための冷媒流路を備える第1冷却手段305は、コイルの磁石群301と反対側に配置され、コイルを支持するコイル支持体を兼ねている。継ぎ手309を介して第1冷却手段305に冷媒が流され、コイル303を冷却する。また、不図示の電流ドライバによって、適切なコイルに適切な電流を流すことで、コイル303群と磁石群301との間で駆動力が発生し、並進3軸および回転3軸方向に可動天板302を駆動することができる。さらに不図示のレーザ干渉計などを用いた位置計測系と制御系を備えることで、可動天板302の位置を制御することが可能となる。
コイル303の磁石301側の面には断熱材306を備えており、さらに断熱材306と磁石301との間には熱伝導部材307が配置されている。熱伝導部材307は、磁石301の可動範囲外において熱伝導部材307を冷却する冷却部材308によって冷却されている。
この構成によって、コイル303群から周囲空間に漏れ出す熱量を抑制することができる。周囲空間に漏れ出す熱量を抑制することができるので、周囲空間に存在する可動天板302などの構造物の熱変形や、不図示のレーザ干渉計のいわゆる温度ゆらぎによる計測誤差を抑制することができる。
また、従来の断熱材のみの構成よりも厚みを薄く構成することができるので、コイル303群と磁石群301との磁気ギャップの拡大を小さく抑えることができ、リニアモータの効率を従来よりも向上させることができる。
なお、コイル303群の左右側面には、別途断熱材312が備えられており、コイル303群の左右側面から周囲空間に漏れ出す熱量を抑制している。コイル303群の左右側面方向はリニアモータの効率には関係がないため、スペースが許す限り十分な厚みの断熱材312等を設けて、漏れ熱量を抑制することができる。
(露光装置の実施形態)
以下、本発明の実施例に係るリニアモータが適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置本体505は図13に示すように、照明装置501、レチクル(原版)を搭載したレチクルステージ502、投影光学系503、ウエハ(基板)を搭載したウエハステージ504とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップ・アンド・リピート投影露光方式またはステップ・アンド・スキャン投影露光方式であってもよい。
本発明のリニアモータは、レチクルステージ502及びウエハステージ504のいずれに用いられても良い。
照明装置501は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約193nmのArFエキシマレーザ、波長約248nmのKrFエキシマレーザ、波長約157nmのF2エキシマレーザなどを使用することができる。しかし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、YAGレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。
照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
投影光学系503は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系(カタディオプトリック光学系)を使用することができる。また、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することもできる。
レチクルステージ502およびウエハステージ504は、たとえばリニアモータによって移動可能である。ステップ・アンド・スキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。
(デバイス製造方法の実施形態)
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)は、前述の実施形態の露光装置を使用して感光剤を塗布した基板(ウエハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
100A 第1部材
100B 第2部材
101 磁石
103 コイル
105 第1冷却手段
106 断熱材
118 第2冷却手段

Claims (14)

  1. 磁石を含む第1部材と、前記磁石の側から順に配列された断熱部材とコイルと前記コイルを冷却する第1冷却手段とを含む第2部材とを有し、前記コイルに電流が流れることにより前記第1部材と前記第2部材とが相対的に移動するリニアモータであって、
    前記磁石と前記断熱部材との間に第2冷却手段を有することを特徴とするリニアモータ。
  2. 前記第2冷却手段は、熱伝導部材と前記熱伝導部材を冷却する手段とを有し、
    前記熱伝導部材は、前記磁石と前記コイルとが対向する領域に配置されることを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ。
  3. 前記熱伝導部材を冷却する手段は、前記磁石と前記コイルとが対向する領域外に配置されることを特徴とする請求項2に記載のリニアモータ。
  4. 前記コイルに対して前記第1冷却手段の反対側に配置された前記コイルを冷却する第3冷却手段をさらに有することを特徴とする請求項2または3に記載のリニアモータ。
  5. 前記熱伝導部材を冷却する手段は、前記第3冷却手段を兼ねることを特徴とする請求項4に記載のリニアモータ。
  6. 前記第1部材は可動子であり、
    前記第2部材は固定子であり、
    前記コイルは、角筒環状コイルであり、
    前記第1冷却手段は、前記コイルの内側の空間に設けられ前記コイルを支持し、
    前記断熱部材と前記熱伝導部材とは、前記磁石と前記コイルの平面部とが対向する領域に設けられることを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載のリニアモータ。
  7. 前記第1部材は可動子であり、
    前記第2部材は固定子であり、
    前記コイルは、長円形のコイルであり、
    前記第1冷却手段は、前記磁石とは反対の側で前記コイルを支持し、
    前記断熱部材と前記熱伝導部材とは、前記磁石と前記コイルとが対向する領域に設けられることを特徴とする請求項2〜5のいずれか1項に記載のリニアモータ。
  8. 前記熱伝導部材を冷却する手段は冷媒を流す流路を有し、
    周囲空間の温度よりも低い温度の冷媒を前記流路に流すことを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載のリニアモータ。
  9. 前記第1冷却手段と前記熱伝導部材を冷却する手段とは冷媒を流す流路を有し、
    さらに前記冷媒の温度を調節する温度調節器を有し、
    前記温度調節器、前記熱伝導部材を冷却する手段の流路、前記第1冷却手段の流路の順で前記冷媒が流れることを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載のリニアモータ。
  10. 前記温度調節器は、前記リニアモータの駆動状態に基づいて前記冷媒の温度を調節することを特徴とする請求項9に記載のリニアモータ。
  11. 前記リニアモータの駆動状態を計測する計測部と、
    前記計測部の計測結果から前記冷媒の温度を演算する演算部とを有することを特徴とする請求項10に記載のリニアモータ。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のリニアモータを用いることを特徴とするステージ装置。
  13. 原版のパターンを基板に投影して露光する露光装置において、
    前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、
    前記基板または原版のうち一方を保持する請求項12に記載のステージ装置とを有することを特徴とする露光装置。
  14. 請求項13に記載の露光装置を用いて原版のパターンを基板に投影して露光する工程と、
    前記露光された基板を現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8766493B2 (en) * 2011-07-01 2014-07-01 Nucleus Scientific, Inc. Magnetic stator assembly
KR20140084238A (ko) 2011-10-27 2014-07-04 더 유니버시티 오브 브리티쉬 콜롬비아 변위 장치 및 변위 장치의 제조, 사용 그리고 제어를 위한 방법
EP2645534B1 (en) * 2012-03-26 2018-01-31 Siemens Aktiengesellschaft Magnet component with a thermal insulation structure, rotor assembly with such a magnet component, electromechanical transducer and wind turbine
CN102842974B (zh) 2012-08-03 2015-06-03 埃塞克科技有限公司 横向磁通发电机
CA2827650A1 (en) 2012-09-24 2014-03-24 Eocycle Technologies Inc. Transverse flux electrical machine stator and assembly thereof
US9785051B2 (en) * 2012-10-15 2017-10-10 Asml Netherlands B.V. Actuation mechanism, optical apparatus, lithography apparatus and method of manufacturing devices
CA2829812A1 (en) 2012-10-17 2014-04-17 Eocycle Technologies Inc. Transverse flux electrical machine rotor
CN102944979A (zh) * 2012-11-02 2013-02-27 清华大学 一种具有永磁重力补偿结构的微动台
CN105452812B (zh) 2013-08-06 2019-04-30 不列颠哥伦比亚大学 移位装置以及用于检测和估计与其相关联的运动的方法和设备
CN106256080A (zh) * 2014-04-16 2016-12-21 核科学股份有限公司 磁性位置耦合和阀门机制
WO2015184553A1 (en) 2014-06-07 2015-12-10 The University Of British Columbia Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device
CA2988803C (en) 2015-07-06 2024-01-30 The University Of British Columbia Methods and systems for controllably moving one or more moveable stages in a displacement device
CN109716630B (zh) 2016-09-13 2021-01-22 核科学股份有限公司 多连杆电传动系统
CN111566926A (zh) * 2017-11-06 2020-08-21 碧绿威自动化股份有限公司 具有散热能力及降热考虑的线性马达

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002078314A (ja) * 2000-08-24 2002-03-15 Nikon Corp 電機子ユニット、電磁アクチュエータ、ステージ装置、露光装置及びこれを用いたデバイスの製造方法
JP2002291219A (ja) * 2001-03-29 2002-10-04 Canon Inc 電磁アクチュエータ、リニアモータ、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2003116261A (ja) * 2001-10-05 2003-04-18 Canon Inc リニアモータ、ステージ装置及び露光装置
JP2008220020A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Jtekt Corp 可動磁石型リニアモータ
JP2009027006A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Nikon Corp 断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法。

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07106053B2 (ja) * 1988-01-26 1995-11-13 株式会社安川電機 リニア移動装置
JPH10323012A (ja) 1997-05-20 1998-12-04 Yaskawa Electric Corp リニアモータ
JP4088728B2 (ja) 1998-07-09 2008-05-21 株式会社ニコン 平面モータ装置、駆動装置及び露光装置
JP4134406B2 (ja) 1998-12-04 2008-08-20 株式会社ニコン 平面モータ装置及び露光装置
JP5292707B2 (ja) * 2007-03-06 2013-09-18 株式会社ジェイテクト 可動磁石型リニアモータ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002078314A (ja) * 2000-08-24 2002-03-15 Nikon Corp 電機子ユニット、電磁アクチュエータ、ステージ装置、露光装置及びこれを用いたデバイスの製造方法
JP2002291219A (ja) * 2001-03-29 2002-10-04 Canon Inc 電磁アクチュエータ、リニアモータ、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2003116261A (ja) * 2001-10-05 2003-04-18 Canon Inc リニアモータ、ステージ装置及び露光装置
JP2008220020A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Jtekt Corp 可動磁石型リニアモータ
JP2009027006A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Nikon Corp 断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法。

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