JP2010235416A - 窯変調転写紙および窯変調模様を有する陶磁器 - Google Patents

窯変調転写紙および窯変調模様を有する陶磁器 Download PDF

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Abstract

【課題】安定した品質で大量生産可能な窯変調模様の陶磁器およびその製造に好適な転写紙を提供する。
【解決手段】下地材料層１４には金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とが含まれていると共に、上材料層１６は下地材料層１４に浸食して反応する物性を備えている。そのため、上記焼成過程において、上記金属酸化物が反応し、且つマット材を含む下地材料層１４からはざらざらした質感の下地層が生成され、下地材料層１４が浸食性の上材料層１６で覆われた部分ではグロッシーな質感の上層が生成される。しかも、上材料層１６は、粗なパターンで形成されていることから、マット調の下地層がグロッシーな上層から部分的に露出させられた窯変調模様が得られる。
【選択図】図１

Description

本発明は、窯変調の加飾を施した陶磁器を製造するための転写紙および窯変調の加飾が施された陶磁器に関する。
食器等の陶磁器を製造するに際しては、例えば、その表面に釉薬を用いて種々の加飾が施される。工業的に大量生産される陶磁器では、安定した加飾を施し得る品質の安定性が特に要求される。そのため、一般に、陶磁器の製造工程では、所望の色相等を得るべく品質変動要因を極力排除することが行われている。例えば、陶磁器の焼成過程においては、焼成雰囲気・温度・釉薬の厚み等の違いにより「窯変」と称される発色変化が生じ得るので、本来の色相が得られるようにそれら変動要因が制御される。
上記のように偶然生み出される「窯変」は、安定した品質を得る観点では避けるべきものである。その一方、窯変模様には独特の面白みがあることから、近年、陶磁器の画付け技法の一つとして窯変の面白みを生かす試みも進められている。しかしながら、窯変は窯の中の様々な要因の絡み合いで生ずるため、釉薬の種類、掛け方、焼成条件等を制御して一定の窯変模様を発生させることは極めて困難で、工業的に安定して生産することは事実上不可能である。
特公平０６−０４７５１０号公報 特公平０６−０４７５２１号公報 特開平０６−１８３８６６号公報 特許２７３９６９５号公報 特開平０６−３２１６６７号公報
これに対して、軟化屈服点が90(℃)以上、熱膨張係数が0.2×10-6(/℃)以上異なる釉薬等を重ね合わせて施釉して、焼成処理を施すことにより、窯変調模様を得ることが提案されている(例えば、前記特許文献１を参照。)。
また、陶磁器の素地表面に施されたベース釉薬の上にそれよりも低融点の釉薬を施し、更に、その上にベース釉薬よりも高融点の釉薬を施した後、焼成処理を施すことにより窯変調模様を形成することが提案されている(例えば、前記特許文献２を参照。)。
また、タイル素地の上に互いに組成の異なる第１着色釉および第２着色釉を一方をボタ掛け施釉すると共に他方を幕掛け施釉し、更に、その上に透光性の第３釉薬を施すことにより、窯変調タイルを製造することが提案されている(例えば、前記特許文献３を参照。)。この方法によれば、第１着色釉と第２着色釉の適度な反応性が得られるので、それらの反応によって窯変調模様が得られる。
また、陶磁器素地の表面にマット釉薬を下釉薬として表面が平滑になるように施すと共に、その上にその下釉薬よりも耐火度の高い中釉薬を島状に施し、更にそれらの上に透光性の上釉薬を掛けて焼成することで質感のある模様を得ることが提案されている(例えば、前記特許文献４を参照。)。この方法によって得られる模様は、窯変調模様に類似するものと考えられる。しかしながら、これら特許文献１〜特許文献４の何れの方法も、釉薬の化学反応を利用するものであることから、焼成条件等の影響を排除し得ないので、安定した窯変調模様を得ることは困難である。
これらに対して、釉掛けしたタイル上に窯変調模様を印刷し、更に有色釉を数種類スプレーして斑点状に付着させて焼き付けることにより、窯変調タイルを製造することが提案されている(例えば、前記特許文献５を参照。)。この方法によれば、印刷によって窯変調模様の全体の絵柄が形成されると共に、スプレーによって輪郭のぼやけた模様が得られるため、不安定な焼成条件等の影響を受けることなく窯変調模様を得ることができる。しかしながら、スプレーはばらつきが大きいので、安定した品質で大量生産することは未だ困難である。
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであって、その目的は、安定した品質で大量生産可能な窯変調模様の陶磁器およびその製造に好適な転写紙を提供することにある。
斯かる目的を達成するため、第１発明の要旨とするところは、陶磁器表面に窯変調模様を形成するための転写紙であって、(ａ)フラックスと金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とを含む絵具により形成された下地材料層と、(ｂ)前記下地材料層に浸食して反応する絵具によりその下地材料層よりも粗なパターンで重ねて形成された上材料層とを、含むことにある。
また、第２発明の窯変調模様を有する陶磁器の要旨とするところは、(ａ)フラックスと金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とを含む下地層と、(ｂ)前記下地層に浸食して反応する絵具によりその下地層よりも粗なパターンで重ねて形成された上層とを、含むことにある。
前記第１発明によれば、下地材料層に金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とが含まれると共に、上材料層が下地材料層に浸食して反応する絵具によりその下地材料層よりも粗なパターンで形成されていることから、下地材料層においては、上記金属化合物によって絵具自体の反応が生じ、生成された下地層が露出する部分では、反応生成物とマット材とによってざらざらした質感のマット仕上げ部分が得られる。一方、上層で覆われる部分においては、浸食性の上材料層との反応によりグロッシーな質感が得られる。これにより、窯変調模様を容易に施すことができる。また、このような窯変調模様は、転写紙に下地材料層および上材料層を重ねて設け、これを陶磁器表面に転写して焼成処理を施すことで得られるから、安定した品質で大量生産することも可能である。
また、前記第２発明によれば、下地層に金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とが含まれると共に、上層が下地層に浸食して反応する絵具によりその下地層よりも粗なパターンで形成されていることから、下地層においては、上記金属化合物によって絵具自体の反応が生じ、下地層が露出する部分では、反応生成物とマット材とによってざらざらした質感のマット仕上げ部分が得られる。一方、上層で覆われる部分においては、浸食性の上層との反応によりグロッシーな質感が得られる。したがって、窯変調模様を有する陶磁器が容易に得られる。また、このような窯変調模様は、前記第１発明の転写紙を用いて陶磁器表面に転写して焼成処理を施すことで得られるから、安定した品質で大量生産することも可能である。
ここで、好適には、前記第１発明および前記第２発明において、前記フラックスは35(wt%)以上且つ65(wt%)以下の範囲内、前記金属酸化物はそれぞれ10(wt%)以上、前記マット材は5(wt%)以上且つ30(wt%)以下の範囲内で含まれるものである。このようにすれば、特に下地層の露出する部分において、光沢が抑制されるので、一層好ましい適度な光沢を有する窯変調模様が得られる。すなわち、光沢抑制のためには、前記金属酸化物がそれぞれ10(wt%)以上、合計で30(wt%)以上含まれると共に、マット材が5〜30(wt%)の範囲で含まれることが好ましい。したがって、フラックスはこれらの残部で、35〜65(wt%)の範囲が好ましい。
また、好適には、前記上材料層および前記上層は、酸化アルミニウム Al2O3、酸化亜鉛 ZnO、酸化コバルト Co3O4、酸化ニッケル NiO、二酸化マンガン MnO2、酸化チタン TiO2、珪酸ジルコニウム ZrSiO4、酸化銅 CuO、メタ錫酸 H2SnO3のうちの少なくとも一種を着色用金属酸化物として含むものである。第１発明および第２発明においては、上層の色を調整するため、これらの着色用金属酸化物を添加することができる。
また、好適には、前記陶磁器は軟釉磁器である。第１発明の転写紙を用いる陶磁器は特に限定されないが、軟釉磁器に用いることが最も好ましい。すなわち、好適には、前記第２発明の陶磁器は軟釉磁器に窯変調加飾を施したものである。なお、軟釉とは、概ね1200(℃)以下の低温で熔融する釉薬で、高温で熔融する硬釉に対する概念である。
また、好適には、前記窯変調転写紙は、前記下地材料層および前記上材料層に加えて、それらの間に位置し且つそれらの中間のパターン密度を有する中間材料層を備えたものである。また、前記窯変調模様を有する陶磁器は、前記下地層および前記上層に加えて、それらの中間のパターン密度を有する中間層を備えたものである。このようにすれば、これらのパターンの組合せにより一層多彩な窯変調模様を得ることができる。なお、積層する層数は特に限定されないが、２層または３層が好ましい。４層以上積層すると下地層の色相や質感が表に現れるように設計することが困難である。
また、好適には、前記下地材料層および下地層を構成するフラックスは、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、ZrO2を含むSiO2-B2O3系ガラスである。本発明において、マット調の質感を得るためにはZnOが3(mol%)以上含まれることが好ましい。
また、好適には、前記上材料層および上層を構成するフラックスは、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、V2O5を含むSiO2-ZnO系ガラスである。本発明において、上層の浸食性を高め延いては発泡を抑制するためにはV2O5が含まれることが好ましい。
また、前記マット材は、従来から陶磁器の釉薬に用いられている適宜のものを適用し得るが、例えば、アルミナ、珪酸ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛が挙げられる。なお、マット材は光沢を抑制するために添加されるものであるから、下地材料層および下地層のみに含まれ、上材料層および上層には含まれないことが好ましい。
また、好適には、前記陶磁器に前記窯変調転写紙を転写した後の焼成処理は、950〜1100(℃)で施される。通常の軟釉磁器の絵付けは例えば800〜850(℃)で焼成処理が施されるが、下地材料層に添加した金属酸化物を十分に反応させるためには、950(℃)以上の高温が好ましい。
本発明の一実施例の転写紙を側面視にて示す図である。 図１の転写紙に備えられている下地材料層のパターンを示す図である。 図１の転写紙に備えられている上材料層のパターンを示す図である。 図１の転写紙の製造工程およびこれを用いた絵付け工程を説明する工程図である。 図４の転写工程の実施過程を示す図である。 転写により絵付けされた陶磁器の一例を示す図である。 図６の陶磁器の要部断面を模式的に示す図である。 図１の転写紙の下地材料層と上材料層との間に備えられ得る中間材料層のパターンの一例である。 図１の転写紙の下地材料層と上材料層との間に備えられ得る中間材料層のパターンの他の一例である。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例において図は適宜簡略化或いは変形されており、各部の寸法比および形状等は必ずしも正確に描かれていない。
図１は、本発明の一実施例の窯変調転写紙１０の断面を模式的に示す図である。図１において、転写紙１０は、陶磁器の転写絵付けに通常用いられるものと同様に、トップコート１２の上に下地材料層１４および上材料層１６が形成されたもので、例えばドーナツ型の平面形状を備えている。図２は、転写紙１０の一部、例えば1/4周程度の範囲について、上記下地材料層１４のパターンの一例を示したもので、何ら模様が形成されていない全面に釉薬が一様に塗布された形態を備えている。一方、上材料層１６は、図３に示すように、まばらに釉薬が塗布された形態を備えている。すなわち、上材料層１６は、下地材料層１４に比較して粗なパターンに形成されている。なお、図３も図２と同様に転写紙１０の1/4周程度の範囲を示した。
上記の下地材料層１４は、例えば、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、ZrO2を含むSiO2-B2O3系ガラスから成るフラックスと、酸化鉄、酸化クロム、酸化コバルト等の酸化物と、マット材として添加されている酸化アルミニウムおよび珪酸ジルコニウムと、有機結合剤と、有機溶剤とを含むものである。無機成分の割合は、例えば、フラックスが45(wt%)、Fe2O3が10(wt%)、Cr2O3が10(wt%)、Al2O3が10(wt%)、ZrSiO4が15(wt%)、Co3O4が10(wt%)になっている。また、上記フラックスは、例えば、酸化物換算でLi2Oが6.10(mol%)、Na2Oが6.60(mol%)、K2Oが1.00(mol%)、MgOが2.59(mol%)、CaOが3.10(mol%)、ZnOが3.10(mol%)、B2O3が10.20(mol%)、Al2O3が4.10(mol%)、SiO2が60.10(mol%)、ZrO2が3.10(mol%)の割合で含まれるもので、熱膨張率は7.5×10-6(/℃)程度である。
また、前記上材料層１６は、例えば、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、ZnO、B2O3、Al2O3、SiO2、V2O5を含むSiO2-ZnO系ガラスから成るフラックスと、酸化銅等の顔料と、有機結合剤および有機溶剤とを含むものである。無機成分の割合は、例えば、フラックスが50(wt%)、CuOが50(wt%)になっている。また、上記フラックスは、例えば、酸化物換算でLi2Oが2.40(mol%)、Na2Oが2.67(mol%)、K2Oが1.60(mol%)、MgOが1.87(mol%)、CaOが9.07(mol%)、ZnOが9.07(mol%)、B2O3が2.40(mol%)、Al2O3が5.60(mol%)、SiO2が61.91(mol%)、V2O5が3.39(mol%)の割合で含まれるもので、熱膨張率は7.0×10-6(/℃)程度である。すなわち、下地材料層１４に含まれるフラックスと十分に近似する熱膨張率を有する。上記上材料層１６の絵具組成は、このような熱膨張率で、しかも、下地材料層１４への高い浸食性と反応性とが得られるように決定されている。
図４は、上記転写紙１０の製造工程およびこれを用いた陶磁器の絵付け工程の要部を説明する工程図である。なお、調合工程Ｓ１〜印刷工程Ｓ５は、下地材料層１４および上材料層１６のそれぞれについて実施される。調合工程Ｓ１では、前記組成のフラックスが得られるように定められた割合でガラス原料を調合する。次いで、熔融工程Ｓ２では、例えば1400(℃)でガラス原料を溶融し、冷却後、粉砕工程Ｓ３でポットミル等を用いて乾式粉砕する。粉砕後の粒径は印刷時に用いられる目開きが60(μm)程度のスクリーンメッシュを容易に通過する大きさで、例えば10(μm)以下である。
次いで、混合工程Ｓ４では、ガラス粉末に前記無機成分およびビヒクルを添加し、ポットミル等を用いて湿式混合する。これにより、前記下地材料層１４および上材料層１６をそれぞれ形成するための印刷用絵具が得られる。なお、ビヒクルの添加量は、印刷が容易な粘度が得られるように適宜定めればよい。次いで、印刷工程Ｓ５では、例えば厚膜スクリーン印刷の手法を用いて、前記図２、図３に示されるパターンで下地材料層１４および上材料層１６を順次に重ねて印刷する。これにより、前記図１に示される転写紙１０が得られる。
次いで、転写工程Ｓ６では、絵付けを施す陶磁器を用意し、転写紙１０をその所定の位置に貼り付ける。図５は、この貼り付け過程を示したもので、絵付けする皿素地１８の外周縁よりもやや内周側の位置にドーナツ型の転写紙１０が皿素地１８と同心に貼り付けられている。この皿素地１８は、例えばボーンチャイナ等の軟釉磁器から成るもので、素地自体の焼成処理および全体を覆う釉薬の焼成処理が施されたものである。
このようにして転写紙１０を貼り付けた後、焼成工程Ｓ７において、下地材料層１４および上材料層１６の組成に応じた950〜1100(℃)の範囲内の適宜の温度で焼成処理を施す。これにより、下地材料層１４および上材料層１６からビヒクルやトップコート等の有機物が焼失し、且つそれらに含まれるフラックスが溶融させられることにより、下地層２４および上層２６が生成され、図６に例示されるような窯変調模様２０が形成された皿２２が得られる。図７は、下地層２４および上層２６が形成された皿２２の外周縁部断面を模式的に示す。なお、下地層２４および上層２６の実際の厚さ寸法は皿厚みに比して無視できる程度に薄いが、図７では図示の都合により皿２２の厚みに対して下地層２４および上層２６の厚みが著しく厚く描かれている。
このとき、本実施例においては、下地材料層１４および上材料層１６をそれぞれ構成するフラックスが前記のような組成を有することから、上材料層１６は下地材料層１４に浸食して反応する物性を備えていると共に、下地材料層１４には金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とが含まれている。そのため、上記焼成過程において、上記金属酸化物が反応し、且つマット材を含む下地材料層１４からはざらざらした質感の下地層２４が生成され、下地材料層１４が浸食性の上材料層１６で覆われた部分ではグロッシーな質感の上層２６が生成される。しかも、上材料層１６は、前記図３に示されるように粗なパターンで形成されていることから、マット調の下地層２４がグロッシーな上層２６から部分的に露出させられた窯変調模様２０が得られる。
ここで、種々のフラックス組成および絵具組成について、前述した実施例と同様にして転写紙を作製し、絵付けを行った試験結果を説明する。下記の表１は、前記下地材料層１４を形成するための絵具の構成材料として評価したフラックス組成をまとめたものである。表１中のｆｂ１が前記実施例で用いたフラックスで、ｆｂ２〜ｆｂ７が比較対象である。熱膨張率はフラックス単独で測定し、メタル感は絵具を調製して陶磁器に塗布、焼成して評価した。なお、この評価に用いた絵具組成は、フラックスを45(wt%)、Fe2O3を10(wt%)、Cr2O3を10(wt%)、Al2O3を10(wt%)、ZrSiO4を15(wt%)、Co3O4を10(wt%)とした。
上記の表１に示されるように、フラックスｆｂ２は熱膨張率がｆｂ１に比較すると小さい結果が得られた。そのため、熱膨張率の相違から、ｆｂ１の代替材料として用いることは困難であるが、良好なメタル感は得られるので、陶磁器や上材料層１６を構成するフラックス組成を熱膨張率が適合するように適宜選択することにより、使用可能なフラックス組成と考えられる。
フラックスｆｂ３、ｆｂ６は、熱膨張率はｆｂ１に近似するが、メタル感が得られない。また、他のｆｂ４、ｆｂ５、ｆｂ７は、熱膨張率も相違し、メタル感も得られない。したがって、これらｆｂ３〜ｆｂ７のフラックスは、下地材料層１４の構成材料としては不適当と考えられる。下地材料層１４のフラックスとしては、ZnOが3.0(mol%)以上含まれていることが必要であると推察される。
また、下記の表２は、前記上材料層１６を形成するための絵具の構成材料として評価したフラックス組成をまとめたものである。表１中のｆｕ１が前記実施例で用いたフラックスで、ｆｕ２〜ｆｕ５は比較対象である。なお、これらのうちｆｕ４は前記表１のｆｂ１と、ｆｕ５はｆｂ２と同一のものである。また、この評価で用いた絵具組成は、フラックスを70(wt%)、Al2O3を5(wt%)、ZrSiO4を15(wt%)、ZnOを10(wt%)とした。また、外観等は、下地材料層１４を前記表１のフラックスｆｂ１を用いてその表１の評価に用いた絵具組成で形成し、この上に上材料層１６を重ねて焼成して観察した。
上記の表２に示されるように、前記実施例で用いたフラックスｆｕ１では、艶のある盛り上がりが得られ、窯変調模様を得るために好適である。これに対して、フラックスｆｕ２は、流動性が大きすぎ、ｆｕ３は失透し、ｆｕ４、ｆｕ５は何れも発泡し、絵付けに適用困難な結果であった。発泡した２つのフラックスは何れもV2O5を含まない組成で、上材料層１６の浸食性を高め延いてはその発泡抑制にはこれが含まれることが好ましいと考えられる。
下記の表３は、前記表１に示すフラックスｆｂ１を用いて、添加する金属酸化物等の種類および量を種々変更して下地絵具を調製し、陶磁器に塗布、焼成してメタル感および色調を評価した結果である。なお、前記表１に示すフラックスｆｂ１〜ｆｂ７の評価は、下記表１に示される組成ｂ１を用いて行っている。
上記の表３において、組成ｂ１は、マット調が強すぎ、窯変調模様２０の下地層２４には不適と考えられる。また、組成ｂ３〜ｂ７は、光沢があるため、これも窯変調模様２０の下地層２４には不適と考えられる。
これに対して、組成ｂ２、組成ｂ８〜ｂ１０は、適度なマット調のメタル感が得られ、窯変調模様２０の下地層２４に好適であることが判った。これら良好な結果が得られたものは、Fe2O3、Cr2O3、Co3O4が何れも10(wt%)以上の割合で含まれており、マット調を得るためにはこれらを含むことが好ましいと考えられる。
また、下記の表４は、前記表２に示すフラックスｆｕ１を用いて、添加する顔料等の種類および量を種々変更して上絵具を調製し、前記表３の組成ｂ１の絵具を用いた下地材料層１４上に上層１６を形成し、転写、焼成して反応と色調を評価したものである。なお、前記上層用フラックスｆｕ１〜ｆｕ５の評価は、下記表４に示される組成ｕ１を用いて行っている。
上記の表４に示されるように、組成ｕ３、ｕ５は熔融し難く浸食性が低いため、本実施例の目的には用い難いことが判った。これらは添加した金属酸化物(特に、TiO2、Co3O4、Cr2O3)が熔け難いため、これが絵具の性状に影響したものと考えられる。一方、組成ｕ１、ｕ２、ｕ４、ｕ６によれば、何れも良好な反応性を示した。所望する色調に応じてこれらのうちから選択して用いれば、種々の態様の窯変調模様２０を得ることができる。
下記の表５は、前記表３，４に示される下地絵具および上層絵具を用いた転写紙構成例をまとめたものである。下記表５のうち、１〜６、８が好適な結果が得られる実施例、７が比較例である。前記表３、４において、好適と判断された絵具組成は、種々の組合せで使用し得るもので、下記の１〜６、８にその一例を示した。
なお、上記表５において、「印刷版」は、スクリーン印刷法で前記転写紙１０を作製するに際して利用したスクリーン印刷用製版のパターンを表している。印刷版Ａは、前記図２に示された全面べたのパターンで、下地層２４を構成するために用いられる。また、印刷版Ｄは、前記図３に示された粗なパターンで、上層２６を構成するために用いられる。また、印刷版Ｃは、図８に示したもので、構成例１，３に示されるように、３層構成とする場合の中間層に用い得るものである。この印刷版Ｃは、印刷版Ｄと同様な全体に略一様に分布する斑点パターンであるが、その印刷版Ｄよりは高密度のものである。なお、このような印刷版Ｃに代えて、図９に示す印刷版Ｂを用いることもできる。この印刷版Ｂは、印刷版Ｃと同程度の密度ではあるが、内周側の方が外周側に比較して高密度のパターンになっている。
また、上記表５の構成例１，３は、印刷版Ａ，Ｃ，Ｄを順に重ねた３層構成である。この構成例１において印刷版Ａ，Ｃに用いている下地絵具ｂ６、ｂ４は、前記表３において不適と判定したものであるが、ここでは実施例に含めた。これらは前述したような２層構成では使用し難いが３層構成であれば窯変調模様２０を形成するために好適に用い得る。
以上、本発明を図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。
１０：窯変調転写紙、１２：トップコート、１４：下地材料層、１６：上材料層、１８：皿素地、２０：窯変調模様、２２：皿、２４：下地層、２６：上層

Claims (8)

  1. 陶磁器表面に窯変調模様を形成するための転写紙であって、
    フラックスと金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とを含む絵具により形成された下地材料層と、
    前記下地材料層に浸食して反応する絵具によりその下地材料層よりも粗なパターンで重ねて形成された上材料層と
    を、含むことを特徴とする窯変調転写紙。
  2. 前記フラックスは35(wt%)以上且つ65(wt%)以下の範囲内、前記金属酸化物はそれぞれ10(wt%)以上、前記マット材は5(wt%)以上且つ30(wt%)以下の範囲内で含まれるものである請求項１の窯変調転写紙。
  3. 前記上材料層は、Al2O3,ZnO,Co3O4,NiO,MnO2,TiO2,ZrSiO4,CuO,H2SnO3のうちの少なくとも一種を着色用金属酸化物として含むものである請求項１または請求項２の窯変調転写紙。
  4. 前記陶磁器は軟釉磁器である請求項１乃至請求項３の何れか１項の窯変調転写紙。
  5. フラックスと金属酸化物Fe2O3,Cr2O3,Co3O4とマット材とを含む下地層と、
    前記下地層に浸食して反応する絵具によりその下地層よりも粗なパターンで重ねて形成された上層と
    を、含むことを特徴とする窯変調模様を有する陶磁器。
  6. 前記フラックスは35(wt%)以上且つ65(wt%)以下の範囲内、前記金属酸化物はそれぞれ10(wt%)以上、前記マット材は5(wt%)以上且つ30(wt%)以下の範囲内で含まれるものである請求項５の窯変調模様を有する陶磁器。
  7. 前記上層は、Al2O3,ZnO,Co3O4,NiO,MnO2,TiO2,ZrSiO4,CuO,H2SnO3のうちの少なくとも一種を着色用金属酸化物として含むものである請求項５または請求項６の窯変調模様を有する陶磁器。
  8. 前記陶磁器は軟釉磁器である請求項５乃至請求項７の何れか１項の窯変調模様を有する陶磁器。
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