JP2010216891A - 計測装置 - Google Patents

計測装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010216891A
JP2010216891A JP2009061978A JP2009061978A JP2010216891A JP 2010216891 A JP2010216891 A JP 2010216891A JP 2009061978 A JP2009061978 A JP 2009061978A JP 2009061978 A JP2009061978 A JP 2009061978A JP 2010216891 A JP2010216891 A JP 2010216891A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
measurement
unit
measurement object
acquired
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009061978A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5287385B2 (ja
Inventor
Yoshihiro Kanetani
義宏 金谷
Takahiro Suga
孝博 菅
Hiroaki Takimasa
宏章 滝政
Naoya Nakashita
直哉 中下
Yusuke Iida
雄介 飯田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Corp, Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Omron Corp
Priority to JP2009061978A priority Critical patent/JP5287385B2/ja
Priority to DE102010000467.7A priority patent/DE102010000467B4/de
Priority to US12/712,530 priority patent/US8917900B2/en
Publication of JP2010216891A publication Critical patent/JP2010216891A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5287385B2 publication Critical patent/JP5287385B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0608Height gauges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/14Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/36Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals
    • G02B7/38Systems for automatic generation of focusing signals using image sharpness techniques, e.g. image processing techniques for generating autofocus signals measured at different points on the optical axis, e.g. focussing on two or more planes and comparing image data

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】計測装置において、計測対象物の変位計測または二次元画像の撮像について、より高度な計測を実現する。
【解決手段】コントローラ200では、センサヘッド100の変位計測部に、計測対象物500の高さの計測のためのフォトダイオード2の受光信号を出力させ、これに基づき、計測対象物500の表面の高さを計測する。次に、コントローラ200では、計測対象物500の高さに基づいて、画像取得タイミングを決定する。具体的には、テーブルから、算出された計測対象物500の高さTに対応するピント調整値Pが取得され、そして、当該ピント調整値Pを実現するタイミングで画像取得信号を撮像素子9に送信する。これにより取得された画像より、計測対象物500の高さに基づいて、計測対象物500上の2点間の長さを演算する。
【選択図】図1

Description

本発明は、計測装置に関し、非接触で計測対象物の変位を計測し、かつ、当該計測点周辺の画像を取得する、計測装置に関する。
従来の計測装置には、例えば特許文献1に開示されるように、電子回路基板などの計測対象物について、高さ計測と当該計測点周辺の2次元画像取得を単一の装置で行なうものがあった。
このような計測装置では、CCD(Charge-Coupled Device)カメラ等により計測対象物の2次元画像を取得し、当該2次元画像を、半導体レーザスキャナやレーザスポット受光位置検出素子による計測対象物の高さ変位の計測の際の測定ポイントの視認用に用いたり、計測対象物の外観に損傷がないかを観察したりすることができる。
特開平10−288508号公報
なお、このような計測装置において、単に計測対象物についての外観を観察するだけでなく、画像を用いた計測が実現されることについて、常に高い要望が寄せられている。
本発明はかかる実情に鑑み考え出されたものであり、その目的は、計測装置において、計測対象物の変位計測および当該計測点周辺の二次元画像の取得および取得画像より計測対象物上の二点間の長さの算出を実現することである。
本発明に従った計測装置は、計測対象物の表面の変位を計測する変位計測部と、計測対象物の2次元画像を撮像素子により取得する画像取得部と、取得したより前記計測対象物上の2点間の長さを算出する画像計測部と、を備える。
本発明の計測装置は、好ましくは、変位計測部の計測結果に基づいて、画像取得部が合焦状態となるように光学配置を制御する。
本発明の計測装置は、好ましくは、変位計測部の計測結果に基づいて、画像取得部による画像計測部への入力画像取得のタイミングを制御する。
本発明の計測装置は、好ましくは、特定の計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、画像取得部による取得画像上の複数の特徴点間の計測距離との関係と、特定の計測対象物について画像を取得したときの変位計測部による計測結果との関係を表す関連情報を記憶する記憶部をさらに備え、未知の計測対象物の変位計測部による計測結果と、記憶部に記憶された関連情報とに基づいて、画像計測部により未知の計測対象物について取得した画像より前記未知の計測対象物上の2点間の長さを算出する。
本発明の計測装置では、好ましくは、記憶部は、特定の計測対象物について、変位計測部に対する複数の距離において、計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、画像取得部による取得画像上の複数の特徴点間の計測距離との関係と、特定の計測対象物について画像を取得したときの変位計測部による計測結果との関係とを、関連情報として記憶する。
本発明の計測装置では、好ましくは、記憶部は、特定の計測対象物について、変位計測部に対する複数の距離において、計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、画像取得部による取得画像上の複数の特徴点間の計測距離との関係と、特定の計測対象物について画像を取得したときの変位計測部による計測結果との関連性を表す関数とを、関連情報として記憶する。
本発明の計測装置では、好ましくは、画像計測部は、未知の計測対象物についての画像計測部による取得画像における2点の位置の入力を受付けた場合に、関連情報に基づいて、当該未知の計測対象物上の2点間の長さを算出する。
本発明の計測装置では、好ましくは、画像計測部は、画像取得部が、撮像素子が画像を取得する光の光軸方向においての複数位置について合焦状態となるように光学配置を制御して取得された計測対象物のそれぞれの画像において、合焦画素を抽出し、抽出された合焦画素によって構成される部分画像を生成し、生成された部分画像を、画像取得部が合焦状態となるような光学配置の制御に対応した倍率で変換し、倍率で変換後の画像を合成することにより、画像取得部による取得画像を修正する。
本発明の計測装置では、好ましくは、画像取得部は、複数の色の照明を独立して照射可能な照射部を含み、照射部が照射する照明の色ごとに、画像取得部が合焦状態になるように光学配置を制御して、画像を取得し、照射部が照射する照明の色ごとに取得した画像に対して行なった光学配置の制御に基づいて、当該照射部が照射する照明の色ごとに取得した画像の倍率を変換して、これらの画像を合成することにより画像を生成する。
本発明によれば、計測対象物の表面の変位を計測し、その計測結果に基づいて、計測対象物の2次元画像を取得し、かつ取得画像より計測対象物上の2点間の長さを算出することができる。
したがって、本発明によれば、計測装置において、計測対象物の二次元画像の取得に計測対象物の表面の変位の計測結果を利用でき、これにより、オペレータが希望する態様での二次元画像の取得が可能となる。さらに計測装置において取得された画像より計測対象物上の2点間の長さを算出することができる。
本発明の計測装置の第1の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 図1の計測装置における、対物レンズの位置を表わす信号とフォトダイオードにより得られた受光信号との関係を示す図である。 図1の計測装置のブロック構成を示す図である。 本発明の計測装置の撮像素子のピント調整のために実行される処理のフローチャートである。 本発明の計測装置の第2の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 本発明の計測装置の第3の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 本発明の計測装置の第4の実施の形態が、ベルトコンベア上に載置された複数の計測対象物上の2点間の長さを算出するのに用いる画像の取得を連続する状態を模式的に示す図である。 本発明の計測装置の第4の実施の形態において、画像取得部に計測対象物上の2点間の長さを算出するのに用いる画像の取得を行なわせるタイミングを決定するための処理のフローチャートである。 本発明の計測装置の第6の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 図9の計測装置において取得される画像の一例を示す図である。 本発明の計測装置の第6の実施の形態において実行される、補正係数の作成のための処理のフローチャートである。 図9の計測装置が、計測対象物を載置するステージとともに利用される状態を模式的に示す図である。 本発明の計測装置の第6の実施の形態における取得画像中の距離の変換の処理についてのフローチャートを示す図である。 本発明の計測装置の第6の実施の形態における補正係数の演算式を生成する態様を説明するための図である。 本発明の計測装置の第8の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 図15の計測装置における取得画像の処理内容を説明するための図である。 図15の計測装置において実行される、画像を合成する処理のフローチャートを示す。 図17の画像合成処理において実行される、合焦画素を抽出する処理のフローチャートを示す。 図18の処理におけるデータの一例を示す図である。 図17の処理における、画像データの倍率の変更の処理のフローチャートである。 図20の処理における変換の前後の画像データを模式的に示す図である。 本発明の計測装置の第9の実施の形態の、画像取得部における色収差を説明するための図である。 本発明の計測装置の第9の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。 図23の計測装置における取得画像の生成態様の概要を模式的に示す図である。 計測装置の画像取得部についての、各色についてのピント位置(ピントが合う位置)の関係を説明するための図である。 図23の計測装置において実行される、取得画像を生成する処理のフローチャートである。 図23の計測装置において実行される、取得画像を生成する処理のフローチャートである。 図26および図27の処理において利用されるデータベースの内容の一例を示す図である。
以下、本発明の計測装置の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、同一の構成要素には各図において同一の符号を付し、詳細な説明は繰返さない。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の計測装置の第1の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。
計測装置は、センサヘッド100と、当該センサヘッド100を制御するコントローラ200から主に構成される。
センサヘッド100では、第1の投光部であるレーザダイオード1から照射される一定の強度の光が、ハーフミラー3およびハーフミラー5を介して対物レンズ6へ導かれる。そして、対物レンズ6を経て、計測対象物500の表面上に集光される。対物レンズ6は、振動子7に支持されている。振動子7の近傍位置には、振動子7を駆動するための駆動コイル(図示略)が配置されている。また、センサヘッド100には、当該駆動コイルに通電するための駆動回路(図示略)が設けられている。駆動コイルに電流を流す期間と電流の供給を停止する期間とを一定の周期で繰返すことにより、振動子7が周期的に振動する。対物レンズ6は、振動子7の振動に応じて、計測対象物500に接近する方向および遠ざかる方向に移動する。また、センサヘッド100には、レーザダイオード1の照射光の光軸方向の対物レンズ6の位置を検出するために位置検出部71が設けられている。
レーザダイオード1から計測対象物500へ向けて照射された光は、当該計測対象物500により反射される。そして、反射光は、対物レンズ6、ハーフミラー5、ハーフミラー3、絞り板31の絞り孔を介してフォトダイオード2により受光される。
フォトダイオード2から出力された受光信号は、コントローラ200に入力される。
コントローラ200は、センサヘッド100との間でのデータのやり取りを仲介する入出力インターフェイス250と、計測装置の動作を全体的に制御する中央処理部210と、中央処理部210が実行するプログラムや各種のデータを記憶する情報記憶部220と、キーボード等からなり外部からの情報の入力を受付ける入力部230と、モニタ等からなり情報を出力する出力部240とを含む。
コントローラ200では、フォトダイオード2から出力された受光信号に対し、ハイパスフィルタ処理や増幅処理等を施し、デジタル信号に変換し、当該信号に基づいて、計測対象物500の表面の変位を測定する。
本実施の形態の計測装置では、対物レンズ6は振動子7に固定され、計測対象物500の表面の変位の測定が行なわれている間、対物レンズ6は、振動子7により、レーザダイオード1の照射光の光軸方向に、つまり図1の振動子7上の両矢印に示す方向に、その位置を周期的な振動によって変化させられている。
以下、本明細書では、レーザダイオード1の照射光の光軸が垂直方向にあるものとして、計測装置において計測する計測対象物500の変位を「高さの変化」と記載されることもあるが、計測装置において変位計測部が計測する変位は高さの変化に限定されない。レーザダイオードの照射光の光軸が水平方向に設定されれば、計測装置は、計測対象物の変位として、水平面内での位置の変化を計測することとなる。
図2は、対物レンズ6の位置を表わす信号(レンズ位置信号)とフォトダイオード2により得られた受光信号との関係を示す。
位置検出部71によってレーザダイオード1の照射光の光軸方向の対物レンズ6の位置が求められる。これを時系列に並べたものが、図2のレンズ位置信号となる。レンズ位置信号は、振動子7の静止時の位置(基準位置)を中心に正弦波状に変化する信号となる。
計測対象物500の表面が、レーザダイオード1から照射され対物レンズ6によって集光される光の集光位置に一致すると、計測対象物500上で反射した光は、絞り板31の絞り孔の位置で集光する。これにより、受光信号に極大値(ピーク)が周期的に表われる。
なお、センサヘッド100では、レーザダイオード1と絞り板31の絞り孔は、ハーフミラー3の反射面に対して光学的に共役となる位置に配置されている。
図2の例では、対物レンズ6が位置Pにあるときに、受光信号にピークが表われている。これは、対物レンズ6が位置Pに置かれたときに当該対物レンズ6によって集光される光の集光位置が計測対象物500の表面に一致していることを意味する。
本実施の形態では、たとえば、予めセンサヘッド100の所定の位置から計測対象物500へ向けて集光される光の集光位置までの距離とレンズ位置信号との関係を表わす変換テーブルを求めておき、当該変換テーブルを用いて受光信号にピークが表われたときの対物レンズ6の位置に基づいて、光の集光位置に存在する計測対象物500までの距離を求める。そして、この対物レンズ6の位置の変化量により、計測対象物500表面の、上記光軸方向についての変位量が求められる。
センサヘッド100は、さらに、2次元画像を取得するための撮像素子9と、2次元画像用照明(図示略)を備えている。2次元画素用照明は計測対象物500に向けて光を照射する。当該光は、計測対象物500上で反射され、対物レンズ6を介してハーフミラー5へ導かれ、当該ハーフミラー5で反射されて、撮像素子9へ送られて結像される。
センサヘッド100では、ハーフミラー3とハーフミラー5とでは、反射する(または、透過させる)光の波長が異なるように構成されている。フォトダイオード2では、ハーフミラー5を通過し、ハーフミラー3で反射された光を受光する。
本実施の形態の計測装置では、フォトダイオード2と対物レンズ6と位置検出部71と計測対象物500とハーフミラー3と絞り板31とフォトダイオード2とコントローラ200により、変位計測部が構成されている。
また、本実施の形態の計測装置では、撮像素子9と図示しない2次元画像用照明と対物レンズ6とハーフミラー5とコントローラ200により、画像取得部が構成されている。
図3に、図1にハードウェア構成を示された本実施の形態のコントローラ200のブロック構成を示す。
図3を参照して、コントローラ200では、フォトダイオード2の受光信号を入力され、これに基づき計測対象物500の相対的な高さ位置を算出する高さ演算部261と、高さ演算部261の算出結果に基づいて撮像素子9にピントが合うタイミングで画像取得を行う信号を撮像素子9に送信するピント調整部262と、撮像素子9が取得した画像データに対して種々の処理を行なう画像取得部263と、高さ演算部261における算出結果と画像取得部263から入力される撮像素子9の取得画像とに基づいて当該取得画像中の任意の2点間の長さ等の計測を行なう画像計測部264と、計測対象物500の振動態様を制御する振動子制御部265とを含む。
コントローラ200に含まれる各構成要素は、それぞれの機能を有する独立した電気回路によりハードウェア的に実現されても良いし、または、中央処理部210が情報記憶部220に記憶された対応するプログラムを実行することによりソフトウェア的に実現されても良い。
本実施の形態の計測装置において撮像素子9のピント調整のために実行される処理のフローチャートを図4に示す。
図4を参照して、コントローラ200では、センサヘッド100の変位計測部に、計測対象物500の高さの計測のためのフォトダイオード2の受光信号を出力させ、これに基づき、計測対象物500の表面の高さを計測する(ステップSA10)。
次に、コントローラ200では、ステップSA20で、ステップSA10で(高さ演算部261によって算出された)計測対象物500の高さに基づいて、画像取得タイミングを決定する。
具体的には、ピント調整部262は、表1に示すようなテーブルを参照し、高さ演算部261によって算出された計測対象物500の高さTに対応するピント調整値Pを取得し、そして、当該ピント調整値Pを実現するタイミングで画像取得信号を撮像素子9に送信する。
なお、表1に示したようなテーブルは、たとえば情報記憶部220に記憶されている。
そして、ステップSA20では、撮像素子9のピント調整の後、撮像素子9に画像を取得させる。
本実施の形態では、ピント調整部262により、変位計測部の計測結果に基づいて、画像取得部が合焦状態となるように光学配置を制御する光学配置制御部が構成されている。
[第2の実施の形態]
図5に、本実施の形態の計測装置を示す。
本実施の形態の計測装置では、センサヘッド100は、第1の実施の形態のセンサヘッド100と同様に、変位計測部と画像取得部とを含む。
なお、第1の実施の形態のセンサヘッド100では、変位計測部は、共焦点変位計によって構成されていたが、本実施の形態のセンサヘッド100では、変位計測部は、三角測距変位計により構成される。具体的には、本実施の形態のセンサヘッド100は、第1の実施の形態のセンサヘッド100におけるハーフミラー3、絞り板31、フォトダイオード2および振動子7の代わりに、位置検出素子12と受光レンズ11とを含む。
本実施の形態の計測装置では、レーザダイオード1より照射される光束は、対物レンズ6によって絞られて、計測対象物500の表面に照射される。そして、拡散反射された光線の一部は、受光レンズ11を通過して、位置検出素子12上にスポットを作る。ここで、位置検出素子12と計測対象物500との距離によって、位置検出素子12上に光スポットが作られる位置が変化する。高さ演算部261は、位置検出素子12上の光スポットが作られた位置に基づいて、計測対象物500上のスポット光が照射された部分の高さを算出する。
本実施の形態の計測装置では、撮像素子9による画像の取得についてのピント調整を行うために、対物レンズ6の、レーザダイオード1と計測対象物500との間の光軸上の位置を変更したり、撮像素子9とハーフミラー5との間に設けられた結像レンズ82の光軸上の位置を変更するための部材(ピント調整部材)が搭載されている。ピント調整部262は、高さ演算部261による計測対象物500の高さに基づいてピント調整値を算出し、当該ピント調整値を実現するためにピント調整部材の動作を制御する。
本実施の形態のコントローラ200では、第1の実施の形態のコントローラ200と同様に、画像取得部263は、高さ演算部261の算出結果に基づいて撮像素子9のピント調整をピント調整部262が行なった状態で、計測対象物500の表面画像を取得する。
画像計測部264は、このようにして取得された画像に対して、種々の処理を実行し、計測結果を出力部240や他の装置に対して出力する。
[第3の実施の形態]
図6は、本発明の計測装置の第3の実施の形態の全体構成を模式的に示す図である。
本実施の形態のセンサヘッド100は、第1の実施の形態のセンサヘッド100と同様の構成を有している。
一方、本実施の形態のコントローラ200では、高さ演算部261によって算出された計測対象物500の高さに基づいて、撮像素子9が取得した画像の結像倍率を考慮して取得画像上距離(画素単位)を実距離に補正するための補正係数を算出する補正係数演算部266を含む。
コントローラ200の情報記憶部220(図1参照)には、表2に示すような、計測対象物500の高さTとTに対する補正係数Qとが関連付けられたテーブルが記憶されている。
なお、高さTと補正係数Qとの関係は、計測対象物500の表面が対物レンズ6から離れた位置にあるほど(高さTの値が低いほど)、補正係数Qの値は大きくなり、撮像素子9による取得画像上の距離(画素単位)が大きく補正されるようになる。これにより、本実施の形態の計測装置では、画像計測部264は、撮像素子9により取得された画像より計測対象物500上の2点間の長さの算出を行なう際に補正係数Qを用いることにより、対物レンズ6と計測対象物500との距離が変化しても、画像計測部264が撮像素子9の取得画像に対して補正係数演算部266で得られた補正係数の倍率で当該取得画像上の距離を補正することにより、実距離を計測することができる。
[第4の実施の形態]
図7は、本実施の形態の計測装置が、ベルトコンベア上に載置された複数の計測対象物についての変位の計測を連続して行う状態を模式的に示す図である。
図7に、本実施の形態の計測装置のセンサヘッド部分のみの構成を模式的に示す。
図7を参照して、本実施の形態の計測装置は、ベルトコンベア600の上方に設置されている。ベルトコンベア600上には、複数の計測対象物501〜504が、ベルトコンベア600の流れ方向A1について間隔をあけて配列されている。ベルトコンベア600が流れることにより、本実施の形態のセンサヘッドの直下には、計測対象物501、計測対象物502、計測対象物503、計測対象物504の順に位置することになる。
ベルトコンベア600が矢印A1方向に流された場合、センサヘッドの変位計測部が連続的に変位を計測していれば、レーザダイオード1の照射光によるスポット光が計測対象物501の表面上に照射されている期間(P1)と、計測対象物501と計測対象物502の間のベルトコンベア600上に照射されている期間(P2)と、計測対象物502上に照射されている期間(P3)と、計測対象物502と計測対象物503の間のベルトコンベア600上に照射されている期間(P4)と、計測対象物503上に照射されている期間(P5)と、計測対象物503と計測対象物504の間の領域に照射されている期間(P6)と、計測対象物504上に照射されている期間(P7)とで、変位計測部が計測する表面の高さが異なるため、計測装置における高さの計測結果が異なる。具体的には、期間P1,P3,P5,P7と期間P2,P4,P6とでは、計測結果が比較的大きく異なる。
本実施の形態の計測装置では、変位計測部が計測する高さが、レーザダイオード1の照射光によるスポットが計測対象物上に当たっていると考えられる期間にのみ、撮像素子9による計測対象物上の2点間の長さを算出するのに用いる画像の取得を行なう。具体的には、図7においてH1に示された範囲内、つまり、計測対象物の表面が存在すると考えられる高さ位置に所定の余裕が加えられた範囲内に、変位計測部による高さの計測結果が含まれる場合にのみ、撮像素子9による計測対象物上の2点間の長さを算出するのに用いる画像の取得を行なうようにしている。
このような計測対象物上の2点間の長さを算出するのに用いる画像の取得のタイミング制御について、図8のフローチャートを参照してより具体的に説明する。
図8を参照して、本実施の形態の計測装置では、ステップSB10で、変位計測部による高さ計測が開始され、そして、ステップSB20で、変位計測部による高さの計測結果が画像計測実施範囲内(図7の範囲H1の範囲内)であるか否かの判断がなされる。そして、高さ計測結果がそのような範囲になければ、ステップSB50へ処理が進められ、高さ計測結果が画像計測実施範囲内であると判断されれば、ステップSB30へ処理が進められる。
ステップSB50では、計測停止信号が入力されたか否かが判断される。計測停止信号とは、本実施の形態の計測装置における変位計測部による高さ計測および画像取得部による画像の取得を停止させるための信号であり、たとえば、オペレータが入力部230に対して特定の操作を行なうことにより、当該信号が入力される。
そして、ステップSB50で、まだ計測停止信号が入力されていないと判断されると、処理はステップSB10へ戻される。
ステップSB20において、高さ計測結果が画像計測実施範囲内であると判断されてステップSB30へ処理が進められると、計測装置では、高さ計測の結果に基づいて、ピント調整部(図3のピント調整部262)により、撮像素子9上に画像のピントが合うタイミングで画像の取得がなされて、ステップSB40へ処理が進められる。
ステップSB40では、ステップSB30において取得された画像に対し、当該画像内の任意の2点間の距離の計測等の画像計測がなされて、ステップSB50へ処理が進められる。
ステップSB50において、計測停止信号が入力されていないと判断されれば、上記のようにステップSB10へ処理が戻され、そして、計測停止信号が入力されたと判断されると、計測に関する処理が終了する。
[第5の実施の形態]
図9に、本発明の計測装置の第6の実施の形態の全体構成を模式的に示す。
本実施の形態の計測装置は、センサヘッド100の変位計測部が、第2の実施の形態における図5のセンサヘッド100と同様に、三角測距変位計によって構成される。
そして、本実施の形態の計測装置のコントローラ200において、第3の実施の形態のコントローラ200と同様に、補正係数演算部266をさらに含むことにより、画像計測部264において、画像取得部263において得られた取得画像に対し、補正係数演算部266によって得られた補正係数に応じた画像上の2点間の長さの算出結果の補正を行うことができる。なお、補正係数演算部266は、高さ演算部261によって算出された高さの計測結果に対応した、取得画像上の距離と実距離の比率である補正係数を算出し、画像計測部264へ出力する。
これにより、本実施の形態では、撮像素子9による取得画像を出力部240に表示させ、オペレータが入力部230を介して当該表示画像中の2点を選択する操作を受付け、これに対し、当該指定された2点間の計測対象物500上の実際の距離を算出して出力することができる。
このような2点間の距離の算出には、1)予め間隔が既知の2点を含む計測対象物500の画像を撮像することにより取得画像上の2点間の距離を実際の計測対象物500上の2点間の距離に補正するための「補正係数」を生成(算出)する処理、および、2)当該補正係数を用いて取得画像中の2点間を実際の計測対象物500上の2点間の距離に変換する処理が必要とされる。
つまり、対物レンズ6と計測対象物500との間の距離が異なれば、取得画像の結像倍率が異なるため、たとえば図10(A)と図10(B)に示すように、同じ計測対象物500が異なる倍率で取得画像内に表示される。図10(A)の両矢印RAは、図10(B)の両矢印RBと、計測対象物500上の同じ2点を連結している。しかし、図10(A)の取得画像の結像倍率が、図10(B)の取得画像の結像倍率よりも大きいため、両矢印RAの長さは、両矢印RBよりも長くなっている。つまり、取得画像の結像倍率が異なるので、実際の計測対象物500上では同一の2点間距離に対応していても、結像倍率の異なる取得画像においては、両矢印RAと両矢印RBに示すように、距離が異なる。
本実施の形態では、このように、結像倍率が異なっている取得画像においても、補正係数を用いることにより、正確に、計測対象物500上の2点間の距離を算出することができる。
以下、1)補正係数の生成および2)取得画像中の2点間の距離の変換について、それぞれ説明する。
(補正係数の生成)
図11は、補正係数の生成のための処理のフローチャートである。
図11を参照して、ステップSC10では、既知の距離だけ離れている2点のマークを含む計測対象物500を、計測範囲内の最高位置が計測対象物500の測定位置となるよう設定されたステージ上に載置させて、ステップSC20へ処理を進める。
ここで、図12に、本実施の形態のセンサヘッドを、計測対象物500が載置されるステージとともに、模式的に示す。
図12を参照して、計測対象物500は、ステージ700上に載置されている。なお、ステージ700の計測対象物500を載置する位置の高さは、レーザダイオード1の光軸方向について変更可能に構成されている。
そして、ステップSC10では、上記したように、測定対象物500がステージ700によって最高位置に設定された状態で載置される。
図11に戻って、次に、ステップSC20では、計測装置において、変位計測部により計測対象物500の高さを計測して、ステップSC30へ処理が進められる。
ステップSC30では、ステップSC20における高さの計測結果に基づいて、ピント調整部262により撮像素子9上にピントが合わせられるように画像取得タイミングが制御された後、撮像素子9による画像の取得が行なわれる。
そして、ステップSC30では、撮像された画像が出力部240に表示される。
次に、ステップSC40では、オペレータからの、出力部240に表示された取得画像に対するマーク位置を指定する情報の入力を受付け、そして、受付けた2点間の、取得画像上の距離(単位は画素)を算出して、ステップSC50へ処理を進める。
ステップSC50では、実際の計測対象物500上の距離と、取得画像上の距離との比を算出し、その値を、その時点での測定対象物500の高さの補正係数として、情報記憶部220に記憶させて、ステップSC60へ処理を進める。
なお、図11に記載の補正係数の生成の処理では、たとえばオペレータからの入力により、計測対象物500上の実際の2点のマークの距離のデータがコントローラ200側で取得されており、ステップSC50では、当該距離と取得画像上の距離に基づいて、補正係数が算出される。
ステップSC60では、測定対象物500の位置が計測装置による計測可能範囲内の最低位置となったか否かを判断し、まだそのような位置ではないと判断されると、ステップSC70へ処理が進められる。
ステップSC70では、ステージ700の、計測対象物500を載置する高さを、△pだけ低くして、ステップSC20へ処理が戻される。
以上、ステップSC20〜ステップSC70の処理により、計測装置では、ステージの高さが△pだけ変更されるごとに、取得画像中の距離を実際の計測対象物500上の距離に変換するための補正係数が算出されて、情報記憶部220に記憶される。
そしてこのような補正係数の算出が、測定対象物500の、計測装置における計測範囲内の最低位置まで行なわれたと判断されると(ステップSC60でYES判断時)、ステップSC80へ処理が進められる。
ステップSC80では、ステップSC50で算出された各測定対象物500の高さの補正係数が、情報記憶部220に記憶されて、補正係数の生成についての処理が終了する。
本実施の形態では、たとえば、表3に示されるように、計測対象物500の高さごとに、補正係数R(R1,R2,R3…)が記憶される。
(取得画像中の距離の変換)
図13に、本実施の形態の計測装置における取得画像中の距離の変換の処理についてのフローチャートを示す。
図13を参照して、取得画像中の距離の変換に際しては、まずステップSD10で、ステージ上に載置された未知の計測対象物500について、変位計測部によってその高さの計測が行なわれる。
そして、ステップSD20で、ステップSD10における高さの計測結果に基づいて、撮像素子9上にピントが合うように画像取得タイミングが制御された後、撮像素子9による画像の取得が行なわれ、当該画像が出力部240に表示される。
ステップSD30では、出力部240に表示された画像に対する任意の2点の入力を受付け、そして、当該2点間の取得画像上の距離を算出して、ステップSD40へ処理を進める。
ステップSD40では、ステップSD20で画像を取得した時点の高さ計測結果に対応する補正係数を選択して、ステップSD50へ処理を進める。
ステップSD50では、ステップSD30で得られた取得画像中の距離にステップSD40で選択した補正係数を乗じることにより、ステップSD30で入力を受付けた任意の2点間の距離の計測対象物500上の実際の距離を算出して、処理を終了する。
なお、本実施の形態では、表3に示したように、複数の高さ計測結果についての補正係数Rが生成されて記憶されている。ステップSD40において取得された高さ計測結果そのものについての補正係数Rが記憶されていない場合には、当該高さに近い高さについての補正係数が利用される。たとえば、T2以上T3未満の高さの場合には、T2について記憶されている補正係数R2が利用される。
[第6の実施の形態]
以上説明した第5の実施の形態では、計測対象物の高さを△p変化させるごとに補正係数が生成されて記憶されていた。なお、補正係数を生成する計測対象物500の高さの数を少なくしても、測定した値に基づいて補正係数の演算式を生成し、当該演算式に基づいて、取得画像中の距離の変換を行なうことも考えられる。
つまり、図11に示したフローチャートでは、計測対象物500の高さを△p変化させることごとに補正係数が生成されていたが、本実施の形態では、図14に実測値として示されるように、7種類の計測対象物500の高さについて補正係数が生成され、これに基づく補正係数についての7つの実測値を、計測対象物の高さに対してプロットし、計測対象物の高さと補正係数との関係を、たとえば最小二乗法等を用いて二次多項式で近似する。
得られた二次多項式を、たとえば式(1)に表わされるものとする。
R=aT2+bT+c …(1)
そして、得られた二次多項式の係数(式(1)では、a,b,c)が、情報記憶部220に記憶される。
(取得画像中の距離の変換)
本実施の形態の取得画像中の距離の変換では、第5の実施の形態のSD30において得られた取得画像上の任意の2点間の距離は、上記したように求められた式(1)を用いて、計測対象物500の実際の距離に変換される。
[第7の実施の形態]
図15は、本実施の形態の計測装置の全体構成を模式的に示す図である。
図15を参照して、本実施の形態のコントローラ200では、画像取得部273は、計測対象物500に対してピント調整部262で画像取得のタイミングを制御することで複数の高さでピントが合っている計測対象物500の表面画像を、撮像素子9で取得する。
また、本実施の形態では、合焦点画素抽出部283は、撮像素子9による取得画像内で、焦点が合っている画素を抽出する。
一方、本実施の形態では、予め、補正係数演算部281により、上記した補正係数演算部266と同様に、ピント位置に基づく補正係数が生成される。
そして、画像処理部282は、合焦点画素抽出部283によって焦点が合っているとされた画素と対応するピント位置に対応した補正係数を補正係数演算部281によって抽出し、当該画素によって構成される画像をある基準ピント位置での結像倍率と同じになるように(基準ピント位置での補正係数/画像取得時のピント位置での補正係数)で乗じる。
そして、本実施の形態では、画像処理部282は、複数のピント位置のそれぞれで取得された画像を、上記のように、合焦している画像をそれぞれのピント位置に対応する補正係数に応じて拡大/縮小した後、それらを合成する。
これにより、たとえば、計測対象物500が3つのピント位置で撮像がなされ、それぞれの画像から抽出された合焦点が、図16(A)〜図16(C)のそれぞれにおいて白抜きで示された領域に位置しているとする。つまり、図16(A)〜図16(C)に示された部分画像801〜803では、それぞれ、合焦点として抽出された領域以外の領域が黒で塗りつぶされて示されている。
図17に、このように、合焦領域ごとに補正係数に応じて処理を行ない、その後、画像を合成する処理のフローチャートを示す。
図17を参照して、ステップSH10では、コントローラ200では、基準となるピント位置が決定される。また、基準となるピント位置の決定は、たとえば、計測装置のオペレータが、複数のピント位置で撮像された計測対象物500の画像を見て、その中から選択することにより決定される。
次に、ステップSH20では、ステップSH10で決定した基準ピント位置に対応して生成され情報記憶部220に記憶されている補正係数を選択して、ステップSH30へ処理を進める。なお、第7の実施の形態のように、計測装置において補正係数の演算式が生成されているような場合には、ステップSH20では、当該演算式と基準ピント位置とを用いて補正係数が算出される。
次にステップSH30では、ピント位置が高さAとなるようにピント調整部で画像取得タイミングを決定して画像を取得し、ステップSH40へ処理が進められる。なお、高さAとは、たとえば、図12に示したような、計測装置の変位計測部の測定範囲の最高位置とする。
ステップSH40では、画像取得部による計測対象物500の画像の取得がなされ、ステップSH50へ処理が進められる。
ステップSH50では、合焦点画素抽出部283により、ステップSH40で取得された画像の中でピントが合っている画素が抽出されて、ステップSH60へ処理が進められる。これにより、図16(A)中の部分画像801等のように、取得画像内で、合焦点の存在する領域が特定されるようになる。
ステップSH60では、ステップSH40で画像を取得した時点でのピント位置に対応する補正係数が抽出されて、ステップSH70へ処理が進められる。
ステップSH70では、ステップSH60で抽出された補正係数をステップSH20で抽出された基準ピント位置での補正係数で割った値が算出され、当該値を倍率として、ステップSH50で抽出された領域の画像の倍率が変更され、変更後の倍率に従った画像データが画像メモリ部284(情報記憶部220)に記憶されて、ステップSH80へ処理が進められる。
ステップSH80では、現時点でのピント位置が、高さBとなっているか否かを判断し、まだBとなっていなければ、ステップSH90へ処理を進める。なお、高さBとは、たとえば、図12に示したような、計測装置の変位計測部の測定範囲の最低位置とする。
ステップSH90では、変位計測部の合焦点の高さを△pだけ低くして、ステップSH40へ処理を戻す。これ以降、上記したステップSH40〜ステップSH70と同様に、ステップSH90においてピント位置を低くして、画像が取得され、合焦画素が抽出され、合焦画素からなる領域に対して、現在のピント位置と基準ピント位置とにおける補正係数に基づいて得られた倍率で、合焦画素からなる領域の画像が拡大(倍率によっては縮小)されて、ステップSH80に処理が進められる。
そして、ステップSH80において、ピント位置が上記のB以下まで低くされていた場合には、ステップSH100に処理が進められて、ステップSH70において画像メモリ部284に保存されてきた、各ピント位置の、合焦点からなる画像データが合成されることにより、画像が生成されて、処理が終了する。なお、このように生成された画像は、たとえば出力部240で表示される。
つまり、本実施の形態では、図16(A)〜図16(C)に部分画像801〜803として示すように、ピント位置ごとに合焦画素が抽出される。そして、各部分画像は、対応するピント位置の補正係数と基準ピント位置の補正係数により算出された比(倍率)だけ拡大(比が1未満の場合は縮小)する処理がなされ、当該処理後の画像データが画像メモリ部284に保存される。このような画像データの保存は、ピント位置Aからピント位置Bまで行なわれる。そして、保存された画像データが合成されることにより、取得画像が生成される。
このように生成された画像では、1つのピント位置でのみ撮像された画像と比較して、当該画像に含まれる構成要素として高さの異なる複数の構成要素が含まれる場合でも、構成要素の高さに関わりなく、同じ倍率で、各構成要素を表示させることができるよう修正されていると考えられる。
なお、本実施の形態における合焦画素の抽出は、たとえば特開平6−311411号公報に記載の技術に基づき実現することができる。
図18に、合焦画素の抽出処理のフローチャートを示す。
図18を参照して、まずステップSJ10で、画像取得部が取得した画像が合焦点画素抽出部283に入力されて、ステップSJ20へ処理が進められる。入力された画像のある1ラインの輝度プロファイルの一例を、図19のSAとして示す。
次に、ステップSJ20では、当該取得画像を構成する画素データが、所定の方向について微分されて、ステップSJ30へ処理が進められる。図19のSAが微分処理を施された後のデータの一例を、図19のSA1として示す。
ステップSJ30では、ステップSJ20における微分処理後のデータを絶対値に変換する処理がなされて、ステップSJ40へ処理が進められる。図19のSA1に対して絶対値に変換する処理がなされた後のデータの一例を、図19にSA2として示す。
ステップSJ40では、ステップSJ30で絶対値化されたデータに対して、2値化する処理がなされて、ステップSJ50へ処理が進められる。なお、図19のSA2に対し、予め設定された閾値(図19のSA2に対するVT)より2値化されたデータを、図19にSA3として示す。
ステップSJ50では、ステップSJ40における2値化後のデータに対し、「1」で囲まれた領域のデータを「1」に置き換える処理を実行して、ステップSJ60へ処理が進められる。図19のSA3に対し、ステップSJ50の処理を実行した後のデータの一例を図19にSA4として示す。
そして、ステップSJ60では、(合焦点画素抽出部283に入力された画像データに対して)ステップSJ50までの処理がなされた後のデータから、信号(データ値)が「1」となっている座標の画素が、合焦画素として抽出されて、処理が終了する。
次に、ステップSH70における画像データのサイズの変更の処理内容について、当該処理のフローチャートである図20を参照しつつ、説明する。
なお、当該サイズの変更の処理では、図21に模式的に示されるように、図21(A)の実線で囲まれた元画像PIC−1が、サイズをa倍した後、図21(B)の一点鎖線で囲まれたPIC−X、もしくは破線で囲まれたPIC−Yに示される画像とされることとする。
ここで、a倍とは、ステップSH70で算出された、基準高さの補正係数を計測対象物の高さの補正係数で割った値である。
また、図21(A)に記載の元画像は、x方向の寸法がX_Maxとされ、y方向の寸法がY_Maxとされている。
図20を参照して、ステップSK10では、変換の対象となるx座標とy座標が「0」と初期化されて、ステップSK20へ処理が進められる。
ステップSK20では、処理対象とされているx座標およびy座標の値をそれぞれaで割った値が算出されて、ステップSK30へ処理が進められる。なお、ここでは、小数点第一位の値が四捨五入されることにより、算出される値は整数とされる。
ステップSK30では、ステップSK20において算出されたxとyについての、それぞれの値(x/a,y/a)が、上記したX_MaxまたはY_Maxを越えていないかどうかが判断され、超えていると判断されるとステップSK50へ、越えていないと判断されるとステップSK40へ、処理が進められる。
ステップSK40では、変換後の座標(x,y)の画素値D(x,y)が、変換前の座標(x/a,y/a)の画素値d(x/a,y/a)とされて、ステップSK60へ処理が進められる。
一方、ステップSK50では、変換後の座標(x,y)の画素値D(x,y)が、「0」とされて、ステップSK60へ処理が進められる。
ステップSK60では、xがインクリメントされ、そして、ステップSK70においてxの値について判断がなされ、xがX_Max未満であれば、ステップSK20へ処理を戻され、xがX_Maxを越えていれば、ステップSK80へ処理が進められる。
ステップSK80では、yがインクリメントされ、そして、ステップSK90においてyの値について判断がなされ、yがY_Max未満であれば、ステップSK20へ処理を戻され、yがY_Maxを越えていれば、ステップSK100へ処理が進められる。
ステップSK100では、処理対象となるx座標の値(x)を0として、ステップSK20へ処理が戻される。
以上、図20を参照して説明した処理により、x方向にX_Maxの寸法を有し、y方向にY_Maxの寸法を有する元画像は、変換後の画像データにおいても、x方向にX_Maxの寸法を有し、y方向にY_Maxの寸法を有することとなる。
aが1より大きい場合でも、ステップSK70の処理により、変換後の画像のx座標はX_Maxまでしか生成されず、また、ステップSK90の処理より、変換後の画像のy座標はY_Maxまでしか生成されないからである。
また、aが1より小さい場合には、ステップSK50の処理により、元画像がaの倍率で縮小された際に、元画像に対して不足する画素については、画素値D=0とされることにより画像データを有することとなる。
以上より、本実施の形態では、焦点高さごとに部分画像の倍率を変えて画像が拡大/縮小されても、各部分画像の変換後の画像領域は、変換前の画像領域と、変わらないものとされる。
よって、異なる倍率で変換される複数の画像を合成しても、画素データが重なったり不足したりする等の問題が生じることはない。
[第8の実施の形態]
図23に、本実施の形態の計測装置の全体構成を模式的に示す。
本実施の形態の計測装置では、画像取得部の照明10は、赤(R),緑(G),青(B)等の複数の色の光を、色ごとに独立して照射できるように構成されている。
また、本実施の形態では、コントローラ200は、照明10の点灯/消灯を制御する照明制御部288を含む。
図22(A)は、計測対象物に白色照明光を照射したときの、計測対象物表面の各位置で反射した光が撮像素子9A上の各位置に結像する様子を示している。なお、図22(A)では、実線L1は対物レンズ6の光軸上位置からの反射光を、一点鎖線L2は対物レンズ6の光軸上位置から左寄りの位置からの反射光を示している。
画像取得部の照明である白色照明光には、赤(R),緑(G),青(B)等の複数の色の光が含まれるが、色収差によって、図22(B)に示されるように計測対象物の各位置からの反射光が撮像素子9上で結像する位置は、光の波長によって異なる。なお、図22(B)において、赤色の光の光路が点線LR1,LR2で示され、緑色の光の光路が二点鎖線LG1,LG2で示され、青色の光の光路が破線LB1,LB2で示されている。図22(B)は、図22(A)における撮像素子9Aの結像点近傍の拡大図である。
図22(B)の線LR1と線LG1と線LB1の光は、図22(A)の線L1の光に含まれるものとする。図22(B)の線LR2と線LG2と線LB2の光は、図22(A)の線L2の光に含まれるものとする。
図22(B)に示すように、計測装置において、カラー画像を取得しようとして、白色光を光源として画像取得部による画像の取得を行なった場合、色収差により、各色のピントがずれ、かつ異なる結像倍率で結像する事態が考えられる。
本実施の形態では、かかる事態を回避するために、赤(R),緑(G),青(B)の各色ごとに光を照射して、各色ごとの撮像を行ない、得られた画像を合成して、カラー画像を取得する。
このような概念を、図24に模式的に示す。
本実施の形態では、まず、図24(A)に示すように、変位計測部の計測結果により赤色の光が撮像素子9上でピントが合うようにピント制御部272によるピント調整値(この構成では画像取得タイミング)の抽出を行う。そして、照明10から赤色の光を照射して、撮像素子9で、ピントの合った画像を取得する。
次に、図24(B)に示すように、変位計測部の計測結果により緑色の光が撮像素子9上でピントが合うようにピント制御部272によるピント調整値の抽出を行う。そして、照明10から緑色の光を照射して、撮像素子9で、ピントの合った画像を取得する。
次に、図24(C)に示すように、変位計測部の計測結果により青色の光が撮像素子9上でピントが合うようにピント制御部272によるピント調整値の抽出を行う。そして、照明10から青色の光を照射して、撮像素子9で、ピントの合った画像を取得する。
そして、このようにして得られた赤色の画像と緑色の画像と青色の画像の結像倍率が同じになるよう画像サイズの補正を行なった後に3枚の画像を合成して、カラー画像を得る。
これにより、各色についてピントが合った画像が得られる。
ここで、計測装置の画像取得部についての、各色についてのピント位置の関係を、図25を参照して説明する。
図25では、ピント調整値が縦軸に、ピントが合う計測対象物の高さ位置(変位計測部による計測結果によるもの)が横軸に、それぞれ定義されている。
図25に示されるように、ピント調整値が同じであれば、赤色、緑色、青色と光の波長が短くなるにつれて、ピントが合う高さが高く(計測対象物がセンサヘッド100に近い位置でピントが合うように)なる。また、ピントが合わせる際の計測対象物500を載置する高さを一定にした場合、ピント調整値は、赤色、緑色、青色と光の波長の変化に応じて変化する。
そこで、本実施の形態の計測装置では、図12を参照して説明したように、予め、計測対象物の高さ位置等を変更させ、各色についてのピント調整値を取得し、データベースとして情報記憶部220に記憶させている。
このようなデータベースの内容の一例を、図28に示す。
図28では、計測対象物高さTごとに、照明10による赤と緑と青の各色の照明光についての、ピント調整値と補正係数とが記憶されている。
そして、このデータベースを用いた、具体的な取得画像の生成の処理について、当該処理のフローチャートである図26および図27を参照して説明する。
まず、図26を参照して、ステップSL10で、計測装置の変位計測部により計測対象物の高さが計測されて、ステップSL20へ処理が進められる。
ステップSL20では、照明10の赤色の照明が点灯されて、ステップSL30へ処理が進められる。
ステップSL30では、図28のデータベースにおける、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した赤色についてのピント調整値が取得され、当該ピント調整値に基づいて画像取得のタイミングを決定することによりピント調整が行なわれ、画像が取得されて、ステップSL40へ処理が進められる。
ステップSL40では、ステップSL20で点灯させた赤色の照明が消灯されて、ステップSL50へ処理が進められる。
ステップSL50では、ステップSL30で取得した画像に対して、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した、赤色についての補正係数が用いられて、その結像倍率が補正されて、ステップSL60へ処理が進められる。なお、結像倍率の補正は、たとえば図20を参照して説明した態様と同様のものとすることができる。
ステップSL60では、ステップSL50における補正後の画像データ(赤色の画像のデータ)が画像メモリ部(情報記憶部220)に記憶されて、ステップSL70へ処理が進められる。
ステップSL70では、照明10の緑色の照明が点灯されて、ステップSL80へ処理が進められる。
ステップSL80では、図28のデータベースにおける、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した緑色についてのピント調整値が取得され、当該ピント調整値に基づいて画像取得のタイミングを決定することによりピント調整が行なわれ、画像が取得されて、ステップSL90へ処理が進められる。
ステップSL90では、ステップSL70で点灯させた緑色の照明が消灯されて、ステップSL100へ処理が進められる。
ステップSL100では、ステップSL80で取得した画像に対して、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した、緑色についての補正係数が用いられて、その結像倍率が補正されて、ステップSL110へ処理が進められる。なお、結像倍率の補正は、たとえば図20を参照して説明した態様と同様のものとすることができる。
ステップSL110では、ステップSL100における補正後の画像データ(緑色の画像のデータ)が画像メモリ部(情報記憶部220)に記憶されて、ステップSL70へ処理が進められる。
ステップSL120では、照明10の青色の照明が点灯されて、ステップSL130へ処理が進められる。
ステップSL130では、図28のデータベースにおける、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した青色についてのピント調整値が取得され、当該ピント調整値に基づいて画像取得のタイミングを決定することによりピント調整が行なわれ、画像が取得されて、ステップSL140へ処理が進められる。
ステップSL140では、ステップSL120で点灯させた青色の照明が消灯されて、ステップSL150へ処理が進められる。
ステップSL150では、ステップSL130で取得した画像に対して、ステップSL10で得られた高さの計測結果に対応した、青色についての補正係数が用いられて、その結像倍率が補正されて、ステップSL160へ処理が進められる。なお、結像倍率の補正は、たとえば図20を参照して説明した態様と同様のものとすることができる。
ステップSL160では、ステップSL150における補正後の画像データ(青色の画像のデータ)が画像メモリ部(情報記憶部220)に記憶されて、ステップSL120へ処理が進められる。
そして、ステップSL170で、ステップSL60,ステップSL110,ステップS160で記憶された赤色と緑色と青色の画像データが合成されて、カラー画像の取得とされて、処理が終了する。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。また、各実施の形態において説明された技術的思想は、可能な限り組み合わされて実現されることが意図される。
1 レーザダイオード、2 、フォトダイオード、3,5 ハーフミラー、6 対物レンズ、7 振動子、9 撮像素子、10 照明、11 受光レンズ、12 位置検出素子、 71 位置検出部、82 結像レンズ、100 センサヘッド、200 コントローラ、 210 中央処理部、220 情報記憶部、230 入力部、240 出力部、250 入出力インターフェイス、261 演算部、262 ピント調整部、263 画像取得部、264 画像計測部、265 振動子制御部、266 補正係数演算部、266 補正係数、266 補正係数演算部、271 高さ演算部、273 画像取得部、281 補正係数演算部、282 画像処理部、283 合焦点画素抽出部、284 画像メモリ部、288 照明制御部、500〜504 計測対象物、600 ベルトコンベア、700 ステージ、801〜803 部分画像。

Claims (9)

  1. 計測対象物の表面の変位を計測する変位計測部と、
    前記計測対象物の2次元画像を撮像素子により取得する画像取得部と、
    取得した画像より前記計測対象物上の2点間の長さを算出する画像計測部と、を備える、計測装置。
  2. 前記変位計測部の計測結果に基づいて、前記画像取得部が合焦状態となるように光学配置を制御する、請求項1に記載の計測装置。
  3. 前記変位計測部の計測結果に基づいて、前記画像取得部による前記画像計測部への入力画像取得のタイミングを制御する、請求項1に記載の計測装置。
  4. 特定の計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、前記画像取得部による取得画像上の前記複数の特徴点間の計測距離との関係と、
    前記特定の計測対象物について画像を取得したときの前記変位計測部による計測結果との関係を表す関連情報を記憶する記憶部をさらに備え、
    未知の計測対象物の前記変位計測部による計測結果と、前記記憶部に記憶された前記関連情報とに基づいて、前記画像計測部により前記未知の計測対象物について取得した画像より前記未知の計測対象物上の2点間の長さを算出する、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の計測装置。
  5. 前記記憶部は、前記特定の計測対象物について、
    前記変位計測部に対する複数の距離において、前記計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、前記画像取得部による取得画像上の前記複数の特徴点間の計測距離との関係と、
    前記特定の計測対象物について画像を取得したときの前記変位計測部による計測結果との関係とを、前記関連情報として記憶する、請求項4に記載の計測装置。
  6. 前記記憶部は、前記特定の計測対象物について、
    前記変位計測部に対する複数の距離において、前記計測対象物上の複数の特徴点についての既知の距離と、前記画像取得部による取得画像上の前記複数の特徴点間の計測距離との関係と、
    前記特定の計測対象物について画像を取得したときの前記変位計測部による計測結果との関連性を表す関数とを、前記関連情報として記憶する、請求項4に記載の計測装置。
  7. 前記画像計測部は、
    未知の計測対象物についての前記画像計測部による取得画像における2点の位置の入力を受付けた場合に、前記関連情報に基づいて、当該未知の計測対象物上の前記2点間の長さを算出する、請求項4〜請求項6のいずれかに記載の計測装置。
  8. 前記画像計測部は、
    前記画像取得部が、前記撮像素子が画像を取得する光の光軸方向においての複数位置について合焦状態となるように光学配置を制御して取得された計測対象物のそれぞれの画像において、合焦画素を抽出し、抽出された合焦画素によって構成される部分画像を生成し、
    前記生成された部分画像を、前記画像取得部が合焦状態となるような光学配置の制御に対応した倍率で変換し、
    前記倍率で変換後の画像を合成することにより、前記画像取得部による取得画像を修正する、請求項4〜請求項7のいずれかに記載の計測装置。
  9. 前記画像取得部は、
    複数の色の照明を独立して照射可能な照射部を含み、
    前記照射部が照射する照明の色ごとに、画像取得部が合焦状態になるように光学配置を制御して、画像を取得し、
    前記照射部が照射する照明の色ごとに取得した画像に対して行なった光学配置の制御に基づいて、当該照射部が照射する照明の色ごとに取得した画像の倍率を変換して、これらの画像を合成することにより画像を生成する、請求項1〜請求項8のいずれかに記載の計測装置。
JP2009061978A 2009-03-13 2009-03-13 計測装置 Active JP5287385B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009061978A JP5287385B2 (ja) 2009-03-13 2009-03-13 計測装置
DE102010000467.7A DE102010000467B4 (de) 2009-03-13 2010-02-18 Messvorrichtung
US12/712,530 US8917900B2 (en) 2009-03-13 2010-02-25 Measurement apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009061978A JP5287385B2 (ja) 2009-03-13 2009-03-13 計測装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010216891A true JP2010216891A (ja) 2010-09-30
JP5287385B2 JP5287385B2 (ja) 2013-09-11

Family

ID=42730734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009061978A Active JP5287385B2 (ja) 2009-03-13 2009-03-13 計測装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8917900B2 (ja)
JP (1) JP5287385B2 (ja)
DE (1) DE102010000467B4 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012154805A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Hamamatsu Photonics Kk 跳躍動作測定装置及び跳躍動作測定方法
JP2015190885A (ja) * 2014-03-28 2015-11-02 三菱電機株式会社 エッジ検出装置
JP2018084509A (ja) * 2016-11-24 2018-05-31 日本電信電話株式会社 画像測量方法、画像測量装置及び画像測量プログラム
WO2019188506A1 (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 日本電気株式会社 情報処理装置、物体計測システム、物体計測方法およびプログラム記憶媒体

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5310680B2 (ja) * 2010-09-10 2013-10-09 オムロン株式会社 変位センサ
US20140098991A1 (en) * 2012-10-10 2014-04-10 PixArt Imaging Incorporation, R.O.C. Game doll recognition system, recognition method and game system using the same
CN104297218B (zh) * 2013-07-15 2016-09-14 中国科学院沈阳自动化研究所 远距离冶金液态金属成分的原位、在线检测装置及方法
JP6309868B2 (ja) * 2014-09-26 2018-04-11 株式会社神戸製鋼所 形状測定装置および形状測定方法
WO2016201592A1 (zh) * 2015-06-15 2016-12-22 爱佩仪光电技术有限公司 基于可控制镜头倾斜的摄像装置的三维快速自动对焦方法
JP6837161B2 (ja) * 2017-12-05 2021-03-03 株式会社Fuji 撮像ユニット及び部品実装機
JP6880513B2 (ja) * 2018-03-13 2021-06-02 オムロン株式会社 光学計測装置及び光学計測方法
JP7013564B2 (ja) * 2018-03-14 2022-01-31 株式会社Fuji 撮像ユニット及び部品実装機
JP7333744B2 (ja) * 2019-12-03 2023-08-25 株式会社ミツトヨ 高さ測定方法および高さ測定装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08178623A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Olympus Optical Co Ltd 光学測定装置
JPH08285539A (ja) * 1995-04-18 1996-11-01 Hitachi Ltd パターン計測方法及びその装置
JPH1019520A (ja) * 1996-07-05 1998-01-23 Fuji Elelctrochem Co Ltd 微小凹部の自動寸法測定方法
JP2002286425A (ja) * 2001-03-23 2002-10-03 Omron Corp 変位センサ
JP2005337935A (ja) * 2004-05-28 2005-12-08 Nikon Corp スキャン測定検査装置
JP2006010693A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Polytec Gmbh 物体の光学的測定を行うための装置及びその装置を用いた測定方法
JP2008249958A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 基準位置計測装置及び方法、並びに描画装置

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4906940A (en) * 1987-08-24 1990-03-06 Science Applications International Corporation Process and apparatus for the automatic detection and extraction of features in images and displays
JP3265668B2 (ja) * 1993-01-13 2002-03-11 株式会社ニコン ベストフォーカス位置の算出方法
JPH06311411A (ja) 1993-03-15 1994-11-04 Toshiba Corp 画像処理装置
JPH09320505A (ja) * 1996-03-29 1997-12-12 Hitachi Ltd 電子線式検査方法及びその装置並びに半導体の製造方法及びその製造ライン
JP3566470B2 (ja) * 1996-09-17 2004-09-15 株式会社日立製作所 パターン検査方法及びその装置
JPH10288508A (ja) * 1997-04-16 1998-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 外観検査装置
US6107637A (en) * 1997-08-11 2000-08-22 Hitachi, Ltd. Electron beam exposure or system inspection or measurement apparatus and its method and height detection apparatus
US6915006B2 (en) * 1998-01-16 2005-07-05 Elwin M. Beaty Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components
JP3961729B2 (ja) * 1999-03-03 2007-08-22 株式会社デンソー 全焦点撮像装置
JP4337999B2 (ja) * 1999-09-14 2009-09-30 ソニー株式会社 焦点位置制御機構及び方法、並びに、半導体ウェハの検査装置及び方法
DE19944516B4 (de) 1999-09-16 2006-08-17 Brainlab Ag Dreidimensionale Formerfassung mit Kamerabildern
JP2002039750A (ja) * 2000-07-19 2002-02-06 Asahi Precision Co Ltd 自動測量システム
US7663670B1 (en) * 2001-02-09 2010-02-16 Digital Imaging Systems Gmbh Methods and systems for embedding camera information in images
KR100406843B1 (ko) * 2001-04-06 2003-11-21 (주) 인텍플러스 색정보를 이용한 실시간 3차원 표면형상 측정방법 및 장치
US7127098B2 (en) * 2001-09-13 2006-10-24 Hitachi, Ltd. Image detection method and its apparatus and defect detection method and its apparatus
US6884552B2 (en) * 2001-11-09 2005-04-26 Kla-Tencor Technologies Corporation Focus masking structures, focus patterns and measurements thereof
JP4070493B2 (ja) * 2002-04-03 2008-04-02 株式会社東芝 X線診断装置および医用画像解析装置
US7310431B2 (en) * 2002-04-10 2007-12-18 Canesta, Inc. Optical methods for remotely measuring objects
US7016525B2 (en) * 2002-05-02 2006-03-21 Mitutoyo Corporation Systems and methods for continuously varying wavelength illumination
JP4178941B2 (ja) * 2002-12-19 2008-11-12 オムロン株式会社 距離検出用の変換テーブルの作成方法および変位センサ
CN101778203B (zh) * 2002-12-27 2012-06-06 株式会社尼康 图像处理装置
WO2005095993A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 The Tokyo Electric Power Company, Incorporated 流体計測システム、流体計測方法及びコンピュータプログラム
JP4002919B2 (ja) * 2004-09-02 2007-11-07 技研トラステム株式会社 移動体高さ判別装置
WO2006059377A1 (ja) * 2004-11-30 2006-06-08 Spansion Llc 半導体装置及びその製造方法並びにフォトマスク
US7483549B2 (en) * 2004-11-30 2009-01-27 Honda Motor Co., Ltd. Vehicle surroundings monitoring apparatus
WO2006105054A2 (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Sarnoff Corporation Method and system for improving video metadata through the use of frame-to-frame correspondences
US7433505B2 (en) * 2005-11-01 2008-10-07 Ben Yoo Method of dental microscopic procedure
US7760928B2 (en) * 2006-10-17 2010-07-20 Applied Materials Israel, Ltd. Focus error correction system and method
US7728961B2 (en) * 2006-10-31 2010-06-01 Mitutoyo Coporation Surface height and focus sensor
WO2008065717A1 (fr) * 2006-11-29 2008-06-05 Fujitsu Limited Système et procédé de détection de piéton
US8189962B2 (en) * 2006-12-19 2012-05-29 Hitachi Kokusai Electric Inc. Image processing apparatus
US7853038B2 (en) * 2007-01-04 2010-12-14 Industrial Technology Research Institute Systems and methods for object dimension estimation
US20090017910A1 (en) * 2007-06-22 2009-01-15 Broadcom Corporation Position and motion tracking of an object
JP4470067B2 (ja) * 2007-08-07 2010-06-02 本田技研工業株式会社 対象物種別判定装置、車両
JP2009061978A (ja) 2007-09-07 2009-03-26 Toyota Motor Corp 車両共有化システム
US7764388B2 (en) * 2007-12-31 2010-07-27 Honeywell International Inc. Autofocus control voltage for indicating package dimensions
JP5103219B2 (ja) * 2008-02-22 2012-12-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン寸法計測方法
US8111938B2 (en) * 2008-12-23 2012-02-07 Mitutoyo Corporation System and method for fast approximate focus

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08178623A (ja) * 1994-12-22 1996-07-12 Olympus Optical Co Ltd 光学測定装置
JPH08285539A (ja) * 1995-04-18 1996-11-01 Hitachi Ltd パターン計測方法及びその装置
JPH1019520A (ja) * 1996-07-05 1998-01-23 Fuji Elelctrochem Co Ltd 微小凹部の自動寸法測定方法
JP2002286425A (ja) * 2001-03-23 2002-10-03 Omron Corp 変位センサ
JP2005337935A (ja) * 2004-05-28 2005-12-08 Nikon Corp スキャン測定検査装置
JP2006010693A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Polytec Gmbh 物体の光学的測定を行うための装置及びその装置を用いた測定方法
JP2008249958A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 基準位置計測装置及び方法、並びに描画装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012154805A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Hamamatsu Photonics Kk 跳躍動作測定装置及び跳躍動作測定方法
JP2015190885A (ja) * 2014-03-28 2015-11-02 三菱電機株式会社 エッジ検出装置
JP2018084509A (ja) * 2016-11-24 2018-05-31 日本電信電話株式会社 画像測量方法、画像測量装置及び画像測量プログラム
WO2019188506A1 (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 日本電気株式会社 情報処理装置、物体計測システム、物体計測方法およびプログラム記憶媒体
JPWO2019188506A1 (ja) * 2018-03-26 2021-03-11 日本電気株式会社 情報処理装置、物体計測システム、物体計測方法、コンピュータプログラムおよび情報提供システム
JP7124865B2 (ja) 2018-03-26 2022-08-24 日本電気株式会社 情報処理装置、物体計測システム、物体計測方法、コンピュータプログラムおよび情報提供システム
US11913771B2 (en) 2018-03-26 2024-02-27 Nec Corporation Information processing device, object measuring system, object measuring method, and program storing medium

Also Published As

Publication number Publication date
US20100232650A1 (en) 2010-09-16
DE102010000467B4 (de) 2016-12-01
US8917900B2 (en) 2014-12-23
JP5287385B2 (ja) 2013-09-11
DE102010000467A1 (de) 2010-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5287385B2 (ja) 計測装置
JP5784435B2 (ja) 画像処理装置、蛍光顕微鏡装置および画像処理プログラム
TW201331547A (zh) 形狀測定裝置、構造物製造系統、形狀測定方法、構造物製造方法、程式及記錄媒體
JP2010532018A (ja) 多色自動焦点装置および方法
KR101921762B1 (ko) 높이 측정 방법 및 높이 측정 장치
JP5081559B2 (ja) 測定装置
JP4538421B2 (ja) 荷電粒子線装置
US10234673B2 (en) Confocal microscope apparatus, stitched image construction method and computer-readable medium
JP7093915B2 (ja) 表面形状測定方法
JP2008170973A (ja) 共焦点レーザ顕微鏡
JP2010019762A (ja) 表面形状測定方法及び表面形状測定装置
JP2008051576A (ja) 形状測定装置および形状測定方法
JP2009288162A (ja) 3次元測定装置
JP2012141233A (ja) 検出装置
WO2014112085A1 (ja) 画像取得装置及び画像取得装置のフォーカス方法
JP6820516B2 (ja) 表面形状測定方法
JP6987097B2 (ja) 制御装置及び制御方法
JP4062100B2 (ja) 形状測定装置
JP2022031956A (ja) 走査範囲決定方法
JP2007286284A (ja) 共焦点走査型顕微鏡システム、及びそれを使用した観察方法
JP2012022135A (ja) 共焦点顕微鏡装置
JP2008046509A (ja) 走査型共焦点レーザ顕微鏡による計測方法及びその制御システム
JP6660774B2 (ja) 高さデータ処理装置、表面形状測定装置、高さデータ補正方法、及びプログラム
JP2019109340A (ja) 画像取得装置及び画像取得方法
JP5226352B2 (ja) 生体観察装置及び生体観察方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120113

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130411

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5287385

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250