JP2010214634A - 薄膜アクチュエータ、液体吐出ヘッド、インクカートリッジ及び画像形成装置 - Google Patents
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 91
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 34
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 85
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 74
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000004151 rapid thermal annealing Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019023 PtO Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- -1 acetate compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001814 effect on stress Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
- B41J2/175—Ink supply systems ; Circuit parts therefor
- B41J2/17503—Ink cartridges
- B41J2/17553—Outer structure
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
- H10N30/2047—Membrane type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
- H10N30/501—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure having a non-rectangular cross-section in a plane parallel to the stacking direction, e.g. polygonal or trapezoidal in side view
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/14258—Multi layer thin film type piezoelectric element
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Abstract
【解決手段】振動板55を変形させて力を発生させる薄膜アクチュエータ1において、振動板55上に下電極11と、第一圧電層12と、中間電極13と、第二圧電層14と、上電極15と、を順次積層したことを特徴とする薄膜アクチュエータ。
【選択図】図1
Description
インクジェット記録装置において使用する液滴吐出装置は、インク滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する液室(吐出室、加圧液室、圧力室、インク流路等とも称される。)と、液室内のインクを吐出するための圧力発生手段で構成されている。
上記のような圧力発生手段としては、圧電素子などの電気機械変換素子を用いて吐出室の壁面を形成している振動板を変形変位させることでインク滴を吐出させるピエゾ型のもの、吐出内に配設した発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いてインクの膜沸騰でバブルを発生させてインク滴を吐出させるバブル型(サーマル型)のものなどがある。更にピエゾ型のものにはd33方向の変形を利用した縦振動型、d31方向の変形を利用した横振動(ベンドモード)型、更には剪断変形を利用したシェアモード型等があるが、最近では半導体プロセスやMEMSの進歩により、Si基板に直接液室及びピエゾ素子を作り込んだ薄膜アクチュエータが考案されている。
また、特許文献2には、薄膜タイプの圧電アクチュエータにおける、圧電体の変位変動やバラツキを抑制するといった課題に対して、圧電体の動作領域を規定するために開口部を有する層間絶縁層を設けて、その開口部内のみに変位可能な圧電体を作製し、開口部以外では変位しない圧電体となるような構成とする技術を開示している。圧電体であるPZT膜としてはスパッタ法による4μm厚の薄膜を使用しており、振動板としては4μm厚のSi膜を使用している。
また、特許文献3には、薄膜タイプの圧電アクチュエータに関するものであって、低駆動電圧、高吐出効率、高密度化を図るために圧電体の厚さ5μm以下で、振動板の短辺幅aを160μm以下にした構成を開示している。
また、特許文献2の発明では、上述の構造を有することにより、不要な静電容量を減少でき、かつ圧電体の動作領域を限定することができるため、圧電体の変位の変動やバラツキをある程度抑制することはできるが、特許文献1の発明と同様に更なる高密度化に際して必要とされる発生力の飛躍的な増大といった課題に対しては解決することができないという問題がある。
また、特許文献3の発明では、上述の構成による圧電アクチュエータであればその発生する力は現状のノズル密度を達成することはできても、更なる高密度化に際して必要とされる発生力の飛躍的な増大といった課題に対しては必ずしも十分ではないという問題がある。
そのため、更なる高密度化を図ろうとすると、振動板の短辺幅が著しく短くなってしまう。例えば600dpiの場合は、短辺幅が30μm程度となり、1200dpiの場合には短辺幅が15μm程度となる。この状況下において所望の発生力を得るには、振動板の厚さが著しく薄い領域(サブミクロン領域)で、かつ、圧電層の膜厚が極端に厚い状態(7μm程度以上)に設定しなければならない。この領域で、圧電層を一層しかもたない圧電アクチュエータを作製すると、振動板の厚さが薄いために歩留まりが低くなり、また、圧電層が厚いために駆動電圧が上昇してしまい(膜特性にも依存するが7μmでの駆動電圧は約70Vにも達する)、実用に耐えるものではなくなってしまう。
なお、本発明の適用範囲は上述した液滴吐出装置(特にインクジェットヘッド)に限定されるものではなく、光学分野においては各種光走査用ミラー(プロジェクター、ヘッドマウントディスプレイ、光書込み用素子(ポリゴンミラー走査系)或いは光通信用光スイッチ、液体搬送では微小流量を搬送、移送に用いるマイクロポンプ、バイオチップ等と非常に広範囲に適用可能である。
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記中間電極の外周縁を前記第一圧電層の外周縁から所定距離離間させた中央部寄りに配置すると共に、前記上部電極の外周縁を前記第二圧電層の外周縁から所定距離離間させた中央部寄りに配置した薄膜アクチュエータを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記下電極を前記第一圧電層により被覆するとともに、前記中間電極を前記第二圧電層により被覆した薄膜アクチュエータを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4の何れか一項記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記振動板の幅Lmと、前記下電極と前記第一圧電層とを含む第一変形層の幅Lp1と、前記中間電極と前記第二圧電層とを含む第二変形層の幅Lp2との関係がLm>Lp1>Lp2であるを特徴とする薄膜アクチュエータを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5の何れか一項記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記上電極と前記下電極とが電気的に接続されており、かつ、前記中間電極が共通電極であり、前記上電極と前記下電極とが信号電極である薄膜アクチュエータを特徴とする。
請求項8に記載の発明は、液滴を吐出する複数のノズル孔と、夫々の前記ノズル孔に連通する加圧液室と、該加圧液室の一壁面を構成する振動板と、を備えて、前記振動板を変形させることにより前記ノズル孔から液滴を吐出する液滴吐出ヘッドであって、前記振動板を変形させる手段として請求項1乃至7何れか一項記載の薄膜アクチュエータ備えた液滴吐出ヘッドを特徴とする。
請求項9に記載の発明は、請求項8記載の液滴吐出ヘッドと、該液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクと、を一体化したインクカートリッジを特徴とする。
請求項10に記載の発明は、請求項9記載の液体吐出ヘッドを備えた画像形成装置を特徴とする。
本発明の第一の実施形態について図1に基づいて説明する。図1は、第一の実施形態に係る薄膜アクチュエータの短辺方向の断面図である。図4、図5に示すX−X’切断線にて切断した断面に相当する。本実施形態に係る薄膜アクチュエータ1は、振動板55上に下電極11と、第一圧電層12と、中間電極13と、第二圧電層14と、上電極15と、を順次積層した構造を有する点に特徴がある。
薄膜アクチュエータ1の作製方法について説明する。
先ずシリコン基板54表面に、下電極11となるTi/Pt多層膜を基板温度200℃で約100nm厚にスパッタ法にて成膜し、通常のフォトリソ−エッチング工程で所定の形状にエッチングして下電極11を形成した。
次に、薄膜アクチュエータ1としてパターニングされた第一圧電層12及び中間電極13、第二圧電層14、及び上電極15を順次積層して多層構造とした。夫々の膜の堆積条件をより具体的にあげれば、第一圧電層12となるPZT膜を基板温度550℃でスパッタ法にて約2μm厚に堆積させ、中間電極13となるPt膜を約80nm成膜し、更にその上に第二圧電層14となるPZT膜を第一圧電層9と同様の条件で約3.5μm厚に堆積させ、更に上電極15となるPt膜を約100nm堆積させた。各層のパターニングは通常のフォトリソ−エッチング工程にて行ったが、より具体的にはエッチングはRIE法(反応性イオンエッチング)或いはICP法(容量性結合プラズマ)で行った。
最後に、シリコン基板54の裏面(薄膜アクチュエータ1の作製されていない側の面)から、所定の厚さにて振動板55となる部分を残すように、シリコン基板54を振動板55の位置までエッチングにて除去して、加圧液室56と振動板55を作製した。なお、加圧液室56と振動板55作成後のシリコン基板54は、インクジェットヘッドにおける液室基板52を構成する(図7参照)。
また、本明細書においては圧電層のなかで隣接する上下電極間の電界の影響を受けて変形する領域、いわば活性になる領域を変形層と呼ぶ。特に薄膜アクチュエータ1を構成する下電極11及び第一圧電層12を第一変形層16と呼び、中間電極13及び第二圧電層14を第二変形層17と呼ぶ。
ここで、薄膜アクチュエータの作製方法に関してより具体的に記載する。ここに挙げた電極材料は一例に過ぎず、特にこれらに特に限定されるものではない。例えば、下電極11と上電極15の電極材料としては、圧電素子であるPZT材料との親和性が高く耐熱性がある材料、例えばIr、Au、Ru、Pt、Ta、PtO2、TaO4、IrO2等が挙げられる。
ゾル−ゲル法を用いて圧電体薄膜を成膜する場合に関してより具体的には述べる。まず、チタン、ジルコニウム、鉛などの金属のメトキシド、エトキシド、プロポキシドもしくはブトキシドなどのアルコキシドまたはアセテート化合物を、酸等で加水分解してゾルを調整した。次いで、作製したゾルを下電極11の上に塗布する。塗布は、スピンコート、ディップコートなどの方法を用いた。塗布後、これを一定温度下にて一定時間乾燥させゾルの溶媒を蒸発させる。乾燥温度は150℃以上200℃以下であることが好ましく、時間は5分以上15分以下が好ましい。さらに大気雰囲気下において一定温度にて一定時間仮焼成する。具体的には基板全体をホットプレートに密着させ、ホットプレートからの熱が基板全体に熱伝導するようにして加熱する方法が好ましい。仮焼成温度は300℃以上500℃以下であることが好ましく、時間は5分以上30分以下が好ましい。この操作により金属に配位している有機物が金属から解離し酸化燃焼反応を生じ大気中に飛散する。次にこれを焼成して結晶化させることにより、圧電層が形成される。焼成には、RTA(Rapid Thermal Annealing)装置や拡散炉などを用いた。焼成温度は550℃以上750℃以下であることが好ましい。焼成時間は60分以下であることが好ましい。
本発明の第二の実施形態について説明する。図2は、本実施形態に係る薄膜アクチュエータの短辺方向の断面図である。なお、各電極の短辺の一方の端部には配線が設けられている。第一の実施形態と同一の部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
本実施形態に係る静電アクチュエータ2の特徴は、中間電極23より第一圧電層22が、配線が設けられている辺を除くいずれの辺においても長く、上電極25より第二圧電層24を、配線が設けられている辺を除くいずれの辺においても長くしていることにある。なお、下電極21と第一圧電層22は、配線が設けられている辺を除くいずれの辺においても略同一である。また、中間電極23と第二圧電層24は、配線が設けられている辺を除くいずれの辺においても略同一である。言い換えれば、圧電層上に成膜する電極層の配線が設けられている辺を除く外周縁を、該圧電層を構成する薄膜の外周縁から所定距離離間させた中央部寄りに配置して、電極層の端縁を該電極層よりも下層にある電極層の端縁から離間させた点に特徴がある。具体的には、第一圧電層22上に成膜する中間電極23の外周縁を、第一圧電層22の外周縁から所定距離離間させることにより、第一圧電層22の端縁と中間電極23の端縁とに段差を設けている。このように配置することにより、下電極21の端縁と中間電極23の端縁とを離間距離を長くすることができる。また、第二圧電層24と上電極25も同様に構成することで、中間電極23の端縁と上電極25の端縁とを離間距離を長くすることができる。
これに対して本実施形態においては、圧電層上に成膜する電極層の外周縁を、該圧電層を構成する薄膜外周縁から離間させて中央部寄りに配置したので、夫々の電極間のGap長を長くすることができ、表面リーク及び大気の絶縁破壊を防ぐことができる。なお、本実施形態における静電アクチュエータ2の作製プロセスは、第一の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
本発明の第三の実施形態について説明する。図3は、本実施形態に係る薄膜アクチュエータの短辺方向の断面図である。上述の実施形態と同一の部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
本実施形態に係る静電アクチュエータ3は、上記の実施例2の構成よりもさらに、駆動時の電気的な故障を低減できる構成を与えるものである。具体的には、下電極31が第一圧電層32により被覆され、中間電極33が第二圧電層34により被覆されている構造とした点が特徴的である。この構成とすることで、電極を被覆した部分の圧電層が、電極に対する保護膜として機能して、駆動に際して夫々の電極間のGapに生じるであろう表面リーク及び大気の絶縁破壊を有効に防止することができる。
なお、本実施形態における静電アクチュエータ3の作製プロセスは、第一の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
本発明の第四の実施形態について図4に基づいて説明する。図4は第四乃至第七の実施形態に係る薄膜アクチュエータについて説明する図であり、(a)は平面図、(b)はX−X’断面図である。なお、図面の煩雑さを避けるため(a)には第一圧電層22、第二圧電層24、保護膜41を図示していない。上述の実施形態と同一の部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
本実施形態における薄膜アクチュエータ4は、(b)に示すように薄膜アクチュエータの素子端面、すなわち薄膜アクチュエータ4を構成する各薄膜の端縁を、絶縁体からなる保護膜41で被服した点が特徴的である。
一般的に圧電体は、大気中の成分(主には水分等)に接すると除々にではあるが変化を起こし、特性が変化することがある。この現象は電圧が印加させることで促進され、特にPt電極を使用した場合はその触媒効果によって発生する水素で圧電体材料が変化をきたす。本実施形態においては、この材料変化を防ぐために薄膜アクチュエータ4の端面を保護膜41で被覆したものである。保護膜の材料としてはSi酸化膜、Si窒化膜、Si酸窒化膜等が使用可能である。成膜はスパッタ法で行い、パターニングはドライ法で行った。
なお、保護膜41以外の本実施形態における薄膜アクチュエータ4の作製プロセスは、第一の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
本発明の第五の実施形態について図4に基づいて説明する。
本実施形態においては、振動板55の幅Lmと第一変形層26の幅Lp1と第二変形層27の幅Lp2との関係がLm>Lp1>Lp2となるように薄膜アクチュエータ4を構成した点に特徴がある。このような構成を有することにより、振動板55の変形量を大きくすることができる。
すなわち、四辺が固定されて自由端を有さない振動板55において、第一変形層26の幅Lp1よりも振動板55の幅Lmが小さい場合、すなわち第一変形層26が振動板55の外側の基板の厚い部分にも堆積している場合は、厚い部分が固定端になるために第一圧電層22が変形しても、その変形が厚い部分で拘束され振動板55が有効に変位しない。また、第二変形層27の幅Lp2のほうが第一変形層26の幅Lp1よりも長いと、電気的な絶縁が取り難くなることと、第二変形層27以下の変形を阻害する可能性があり、薄膜アクチュエータの動作に支障をきたすことになる。
なお、薄膜アクチュエータ3(図3参照)の変形層の幅Lpは、電極を被覆している部分の圧電層を含む概念である。
本発明の第六の実施形態について図4に基づいて説明する。薄膜アクチュエータの動作に関し、その駆動配線及び駆動信号の与え方に関すものである。なお、便宜上、第四の実施形態に係る薄膜アクチュエータ4の例により説明するが、本実施形態は、第一乃至第五の実施形態に係る薄膜アクチュエータに適用可能である。
本発明における薄膜アクチュエータ4は、下電極21と中間電極23と上電極25の少なくとも3本の電極が必要であり、そのままの構造では夫々を駆動回路と接続するにはそれに対応して3本の電気配線(引出し配線)が必要になってくる。インクジェットヘッドは薄膜アクチュエータの多数ビット列で構成されるため、引出し配線の数が多いと、層間絶縁層を設けて配線しても、配線どうしの交差点が増加し、配線ショートの確立が一挙に増加して歩留まりが著しく悪くなる。またパターンが複雑になり配線部の面積が大きくなり、チップ面積が増加して、Siウエハからのチップ取り数が少なくなってコストが高くなる。本実施形態は以上のことに鑑みてなされたものである。
図4(b)に示すように、下電極21と上電極25は上下電極接続部42で電気的に接続されており、そこから1本の上下電極配線43で引出される、一方、中間電極23はそのまま中間電極配線44で引出される。この構造とすることで上述したように、電極配線の数を少なくでき素子の歩留まりとチップ取り数を向上でき、引いてはより低コスト化がはかれる。
一方、駆動信号の与え方としては、中間電極23を共通電極として、下電極21と上電極25とを信号電極にする場合と、これとは対称的に中間電極23を信号電極として、下電極21と上電極25とを共通電極にする場合とあるが、どちらでも実用に供せられる。
本発明の第七の実施形態について図5に基づいて説明する。図5は、本発明の薄膜アクチュエータが適用されるインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)の一部を断面にて示した分解斜視図である。本実施形態においては、本発明の薄膜アクチュエータをインクジェットヘッドに搭載した点に特徴がある。なお、便宜上、第四の実施形態に係る薄膜アクチュエータ4の例により説明するが、本実施形態は、第一乃至第六の実施形態に係る薄膜アクチュエータに適用可能である。以下ではインク液滴を基板の面部に設けたノズル孔から吐出させるサイドシューター方式の例により説明する。
本実施形態に係るインクジェットヘッド50は、インクを吐出するノズル孔60を有するノズル基板51と、吐出室、振動板、圧電素子を形成した液室基板52と圧電素子保護空間61を配した保護基板53の3枚の基板を重ねた積層構造となっている。
液室基板52はシリコン基板54上に積層膜により振動板55が形成されている(図4参照)。本実施形態における振動板55はSOI基板を用いてシリコン基板54の片側面にシリコン酸化膜、シリコン活性層、シリコン酸化膜、及び圧電素子の下電極となるTi/Pt膜を堆積させたものである。更にその上に前述の実施形態において説明してきたような構成と工程で本発明に係る薄膜アクチュエータ4を作製し、加圧液室56、振動板55、流体抵抗57(供給路)、共通液室58を形成した。
ノズル基板51はニッケル高速電鋳法を用いて厚さ20ミクロンに形成したニッケル基板であり、液室基板52の面部に加圧液室56と連通するようにそれぞれノズル孔60を有する。
保護基板53は圧電素子の保護及び変位を妨げない為の保護空間61を形成した基板である。
前処理として、構造完成後に圧電材の分極処理(ポーリング)を行なう。上電極25及び中間電極23を短絡させて下電極21との間に10Vから30V迄電圧を徐々に上昇させ約10分間印加する。更に上電極25と中間電極23及び下電極21を短絡させた間に同様に電圧を印加する。これにより第一圧電層22及び第二圧電層24の分極方向を揃えることができる。このように前処理を行なったインクジェットヘッド50に対しインク充填を行なう。インク供給孔62から共通液室58及び流体抵抗57を経由して各加圧液室56内にインクが供給される。加圧液室56がインクにより満たされた状態で下電極21及び中間電極23間と中間電極23及び上電極25間に同時に20Vのパルス電位を加える。これにより第一圧電層22及び第二圧電層24が横振動モードで変形(縮み)し、圧電素子と密着している振動板55の全体が加圧液室56側に凸形状に変形する。これにより加圧液室56の体積が減少し加圧液室56内の圧力が急激に上昇し、ノズル孔60よりインク液滴を記録紙Pに向けて吐出する。パルス電圧を連続的に印加し繰り返すことによりインクを連続的に吐出することが出来る。
本実施形態のインクジェットヘッドは、本発明の薄膜アクチュエータを備えたので、高密度で、駆動電圧が低く、小型なインクジェットヘッドを提供することができる。
次に、本発明に係るインクカートリッジについて図6を参照して説明する。
このインクカートリッジ70は、ノズル孔60等を有する上記各実施形態のいずれかのインクジェットヘッド50と、このインクジェットヘッド50に対してインクを供給するインクタンク71とを一体化したものである。
このようにインクタンクを一体型としたインクジェットヘッドの場合、インクジェットヘッドの低コスト化、信頼性向上を図ることができ、ただちにインクカートリッジ全体の低コスト化、信頼性向上につながるので、上述したように低コスト化、高信頼性化、製造不良低減することで、インクカートリッジの歩留まり、信頼性が向上し、ヘッド一体型インクカートリッジの低コスト化を図ることができる。
次に、本発明に係るインクジェットヘッドを搭載したインクジェット記録装置の一例について図7及び図8を参照して説明する。なお、図7はインクジェット記録装置の一部透視斜視図であり、図8はインクジェット記録装置の内部構造を示す概略図である。
このインクジェット記録装置80は、装置本体81の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ93、キャリッジ93に搭載した本発明を実施したインクジェットヘッド50からなる記録ヘッド94、記録ヘッド94へインクを供給するインクカートリッジ95等で構成される印字機構部82等を収納し、装置本体81の下方部には前方側から多数枚の用紙Pを積載可能な給紙カセット84を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙Pを手差しで給紙するための手差しトレイ85を開倒することができ、給紙カセット84或いは手差しトレイ85から給送される用紙Pを取り込み、印字機構部82によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ86に排紙する。
インクカートリッジ95は、上方に大気と連通する大気口、下方にはインクジェットヘッド50へインクを供給する供給口、内部にインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力によりインクジェットヘッド50へ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。また、記録ヘッド94としてここでは各色の記録ヘッド94を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズル孔60を有する1個の記録ヘッドでもよい。
ここで、キャリッジ93は後方側(用紙搬送方向下流側)を主ガイドロッド91に摺動自在に挿通し、用紙搬送方向上流側を従ガイドロッド92に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ93を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ97で回転駆動される駆動プーリ98と従動プーリ99との間にタイミングベルト100を張装し、このタイミングベルト100をキャリッジ93に固定しており、主走査モータ97の正逆回転によりキャリッジ93が往復駆動される。
そして、キャリッジ93の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ104から送り出された用紙Pを記録ヘッド94の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材108を設けている。この印写受け部材108の用紙搬送方向下流側には、用紙Pを排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ111、拍車112を設け、さらに用紙Pを排紙トレイ86に送り出す排紙ローラ113及び拍車114と、排紙経路を形成するガイド部材115、116とを配設している。
記録時には、キャリッジ93を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド94を駆動することにより、停止している用紙Pにインクを吐出して1行分を記録し、用紙Pを所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙Pの後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙Pを排紙する。
吐出不良が発生した場合等には、キャッピング手段で記録ヘッド94のノズル孔60を密封し、チューブを通して吸引手段で吐出口からインクとともに気泡等を吸い出し、吐出口面に付着したインクやゴミ等はクリーニング手段により除去され吐出不良が回復される。また、吸引されたインクは、本体下部に設置された廃インク溜(不図示)に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
このように、このインクジェット記録装置においては本発明を実施したインクジェットヘッドを搭載しているので、振動板駆動不良によるインク滴吐出不良がなく、安定したインク滴吐出特性が得られて、画像品質が向上する。
Claims (10)
- 振動板を変形させて力を発生させる薄膜アクチュエータにおいて、前記振動板上に下電極と、第一圧電層と、中間電極と、第二圧電層と、上電極と、を順次積層した構成とすることを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記中間電極の外周縁を前記第一圧電層の外周縁から所定距離離間させた中央部寄りに配置すると共に、前記上部電極の外周縁を前記第二圧電層の外周縁から所定距離離間させた中央部寄りに配置したことを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1又は2記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記下電極を前記第一圧電層により被覆するとともに、前記中間電極を前記第二圧電層により被覆したことを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1又は2記載の前記薄膜アクチュエータにおいて、該薄膜アクチュエータを構成する前記下電極と前記第一圧電層と前記中間電極と前記第二圧電層と前記上電極の端面を、保護膜で被覆したことを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1乃至4の何れか一項記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記振動板の幅Lmと、前記下電極と前記第一圧電層とを含む第一変形層の幅Lp1と、前記中間電極と前記第二圧電層とを含む第二変形層の幅Lp2との関係がLm>Lp1>Lp2であることを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1乃至5の何れか一項記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記上電極と前記下電極とが電気的に接続されており、かつ、前記中間電極が共通電極であり、前記上電極と前記下電極とが信号電極であることを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 請求項1乃至5の何れか一項記載の薄膜アクチュエータにおいて、前記上電極と前記下電極とが電気的に接続されており、かつ、前記中間電極が信号電極であり、前記上電極と前記下電極とが共通電極であることを特徴とする薄膜アクチュエータ。
- 液滴を吐出する複数のノズル孔と、夫々の前記ノズル孔に連通する加圧液室と、該加圧液室の一壁面を構成する振動板と、を備えて、前記振動板を変形させることにより前記ノズル孔から液滴を吐出する液滴吐出ヘッドであって、前記振動板を変形させる手段として請求項1乃至7何れか一項記載の薄膜アクチュエータ備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項8記載の液滴吐出ヘッドと、該液滴吐出ヘッドにインクを供給するインクタンクと、を一体化したことを特徴とするインクカートリッジ。
- 請求項9記載のインクカートリッジを備えたことを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009061283A JP2010214634A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 薄膜アクチュエータ、液体吐出ヘッド、インクカートリッジ及び画像形成装置 |
US12/723,064 US20100231659A1 (en) | 2009-03-13 | 2010-03-12 | Thin-film actuator, liquid ejection head, ink cartridge, and image forming apparatus |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009061283A JP2010214634A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 薄膜アクチュエータ、液体吐出ヘッド、インクカートリッジ及び画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010214634A true JP2010214634A (ja) | 2010-09-30 |
Family
ID=42730339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009061283A Pending JP2010214634A (ja) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 薄膜アクチュエータ、液体吐出ヘッド、インクカートリッジ及び画像形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20100231659A1 (ja) |
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JP2020168747A (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-15 | ブラザー工業株式会社 | 圧電アクチュエータ及び液体吐出装置 |
US11273641B2 (en) | 2019-04-01 | 2022-03-15 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Piezoelectric actuator and liquid ejection apparatus |
US11522119B2 (en) | 2019-04-01 | 2022-12-06 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Piezoelectric actuator |
JP7275769B2 (ja) | 2019-04-01 | 2023-05-18 | ブラザー工業株式会社 | 圧電アクチュエータ及び液体吐出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130050353A1 (en) | 2013-02-28 |
US8585188B2 (en) | 2013-11-19 |
US20100231659A1 (en) | 2010-09-16 |
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