JP2010199623A - 薄膜電子部品及び薄膜電子部品の製造方法 - Google Patents
薄膜電子部品及び薄膜電子部品の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る薄膜電子部品は、基材10と、基材10の一方の主面上に形成されると共に第1の開口部14aにより第1の主要部21と第1のアイランド部20とに分離された第1の導電層14と、第1の主要部21上を覆うと共に第1の開口部14aを充填する誘電体層16と、誘電体層16の少なくとも一部を覆うと共に第1の導電層14の第1のアイランド部20と接する第2の導電層23と、第1の導電層14の第1のアイランド部20と第2の導電層23とが接触する領域において第1のアイランド部20と第2の導電層23とを貫通する第1の開口50と、基材10を貫通して第1の開口50に連通する第1の貫通孔52と、を備えている。
【選択図】図2
Description
・レーザ機種:ESI社製UV LASER μ VIA DRILL model5320
・光源:UV−YAG
・加工方式:スパイラル法(開口の中心から最外周まで螺旋状にレーザを照射する)
・レーザ出力:2.8W
・ショット数:100ショット
Claims (4)
- 基材と、
基材の一方の主面上に形成されると共に第1の開口部により第1の主要部と第1のアイランド部とに分離された第1の導電層と、
前記第1の主要部上を覆うと共に前記第1の開口部を充填する誘電体層と、
前記誘電体層の少なくとも一部を覆うと共に前記第1の導電層の前記第1のアイランド部と接する第2の導電層と、
前記第1の導電層の第1のアイランド部と前記第2の導電層とが接触する領域において前記第1のアイランド部と前記第2の導電層とを貫通する第1の開口と、
前記基材を貫通して前記第1の開口に連通する第1の貫通孔と、
を備える薄膜電子部品。 - 基材と、
基材の一方の主面上に形成されると共に第1の開口部により第1の主要部と第1のアイランド部とに分離された第1の導電層と、
前記第1の主要部上を覆うと共に前記第1の開口部を充填すると共に、第3の開口部を有する誘電体層と、
前記誘電体層の少なくとも一部を覆い、第2の開口部によって、前記第1のアイランド部と接する第2の主要部と、前記第1の主要部上に設けられて前記第3の開口部を充填することで前記第1の導電層の前記第1の主要部と接する第2のアイランド部と、に分離された第2の導電層と、
前記第1の導電層の前記第1のアイランド部と前記第2の導電層の前記第2の主要部とが接する領域において前記第1のアイランド部と前記第2の主要部とを貫通する第1の開口と、
前記第1の導電層の前記第1の主要部と前記第2の導電層の前記第2のアイランド部とが接する領域において前記第1の導電層の前記第1の主要部と前記第2の導電層の前記第2のアイランド部とを貫通する第2の開口と、
前記基材を貫通して前記第1の開口に連通する第1の貫通孔と、
前記基材を貫通して前記第2の開口に連通する第2の貫通孔と、
を備える薄膜電子部品。 - 基材の一方の主面上に第1の導電層を設ける工程と、
前記第1の導電層に第1の開口部を設けることにより、前記第1の導電層を主要部とアイランド部とに分離する工程と、
前記主要部上を覆うと共に前記第1の開口部を充填する誘電体層を設ける工程と、
前記誘電体層の少なくとも一部を覆うと共に前記第1の導電層の前記アイランド部と接するように第2の導電層を設ける工程と、
前記第2の導電層と前記第1の導電層の前記アイランド部とが接触する領域の前記第1の導電層及び前記第2の導電層を貫通する第1の開口を設ける工程と、
前記基材を貫通して前記第1の開口に連通する第1の貫通孔を形成する工程と、
を含む薄膜電子部品の製造方法。 - 基材の一方の主面上に第1の導電層を設ける工程と、
前記第1の導電層に第1の開口部を設けることにより、前記第1の導電層を主要部とアイランド部とに分離する工程と、
前記第1の主要部上を覆うと共に前記第1の開口部を充填する誘電体層を設ける工程と、
前記第1の主要部上の前記誘電体層に第3の開口部を設ける工程と、
前記誘電体層の少なくとも一部を覆うと共に第3の開口部を充填する第2の導電層を設ける工程と、
前記第2の導電層に第2の開口部を設けることにより、前記第1のアイランド部と接する第2の主要部と、前記第1の主要部上に設けられて前記第3の開口部を充填すると共に前記第1の導電層の前記第1の主要部と接する第2のアイランド部とに分離する工程と、
前記第1の導電層の前記第1のアイランド部と前記第2の導電層の前記第2の主要部とが接する領域において前記第1のアイランド部と前記第2の主要部とを貫通する第1の開口を設ける工程と、
前記第1の導電層の前記第1の主要部と前記第2の導電層の前記第2のアイランド部とが接する領域において前記第1の主要部と前記第2のアイランド部とを貫通する第2の開口を設ける工程と、
前記基材を貫通して前記第1の開口に連通する第1の貫通孔を形成する工程と、
前記基材を貫通して前記第2の開口に連通する第2の貫通孔を形成する工程と、
を含む薄膜電子部品の製造方法。
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2010
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