JP2010186825A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】トッププレート5の円柱体6に形成した貫通穴7の上下両開口部をマイクロ波透過窓8と下蓋13とで閉塞させることでプラズマ生成室Sが区画形成される。この下蓋13をトッププレート5に締結固定するとき、下蓋13とトッププレート5の連結部分に、緩衝用シート18を介在させて締結固定し、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接に接触しないようにする。
【選択図】図1
Description
請求項5に記載の発明によれば、フッ素樹脂製の緩衝用シートは、耐熱性及び低摩擦性を有し形成部材が膨張・収縮したとき、摩耗しにくく、プラズマ発光熱によって変形・変質することはない。
図1は、プラズマ処理装置としてのプラズマアッシング装置1の概略断面図を示す。プラズマアッシング装置1のチャンバ2は、全体形状が直方体をなし、アルミ(Al)製で形成されている。チャンバ2の内底面2aには、脚部3を介してステージ4が配置固定されている。ステージ4は、その上面に加工対象物としての半導体基板Wを載置する載置面4aが形成されている。
なお、この下蓋13をトッププレート5に締結固定するとき、本実施形態では、下蓋13とトッププレート5の間に、図2に示すように、緩衝用シート18を介在させて締結固定している。緩衝用シート18は、環状の形成されたフッ素樹脂のポリテトラフルオロエチレン(PTFE:テフロン(登録商標))製のシートである。緩衝用シート18は、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接に接触しないようにするためのシートであって、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接擦れて両面15a,10aが摩耗するのを防止するようになっている。
(1)本実施形態によれば、下蓋13をトッププレート5に連結固定する際に、緩衝用シート18を介在させて連結固定させた。つまり、緩衝用シート18にて、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接に接触しないようにした。従って、プラズマの発光熱によってトッププレート5と下蓋13がそれぞれ膨張・収縮しても、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接擦れて両面15a,10aが摩耗するのが防止される。
尚、本実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・上記実施形態では、マイクロ波透過窓8を窒化アルミ(AlN)で形成したが、これ以外の誘電体材質で形成してもよい。
・上記実施形態では、緩衝用シート18をTPFE(テフロン:登録商標)にて形成したが、これに限定されるものではなく、耐熱性及び低摩擦性に優れた材質のものであればどんなシートでもよい。
Claims (5)
- 加工対象物を載置するステージを収容したチャンバに設けたプラズマ生成室に、マイクロ波及び反応ガスを導入して前記プラズマ生成室でプラズマを生成し、その生成したプラズマを前記加工対象物に晒してプラズマ処理をするようにしたプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ生成室を形成する異なる形成部材同士の連結部分に、緩衝シートを介在させて、前記異なる形成部材同士を連結したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマ生成室は、チャンバのトッププレートに貫通穴を形成し、前記貫通穴の上側開口部を、前記マイクロ波を導入するマイクロ波透過窓にて閉塞するとともに、前記貫通穴の下側開口部を、導出穴を有した下蓋にて閉塞することによって形成され、
前記形成部材は、少なくとも前記トッププレートと前記下蓋であって、前記トッププレートと前記下蓋の連結部分の間に、前記緩衝シートを介在させたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記形成部材は、前記マイクロ波透過窓を含み、前記トッププレートと前記マイクロ波透過窓の連結部分の間に、前記緩衝シートを介在させたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置において、
前記緩衝シートは、耐熱性で前記プラズマ生成室を形成する前記各形成部材より柔軟で弾性を有したシートであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項4に記載のプラズマ処理装置において、
前記緩衝シートは、フッ素樹脂製のシートであることを特徴とするプラズマ処理装置。
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