JP5075854B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5075854B2 JP5075854B2 JP2009028884A JP2009028884A JP5075854B2 JP 5075854 B2 JP5075854 B2 JP 5075854B2 JP 2009028884 A JP2009028884 A JP 2009028884A JP 2009028884 A JP2009028884 A JP 2009028884A JP 5075854 B2 JP5075854 B2 JP 5075854B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- lower lid
- hole
- top plate
- generation chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
請求項2に記載の発明によれば、フッ素樹脂製の緩衝用シートは、耐熱性及び低摩擦性を有し形成部材が膨張・収縮したとき、摩耗しにくく、プラズマ発光熱によって変形・変質することはない。
図1は、プラズマ処理装置としてのプラズマアッシング装置1の概略断面図を示す。プラズマアッシング装置1のチャンバ2は、全体形状が直方体をなし、アルミ(Al)製で形成されている。チャンバ2の内底面2aには、脚部3を介してステージ4が配置固定されている。ステージ4は、その上面に加工対象物としての半導体基板Wを載置する載置面4aが形成されている。
なお、この下蓋13をトッププレート5に締結固定するとき、本実施形態では、下蓋13とトッププレート5の間に、図2に示すように、緩衝用シート18を介在させて締結固定している。緩衝用シート18は、環状の形成されたフッ素樹脂のポリテトラフルオロエチレン(PTFE:テフロン(登録商標))製のシートである。緩衝用シート18は、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接に接触しないようにするためのシートであって、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接擦れて両面15a,10aが摩耗するのを防止するようになっている。
(1)本実施形態によれば、下蓋13をトッププレート5に連結固定する際に、緩衝用シート18を介在させて連結固定させた。つまり、緩衝用シート18にて、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接に接触しないようにした。従って、プラズマの発光熱によってトッププレート5と下蓋13がそれぞれ膨張・収縮しても、フランジ部15の上面15aと嵌合凹部10の奥面10aが直接擦れて両面15a,10aが摩耗するのが防止される。
尚、本実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・上記実施形態では、マイクロ波透過窓8を窒化アルミ(AlN)で形成したが、これ以外の誘電体材質で形成してもよい。
・上記実施形態では、緩衝用シート18をTPFE(テフロン:登録商標)にて形成したが、これに限定されるものではなく、耐熱性及び低摩擦性に優れた材質のものであればどんなシートでもよい。
Claims (2)
- 加工対象物を載置するステージを収容したチャンバに設けたプラズマ生成室に、マイクロ波及び反応ガスを導入して前記プラズマ生成室でプラズマを生成し、その生成したプラズマを前記加工対象物に晒してプラズマ処理をするようにしたプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ生成室は、チャンバのトッププレートに貫通穴を形成し、前記貫通穴の上側開口部を、前記マイクロ波を導入するマイクロ波透過窓にて閉塞するとともに、前記貫通穴の下側開口部を、導出穴を有した下蓋にて閉塞することによって形成され、
前記下蓋は、前記導出穴が形成された下蓋本体と、該下蓋本体の外周面に延出形成されたフランジ部とを備え、
前記フランジ部は、前記トッププレート及び前記下蓋に比べて柔軟で弾性を有する緩衝シートを介して前記トッププレートに締結固定されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記緩衝シートは、フッ素樹脂製のシートであることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009028884A JP5075854B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009028884A JP5075854B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010186825A JP2010186825A (ja) | 2010-08-26 |
JP5075854B2 true JP5075854B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=42767316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009028884A Active JP5075854B2 (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5075854B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09153481A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2000286237A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-13 | Rohm Co Ltd | 半導体基板用プラズマ表面処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造 |
JP4537032B2 (ja) * | 2003-10-14 | 2010-09-01 | 独立行政法人科学技術振興機構 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP2006012963A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Canon Inc | マイクロ波プラズマ処理装置 |
JP2006165424A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Micro Denshi Kk | プラズマ発生装置のoリング構造 |
JP2008305736A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の使用方法およびプラズマ処理装置のクリーニング方法 |
-
2009
- 2009-02-10 JP JP2009028884A patent/JP5075854B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010186825A (ja) | 2010-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4563729B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5955062B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR101933077B1 (ko) | 포커스 링 및 이 포커스 링을 구비하는 기판 처리 장치 | |
JP2010258461A (ja) | プラズマ処理装置、およびプラズマ処理装置用の天板 | |
US20040069459A1 (en) | Cooling device, electronic apparatus and acoustic apparatus, and method for producing the cooling device | |
TWI266597B (en) | Electronic apparatus capable of dissipating heat uniformly | |
JP5075854B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4549749B2 (ja) | シール構造体 | |
US10405468B2 (en) | Shield case and electronic device | |
JP2007049053A (ja) | 伝熱シート | |
JP2010251064A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP2006203018A (ja) | 電子機器における表面温度分布の調節方法 | |
JP6883953B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 | |
JPWO2015029090A1 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2020096145A (ja) | 電子機器装置 | |
JP2019004012A (ja) | 熱電モジュール | |
JP5780928B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2011035161A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP3398666B2 (ja) | 電磁波導波管及びその結合構造 | |
JP4999441B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2004328004A (ja) | プラズマ処理装置 | |
CN111524775B (zh) | 一种等离子处理器以及用于等离子处理器的上电极组件 | |
JP2007165687A (ja) | 熱伝達体とそれを用いた電子機器 | |
KR101981549B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR20080060426A (ko) | 리모트 플라즈마 애싱 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110818 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120529 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120706 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120731 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120827 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5075854 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |